JPS61158938A - t−ブチルスチレンの精製法 - Google Patents

t−ブチルスチレンの精製法

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JPS61158938A
JPS61158938A JP60218159A JP21815985A JPS61158938A JP S61158938 A JPS61158938 A JP S61158938A JP 60218159 A JP60218159 A JP 60218159A JP 21815985 A JP21815985 A JP 21815985A JP S61158938 A JPS61158938 A JP S61158938A
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JP
Japan
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butylstyrene
impurities
feed stream
dialkenylbenzene
solvent
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Pending
Application number
JP60218159A
Other languages
English (en)
Inventor
ジエイムズ・デイ・ヘネリイ
スチーブン・シー・マクハネイ
チヤールズ・エル・エドワーズ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
L PASO PROD CO
PASO PROD CO L
Original Assignee
L PASO PROD CO
PASO PROD CO L
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Publication date
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Publication of JPS61158938A publication Critical patent/JPS61158938A/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C7/00Purification; Separation; Use of additives
    • C07C7/10Purification; Separation; Use of additives by extraction, i.e. purification or separation of liquid hydrocarbons with the aid of liquids

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般に純粋なt−ブチルスチレンの製造法に関
し、特にジアルケニルベンゼン不純物を除去するt−ブ
チルスチレンの精製法に関する。
t−ブチルスチレン(tBS)はt−ブチルエチルベン
ゼン(tBEB)を接触酸化脱水素(oxn)により有
利に製造される化合物である。七−ブチルスチレンは多
くの用途をもっている3例えば化学的中間体1重合体材
料の製造の単量体または共重合可能単量体等としての用
途である。E−ブチルスチレンはこのような置換によっ
て得られる望ましい物理的及び化学的性質のために、或
種の用途においてはスチレンの代りにしばしば用いられ
る。またスチレンでは適当ではないがt−ブチルスチレ
ンではうまく行われる工程も存在する。
t−ブチルスチレンはスチレン類に属するので、その製
造法における化学的性質には類似点が存在する。共通な
性質の一つはスチレン類を化学薬品または熱によって活
性化すると常に重合する傾向があることである。スチレ
ンを精製する方法のいくつかはt−ブチルスチレンを精
製するのに用いることができる。しかしt−ブチルスチ
レンの沸点はスチレンの沸点よりも約70℃高いから、
t−ブチルスチレンが重合する傾向はスチレンを精製す
る工業的方法においてスチレンが重合する傾向よりも道
かに大きい。
スチレンとt−ブチルスチレンとの相違のいくつかは、
t−ブチルスチレン中には存在するがスチレン中には存
在しないジアルケニルベンゼン類化合物に原因がある。
これらの交叉結合性化合物は重合して精製装置の操作を
妨害する種類の重合体を生じる。交叉結合した重合体は
装置中に集まる傾向があり、これを溶解しようとする試
みには困難が伴なう。
若干の高沸点炭化水素不純物の他に、oxn反応器から
得られる粗製t−ブチルスチレン流の中には、特に2種
のジアルケニルベンゼン、即ちインプロペニルスチレン
及びブテニルスチレンが存在する。
回収されたt−ブチルスチレン溜升を通常の方法で注意
深く蒸留すると、高沸点の不純物及び大部分のブテニル
スチレンが除去される。しかしインプロペニルスチレン
はこのような通常の蒸留では除去することが困難であり
、多くの用途の最高限界以上の濃度でt−ブチルスチレ
ンと共に残留する0例えばある重合法においてはインプ
ロペニルスチレンの許容含量は約1009P■以下であ
る。
1884年8月31日付けの米国特許願第648,21
11?号においては、溶媒として無水スルフオランを使
用してドブチルスチレンからジアルケニルベンゼン不純
物を除去する抽出蒸留法が記載されている。
この方法はうまく操作できるが、減圧及び高温を使用す
ることは装置、重合禁止剤、及び全工程の使用原価にか
なりの負担を与える。
温和な条件において液/液抽出を行う際溶媒として無水
スルフオランを用いる試みにおいては、t−ブチルスチ
レンと無水スルフオランとが完全に混合し合うために、
この方法で純粋なt−ブチルスチレンつくることはでき
ないことが示された。
従って本発明の目的は温和な操作条件を用いジアルケニ
ルベンゼン不純物を痕跡量しか含まないt−ブチルスチ
レン生成物を得る精製法を提供することである。
本発明によれば、t−ブチルスチレン流を供給流として
液/液抽出区域に導入し、該区域において該供給流を約
5〜約30重量%の水を含むスルフオラン水溶液と緊密
に接触させ、ジアルケニルベンゼン不純物を含まない精
製されたt−ブチルスチレンを精製物として回収し、ジ
アルケニルベンゼン不純物に富んだ抽出物を回収するこ
とを特徴とするt−ブチルスチレン流からジアルケニル
ベンゼン不純物を除去する方法が提供される。スルフオ
ラン水溶液好適な水分含量は約5〜約15重景%である
該供給流は好ましくはt−ブチルスチレン及び芳香族ジ
アルケニル化合物の重合を抑制するのに有効な重合禁止
剤を含んでいなければならない、適当な重合禁止剤の中
にはt−ブチルカテコール、2.64−ジニトロフェノ
ール、及び2,8−ジニトロ−履−クレゾールが含まれ
る。カラムに対する供給流中の重合禁止剤の濃度は重量
で約25〜約1,0OOpp■である。
本発明方法に用いられる操作条件は一般に温和である0
周囲圧力と約20〜約40℃の周囲温度が通常用いられ
る。しかし必要に応じこれよりも高いまたは低い温度を
使用することも完全に本発明の範囲内に入る。最良の分
離結果を得るためには、分離の際に上記範囲の高い側の
温度を用い、スルフオラン水溶液の含水量も上記範囲の
上限に来るように調節することが好ましい、溶媒対供給
流の重量比は約4:1〜約30:1、好ましくは約5=
1〜約20:1の範囲に保たなければならない、抽出区
域の抽出端において還流を行い不純物からのt−ブチル
スチレンの回収率を増加させることができる。還流は溶
媒が除去された抽出物の一部を戻すために行われる。抽
出端における還流比は約8:1〜約50:lに保つこと
が適当である。
本発明の抽出工程には効率的な任意の液/液接触装置を
用いることができる。向流装置、例えば混合沈降抽出器
、噴霧または充填蒸留塔、バブル・キャップ蒸留塔、篩
または目皿蒸留塔等を使用することができる。
液/液抽出蒸留塔の操作においては、非常に少量の、即
ち100pp■より少ないイソプロペニルスチレンを含
むt−ブチルスチレンの精製流を得ることができる。ま
た他のt−ブチルスチレン供給流の不純物、例えばブテ
ニルスチレンもさらに低い濃度まで減少する。
通常精製物中には少量のスルフオランが約8〜約15重
量%の量で存在する。必要に応じ洗浄されたt−ブチル
スチレンを乾燥した後最後の生成物貯蔵場所に送る。
水性スルフオラン溶媒及び抽出された不純物を含む抽出
生成物は通常工程に循環させる。不純物がスルフオラン
中に過度に蓄積するのを防ぐためには、該水性スルフオ
ランの少なくとも一部を、例えば周期的または連続的な
蒸留により処理することが好ましい、蒸留されたスルフ
オランは含水量を調節された後工程に戻される。
下記の実施例により本発明を例示する。これらの実施例
は単に例示のためのものであり、特許請求の範囲記載の
事項以外本発明を限定するものではない。
実施例1 98.55重量%のt−ブチルスチレン、0.0080
重量%のブテニルスチレン及び0.4893重量%の大
部分がイソプロペニルスチレンである不純物を含む供給
流を向流液/液抽出にかける。この際11段の混合沈降
器を含むヨーク・シャイベル(York−Scheib
el)社のXA−1型蒸留抽出器を使用した。蒸留塔は
直径が1インチ、高さが48インチである。混合区域は
0.5インチであり、沈降区域は3インチである。炭化
水素供給流を4.0ml/分の速度で蒸留塔の底に供給
し、10重量%の水を含むスルフオランを25.1 m
l/分の速度で蒸留塔の頂部に供給する。混合器の攪拌
速度は24Qrpmである。抽出物は27 ml/分の
速度で蒸留塔の底部から取り出し、生成物は3.7ml
/分の速度で頂部から抜取る。各相をt−ブチルスチレ
ン及び不純物について分析し、下記式から選択率を計算
する。
e = [X]/[tBS](抽出物) / [Xl/
[tBS] (生成物)ここでXはブテニルスチレンま
たはインプロペニルスチレンである。この実験において
各βの値は1.91及び4.94であった。実験から得
られる他のデータを第1表に示す。
第1表 抽出物及び精製物の組成(重量%) −成   出物  成 1 抽出物1 tBS     84.9  4.91  98.88
  913.38ブテニルスチレン 、004  .0005 .0047  .0091イ
ソプロペニルスチレン 、148  .0437 .1725  .8848ス
ルフオラン 13.9  95     −   −1溶媒を含まな
い基準 実施例 2 本実施例の条件と前実施例の条件との主な差はスルフオ
ラン中の水の濃度を20重量%に増加させたことであっ
た。蒸留塔の速度は次の通りである。炭化水素供給流(
実施例1と同じ)4 ml/分、溶媒供給流2717分
、精製物4■17分、抽出物27■I/分、混合速度は
300rp■、結果を第2表に示す、ブテニルスチレン
の除去選択率は1.4、イソプロペニルスチレンの除去
選択率は2.48であった。
第2表 抽出物及び精製物の組成(重量%) 成分   ノ酸物 抽出物  酸物1 抽出物1tBS
     813    +、913  98.51 
 98.29ブテニルスチレン 、 00G0 .0002 .0088  .0095イン
プロペニルスチレン 、3208 .0+?fl  、3B44  .887
2スルフオラン 10.7  98    − 1溶媒を含まない基準 実施例3 実施例1を繰返したが、炭化水素供給流は系から選択率
3.81で不純物を除去した結果、99.39重量%の
t−ブチルスチレンと0.0328重量%のイソプロペ
ニルスチレン不純物を含んでいた。データを第3表に示
す。
第3表 抽出物及び精製物の組成(重量%) 成分   L酸物 抽出物  酸物1 抽出物ItBs
     83.8  5.87  98.9   9
9.5イソプロペニルスチレン 、2795 .0027 .0122  .0468ス
ルフオラン 15.3  94.3       −1溶媒を含まな
い基準 不純物は蒸留塔の抽出相において濃縮することができ、
tBSからジアルケニルベンゼン不純物が分離されるこ
とを上記実施例1〜3はすべて示している。
しかし溶媒が水を全く含まないか、水の濃度が低すぎる
と、すべての供給流成分はスルフオランに可溶となり、
分離は起らない、このことはジアルケニルベンゼンを含
む不純物を含むtBSをOll、75.及び2.0重量
%の氷を含むスルフオランと接触させる実験室的な実験
により観測される。
当業界の専門家には本明細書並びに特許請求の範囲に記
載された本発明の精神及び範囲を逸脱することなく多く
の変形を行い得ることは明らかであろう。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、t−ブチルスチレン流を供給流として液/液抽出区
    域に導入し、 該区域において該供給流を約3〜約30重量%の水を含
    むスルフォラン水溶液と緊密に接触させ、ジアルケニル
    ベンゼン不純物を含まない精製されたt−ブチルスチレ
    ンを精製物として回収し、ジアルケニルベンゼン不純物
    に富んだ抽出物を回収する ことを特徴とするt−ブチルスチレン流からジアルケニ
    ルベンゼン不純物を除去する方法。 2、溶媒の水の含量は約5〜約15重量%である特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 3、溶媒対供給流の比を約4:1〜約30:1に保つ特
    許請求の範囲第1項記載の方法。 4、溶媒対供給流の比を約5:1〜約20:1に保つ特
    許請求の範囲第3項記載の方法。 5、抽出区域の抽出端において、約8:1〜約50:1
    の比で還流を行う特許請求の範囲第1項記載の方法。
JP60218159A 1984-12-24 1985-10-02 t−ブチルスチレンの精製法 Pending JPS61158938A (ja)

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