JPS61161782A - 半導体レ−ザ−の温度制御方法 - Google Patents

半導体レ−ザ−の温度制御方法

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JPS61161782A
JPS61161782A JP247585A JP247585A JPS61161782A JP S61161782 A JPS61161782 A JP S61161782A JP 247585 A JP247585 A JP 247585A JP 247585 A JP247585 A JP 247585A JP S61161782 A JPS61161782 A JP S61161782A
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JP
Japan
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temperature
semiconductor laser
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JP247585A
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Isamu Shibata
柴田 勇
Kozo Sudo
浩三 須藤
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/024Arrangements for thermal management
    • H01S5/02407Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling
    • H01S5/02415Active cooling, e.g. the laser temperature is controlled by a thermo-electric cooler or water cooling by using a thermo-electric cooler [TEC], e.g. Peltier element
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/06Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
    • H01S5/068Stabilisation of laser output parameters
    • H01S5/06808Stabilisation of laser output parameters by monitoring the electrical laser parameters, e.g. voltage or current

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  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) この発明は、半導体レーザーの温度制御方法に関する。
(従来技術) 半導体レーザーは、小型でハンディかつ安価なレーザー
光源として知られ、近時、光走査装置や、グイデオディ
スクシステム、光通信装置等の光源としてひろく利用さ
れつつある。
ところで、良く知られているように、半導体レーザーか
ら放射されるレーザー光は、半導体レーザーの温度が変
化すると、波長が変化する。このような波長変化は、種
々の問題をひきおこす。1例として、矛2図に示す如き
光プリンターの場合ケとりあげて、この問題のひとつを
具体的に説明して見る。
矛2図において、符号10は半導体レーザー、符号12
はコリメートレンズ、符号14はシリンドリカルレンズ
、符号1(5,18,22は平面鏡、符号20はホロス
キャナー1.符号24はfθ レンズ、符号26.28
は平面鏡、符号50はシリンドリカルレンズ、符号62
は光導電性の感光体、符号64は、ビーム位置検出素子
を、それぞh示している。
ホロスキャナー20は、ホロディスク20Aとモーター
20Bとにより構成されている。ホaディスク20Aは
、円板状であって、モーター20Bの軸に固装されて、
矢印方向へ、モーター208に↓りて回転駆動されるよ
うになっている。
ホロディスク20Aの透明な円形基板の片面には、同一
形状の複数の回折格子200が、円環状に配列形成され
ている。
回折格子200は、直線状回折格子であって、相互に光
学的に等価であり、ホログラムとして形成されている。
さて、半導体レーザー10かも放射されるレーザー光は
、コリメートレンズ12Vcより平行光束化され、7リ
ンドリカルレンズ14、平面*16.18を介して、ホ
ロディスク20A tv回折格子20DK入射する。こ
れにXりで、回折ビームが発生する。ホロディスク20
Aが回転すると、回折ビームは偏向する。入射レーザー
光に対する回折格子200の、格子方向が変化するため
である。このように偏向される回折ビームを、偏向レー
ザービームと称する。
回折ビームは、平面鏡22、fθ レンズ24、平面勇
26,2B、シリンドリカルレンズ60ケ介して、ベル
ト状の感光体62上に到り、fθ レンズ24、シリン
ドリカルレンズ1a、30の結嗜作用により、感光体5
2上にスポット状に集束する。ホロディスク20Aの回
転に伴い偏向レーザービームによる感光体上のスポット
は、感光体52上を直線的に変位し、レーザー光の入射
する回折格子が切換るたび。
に、同一の変位、すなわち光走査が繰返される。
矛2図において、直線56は、光走査における上記スポ
ットの軌跡を示し、この直線56ケ、主走査線という。
また、感光体62上で、主走査線66と直交する方向?
副走査方向と称する。
感光体32は回動する。感光体32の局面は均一に帯電
されたのちに、光走査部に到り、偏向レーザービームに
より光走査される。このとき、記録すべき画@に対応す
る画像信号で、半導体レーザー100発光強度を変調す
れば、感光体32には、上記画像に応する静電潜虜が形
成される。従って。
この靜′I1m@を税源し、得られる可視1を紙等の記
録シートに転写・定着すれば、所望の記録画(象を得る
ことができる。
このような光プリンターにおいて、半導体レーザーから
のレーザー光の波長が変化すると、ホロディスクのホロ
グラム格子による回折ビームの回折角が変化し、それに
伴って、光走査部すなわち主走査線の位置が副走査方向
へ変動し、適正な光走査ができなくなる。
グイデオディスクシステム等では、レーザー光の波長が
変化すると、レンズ等の分散性(波長にヨリμ折率が変
化するとと)により、レーザー光がヴイデオディスク上
に正しく集束しなくなったりする問題があり、また光通
信装置では、やはりレンズ等の分散性により信号波面が
変化する等の問題がある。
半導体レーザーの温度は、半導体レーザー近傍の雰囲気
温度や、半導体レーザーに通ぜられる電流によるジュー
ル熱等によって変化するので、レーザー光の波長を安定
させ、上記の如き間1題の発生を防止するためには、半
導体レーザーの温度を一定に制御する必要がある。しか
し、半導体レーザーはその寸法が小さいため、これを直
接に温度制御することは困難であり、従来、16図に示
す如き、間接的な温度制御方法が提案されている。
矛5図において、符号100は半導体レーザー、符号1
1Gは、感温素子としてのサーミスタ、符号120はペ
ルチェ素子を、また符号160は、これら半導体レーザ
ー110、サーミスタ110、ペルチェ素子120 ?
!l−保持する保持体ケ示す。
保持体130の温度は、サーミスタ110により検知さ
れ、その検知結果たるサーミスタ出力は増幅器140に
より増幅されて、比較器142に電圧信号として印加さ
れ、基準電圧Vref  と比較される。
比較器142 K増幅器140から印加される電圧信号
は、保持体160の温度に対応する。保持体の高度YT
とする。一方、基準電圧”ref  は、温度制御上の
設定温度T0  に対応する。
比較器142では、上記電圧信号と基準電圧■refが
比較されるが、これは上記温度TとT。とが電気的に比
較されることに他ならない。
比較器142は、電圧信号と基準電圧Vref の差に
応じた信号、換言すれば、温度差ΔT = T −To
に応じた信号(誤差信号という)4発する。この誤差信
号は、ロウパスフィルター144で高域成分を除かれて
、ペルチエ素子駆動回路146に印加される。ペルチエ
素子駆動回路146は印加される誤差信号に従っ℃ペル
チェ累、子120を駆動して保持体150を加熱もしく
は冷却する。
かくして、保持体130の温度は、設定温度T0に制御
され、半導体レーザーの温度も間接的に、上記設定温度
に制御される。
ところで、保持体160上で、サーミスタ110と、半
導体レーザー100の位置を完全に一致させることがで
きない。このために、保持体160を介しての、ペルチ
エ素子120と、半導体レーザー1叩の位置関係と、ペ
ルチエ素子120とサーミスタ110との位置関係とが
、必らずしも、等価とはならない。換言すれば、ペルチ
エ素子120による加熱・冷却の効果が、半導体レーザ
ー100とチーミスタ110とで完全には等しくならな
いのである。
従って、第3図に示すような温度制御を行なうと、雰囲
気温度が変化するとき、矛4図に示すように、サーミス
タの検知温度は破線4−2の如くに一定に制御されるが
、半導体レーザーの温度は。
例えば実線4−1の如くに、雰囲気温度とともに変化し
てしまうのである。
(目  的) 本発明は、上述の如き事情に鑑みてなされたものであっ
て、その目的とするところは、周囲温度の変動に拘らず
、半導体レーザーの温度を安定に制御しうる、新規な、
半導体レーザ一温度制御方法の提供にある。
(構  成) 以下、本発明を説明する。
半導体レーザーが、保持体4通じて間接的ニ温度制御さ
れているにも拘らず、半導体レーザーの温度が、なお雰
囲気温度の変化に伴って変動する   ゛のは、上述の
如べ、ペルチエ素子、半導体レーザー、サーミスタの6
者の位置関係に原因があり、従って才4図における実線
4−1の傾きも、上記位置関係の変化に応じて変化する
本発明の温度制御誤差では、ダイオードの、電流・温度
特性を利用して、温度制御のための基準電圧を、雰囲気
温度に応じて変動せしめ、これによって、上記位置関係
にもとづく温度制御誤差を補償するのである。
今、才4図を参照して、サーミスタの温度(破線4−2
)をTa、半導体レーザーの温度(実線4−1)をTL
  とし、T8≠TLの場合を考えてみると、矛4図の
如< Ts > T+、のときは、半導体レーザーの冷
却が過剰であり、また、Tt、>Tsのときは、半導体
レーザーの冷却が不足している訳である。
ペルチエ素子を駆動するための信号である誤差信号は、
前述の如くΔT=T−TOK比例するのであるから、上
記Ts > Ttのときは、半導体レーザーの適正な冷
却のためにはΔTを小さくして冷却をおさえ気味にする
必要があり、逆にTL、 > Tsのときは、半導体レ
ーザーの適正な温度制御のために、ΔTを大きくして十
分な冷却をしなければならない。換言すれば、Ta >
 TLのときはTo  を大きく、TL > Taのと
きはTo  を小さくすれば良い。To  なる温度は
、基準電圧Vref  K対応するのであるから、この
ことは、温度制御のための基準電圧を、雰囲気温度の増
大に応じて増大せしめれば良いことを意味する。
以下、具体的な実癩例に即して説明する。
矛1図は、本発明の1実抱例を示すプ07り回路図であ
る、繁雑を避けるべく、混同の虞れのないものについて
は、第5図におけると同一の符号を用いた。不発明の特
徴とするところは、この夷捲例においては、破線で囲っ
た部分にある。
即ち、符号R1は抵抗、符号DI、D2はダイオード、
符号R2は抵抗、符号01  kZコンデンサーを示し
ている。
定電圧V。を、抵抗R1の両端に印加したとき。
抵抗R1の接点における電圧をVreflとする。また
、比較器142 #lc印加される基準電圧’&”re
f2とする。
さて、ダイオードの順方向電圧と順方向電流との関係は
、温度とともに変化する。例えば、この状態を矛5図で
説明すると1才5図において、横軸は順方向電圧(■)
、縦軸は順方向電流(mA )を表し、両者の関係は、
雰囲気温度?パラメーターとして矛5図のように変化す
る。してみれば、順方向電圧を一定に保った場合に、順
方向電流工は、温度上昇とともに増大する傾向を一般に
示す。
この順方向電流■と温度との関係を、ダイオードの電流
・温度特性と称する。
すると、今、才1図においてダイオードD1゜D2 の
順方向電流を、雰囲気温度T^ の関数としてI(TA
)とし、電圧Vref  を、矛6図の実線6−1のよ
うに一定値とすると、比較器142 K印加される、温
度制御のための基準電圧”ref2は。
I (TA )・R2であって、雰囲気温度TA  の
増加とともに16図の鎖@6−2のように増大すること
になる。これによって、サーミスタの温度は矛6図の破
線6−6のように雰囲気温度の上昇とともに低くなるよ
うに制御される。
そこで、基準電圧を一定としたとき(,173図の場合
)の半導体レーザーの温度係数(才4図り実線4−1の
傾き)の絶対値と、基準電圧■ref2の温度係数(矛
6図の鎖線6−2の傾き)の絶対値とを等しくするよう
に、矛1図の制@1回路を調整することにより、半導体
レーザー100の温度?、雰囲気温度の変動にも拘らず
、常に安定した温度に制御することができる。
上記制御回路の調整は、矛1図の実権例では、抵抗R1
の接点をかえて■ref2を変えることによって行なえ
ばよい。あるいは、抵抗R2を可変抵抗とし、その抵抗
値を調整することによって調整を行ってもよい。
(効 果) 以上、本発明によれば、半導体レーザアの(規な温度制
御方法を提供できる。この方法は上記の如く構成される
ので、半導体レーザー、感温素子、ペルチェ素子6者の
位置関係にもとづく温度制御誤差を有効に補、正し、半
導体レーザーの発撮波長を高精度に安定さ□せることが
できる。
【図面の簡単な説明】
、!i−1図は、本発明の1実権例を示すブロック回路
図、矛2図は、半導体レーザーを光源として用いる光プ
リンターの1例を示す斜視図、矛6図ないし矛4図は、
従来技術とその問題点を説明するための図、矛5図およ
び16図は本発明を説明するための図である。 100・・・半導体レーザー、110・・・感温素子と
してのサーミスタ、120・・・ペルチェ素子、130
・・・保持体、 DI 、 D2 ・・・ダイオード、
142.・・比較器、Vref2・・・基準電圧

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体レーザーを保持する保持体に、感温素子とペルチ
    エ素子とを装備し、上記感温素子により上記保持体の温
    度を検知し、検知された保持体温度にもとづき上記ペル
    チエ素子を駆動して上記保持体の温度を制御することに
    よって、上記半導体レーザーの温度を制御する温度制御
    方式において、ダイオードの電流・温度特性を利用して
    、温度制御のための基準電圧を周囲温度とともに変動せ
    しめることにより、上記半導体レーザー、感温素子、ペ
    ルチエ素子3者の位置関係にもとづく温度制御誤差を補
    償し、周囲温度の変動に拘らず、上記半導体レーザーの
    温度を安定に制御することを特徴とする、半導体レーザ
    ーの温度制御方法。
JP247585A 1985-01-10 1985-01-10 半導体レ−ザ−の温度制御方法 Pending JPS61161782A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5438579A (en) * 1992-12-18 1995-08-01 Olympus Optical Co., Ltd. Wavelength stabilizing apparatus
EP1096626A2 (en) * 1999-10-26 2001-05-02 Agilent Technologies, Inc., a corporation of the State of Delaware Process and device for the thermal conditioning of electronic components

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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