JPS6115814A - ネイルポリッシュ組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規ネイルポリッシュ組成物およびその塗布手
段に関する。より詳しくは、本発明は低粘度即ち約２０
０ｃｐｓ以下の粘度および比較的高い顔料濃度を有する
ネイルポリッシュ配合物および該ネイルポリッシュ組成
物を実質的に非−剛毛ブラシ先端を有するペンにより分
配する塗布手段に向けられたものである。

発明の背景 通常公知のネイルポリッシュ配合物は、米国特許３，５
９２７２０２号明細書に開示されているようなタイプの
ペン状のアプリケーターにより使用されていた。このペ
ンは、各末端に一つずつの二つの剛毛ブラシ先端と、一
つはネイルポリッシュを含有し他方はネイルポリッシュ
除去剤を含有する二つの貯蔵槽とからなるものである。

ネイルポリッシュ或いは除去剤は液体配合物を含有する
貯蔵槽を圧縮することによりペンの剛毛先端に運ばれる
。

このブラシへのネイルポリッシュ症いは除去剤を運ぶ技
術は、ネイルポリッシュ或いは除去剤を剛毛ブラシ先端
に適当に運搬するために如何なる特別の処方も必要とし
ない点において、全ての実用目的についてブラシをネイ
ルポリッシュ或いは除去剤の貯蔵槽に浸漬する技術と同
様である。更に該従来技術は、粘度がネイルポリッシュ
をアプリケーターのブラシに保持することができるよう
に十分に高い通常のネイルポリッシュを使用することに
依存するものである。

このようなネイルポリッシュを爪の表面に塗布する従来
技術とは対照的に、本発明は、その一方の末端が新規な
ネイルボリッシーで満たされている貯蔵槽と接触してい
る実質的に非−剛毛のペン先（ｎｉｂ）を利用するもの
である。このペン先の先端が押圧されるとネイルボリッ
シーが貯蔵槽から放出され、ペン先をその全長に亘って
飽和し、爪表面との接触時にネイルポリッシュの制御さ
れた流れのペン先末端への運搬を可能にする。通常のネ
イルポリッシュ配合物は、主としてそれらの高粘度、即
ち一般的に約３０００ｐａより大きい粘度のために本発
明のアプリケータ一手段に使用するには不適当である。

本発明において使用する粘度という用語は、チキソトロ
ピー粘度とは異る二’ｚ−トン粘度を指す。通常のネイ
ルポリッシュの粘度を適当なシンナー（ｔｈｉｎｎｅｒ
）により稀釈して減少させると、本発明のアプリケータ
一手段の非−剛毛ペン先に容易に流れ込む組成物が得ら
れるが、その様な組成物は顔料および／またはその他の
ネイルポリッシュの固形分が爪表面の満足できる被覆を
得ることが出来ない点まで減少されるのでネイルポリッ
シュとしては本質的に役に文たないものとなる。

従って、本発明の主たる目的は二つあり、第一の目的は
、ネイルポリッシュを爪表面に塗布するための新規方法
、即ちペンに付着させた実質的に非−剛毛先端を介する
方法を提供することであり、第二の目的は、アプリケー
ターの非−剛毛ペン先の全長および爪表面へ容易に流入
できるような極めて低い粘度を有するが、しかし満足で
きる爪被覆特性を与えるような十分に高い顔料或いは固
形分を有する新規な商業的に満足できるネイルポリッシ
ュ組成物を提供することである。

これらおよびその他の目的は以下の本発明の詳細な説明
から容易に明らかとなるであろう。

発明の詳細な説明 本発明のネイルポリッシー組成物は、適当な顔料ペース
ト或いはスラリーと最終ラッカー配合物とを混合するこ
とにより一般的に！ｌ１ｉｌ製される。これらの新規配
合物は顔料なしに調製することも出来るが、これらの組
成物は一般的に少なくとも一種の顔料成分を含有するも
のである。顔料ペースト或いはスラリーは、適当な顔料
或いは顔料の組み合わせをミルベース中で磨砕すること
により調製される。

ミルベースに使用される適当な顔料としては、化粧品工
業において通常使用されている全ての公知のものが挙げ
られ、従って非−毒性、非−増感性、非−染色性、実質
的に溶媒に不溶、本質的に浸出する傾向がなく、ラッカ
ー配合物に使用される溶媒と相溶性であり、且つ光に対
して中程度に安定性を有するものであるべきである。選
択される顔料の平均粒径は極めて小さくあるべきであり
、即ち満足できる分散特性を確実に与えるために約０．
１ミクロン−約２．０ミクロンの範囲にあるべきである
。

実際問題として、ネイルポリッシュに使用される顔料は
適当な国内知匍１法に合致しなければならず、それは米
国においては、顔料或いは着色剤は食品医薬凸周（ＦＤ
ム）により許可を受けなければならない。最°も広範に
使用されている顔料としては次のものが誉げられる：デ
ィー、アンド・シー・レッド６（Ｄ＆０Ｒｅｄ６）、デ
ィニーフン）”＊シー・レッド３ｆＪ　（Ｄ　＆　ＯＲ
ｔｉｔｄ３０　）、ディー・アント・シー・レッド３６
　（Ｄ　＆　ＯＲｅｄ３６　）、ディーラアンド・シー
・レッド９（Ｄ＆０Ｒｅｄ９）、ディー・アンド・シー
会レッド７　（Ｄ　＆　ＯＲｅ（１７）、ディー・アン
ド・シー・レッド２１　（Ｄ　＆　ＯＲｅｄ　２１　）
　。

ディー・アンド・シー９レツド３４　（Ｄ　＆　ＯＲｅ
ｄ　３４）、エフディー嗜アンド！シー９イエ０−５（
ＦＤ＆　ＯＹｅｌｌｏｗ　５　）、エフディー−アンド
ｅシーーイｘロー　６（ＦＤ　＆　ＯＹｅｌｌｏｗ　ｓ
　）、フェロシアン化第二鉄および化粧品用酸化鉄など
が挙げられる。

前記のものに加えて、二酸化チタンが主として不透明性
を与え、薄い仕上げ顔料シェード（ｓｈａｄｅ）をもた
らすために他の顔料と組み合わされる顔料としてしばし
ば使用されている。

顔料は所望の顔料シェードをもたらすために個個に或い
は組み合わされて磨砕される。ペースト或いはスラリー
の調製に使用される顔料の量は約２０．０％〜約８０．
０％の範囲にある。しかしながら、当業者には自明の如
くミルベースに含有される顔料の量は、使用される顔料
の特性、例えば密度および油吸収性並びに組み合わされ
たミルベースと顔料の粘度および加工装置の要請に応じ
て異る。

本発明に従えば、使用されるために選択された顔料（或
いは複数の顔料）はミルベース配合物において磨砕され
てペースト組成物を与え、これは直接的にラッカー組成
物中に導入することが出来、最終被覆組成物（例えばネ
イルポリッシュ）を与える。

顔料が磨砕されるミルベースの必須成分としては、（１
）顔料粒子の凝集を防止することが出来、ラッカー組成
物中に存在するフィルム形成剤と相溶性である水不溶性
の保護コロイド、および、（２）低い揮発性を有し、ミ
ルベース中の保顔コロイド並びに最終被覆組成物におい
て使用される膜形成剤の両者と相溶性である可塑剤が含
まれる。好ましいミルベースは本質的に非−燃焼性およ
び非−爆発性であり、且つ顔料および可塑剤と組み合わ
された際に、高剪断装置における磨砕を可能にするに適
したコンシスチンシーを有する組成物を与えるものであ
る。得られた顔料ペースト組成物、即ちミルベース成分
と組み合わされた微粉砕顔料は、最終被覆製品の粘度を
実質的に増大させることなく、ラッカー組成物中に容易
に分散可能であるべきである。

ミルベース中に使用される保護コロイドはその中に使用
される可塑剤中に十分可溶性であるべきであり、この保
護コロイドの量は分散された個々の顔料の粒子を少なく
とも単分子層で完全に被覆するに十分な材料を提供する
に適当な量であるべきである。一般的に、このコロイド
の分子量は顔料粒子が凝集するのを防止するのに適当な
コロイド作用を与えるのに十分なものであるべきである
。

更に選ばれるコロイドはラッカー組成物に存在する硝酸
セルロースその他の所望の膜形成剤と相溶性があるべき
である。

前記訝明は、適当な保護コロイドを選択するための主な
標準であったが、それはまた最終製品に使用される溶媒
系に可溶性であり最終製品の粘度を余り増大させないこ
と、即ち、アプリケーターの非−剛毛ペン先を通しての
流れを妨害する程度に増大させないことも重要である。

適当な保瞳コロイドを選択するに際してのその他の考慮
としては、その最終配合物における安定性、その目的用
途に対する適性、即ち最終被覆組成物が適用される表面
、例えば爪の表面に対して無害であること、最終被覆組
成物の特性、例えば膜被覆物の光沢、接着性、環境条件
に対する耐性、処理の深さ、柔軟性および硬度などに及
ぼす影響などが挙げられる。

好ましい適当な保護コｎイドの代表的な化合物群として
は、サツカライドベースポリマー、アクリルポリマー、
ポリエステル、アルキド樹脂、ポリアミド、セルロース
ポリマー、スルホン化ナフタクレン、ビニルポリマー、
ホルムアルデヒド縮合体、ポリウレタン、置換ピロリド
ンポリマーおよびポリプルピレンオキシドなどが挙げら
れる。本発明のミルベースに使用するのに好ましい保護
コロイドとしては、トルエンスルホンアンドホルムアル
デヒド縮合体〔例えばモンサント（Ｍｏｎａａｎｔｏ）
のサントライト　エム骨エッチ・ビー（８ムＮＴＯＬ工
ＴＩＭＨＰ）　］、メチルブチルメタクリレートコポリ
マー［１：Ｉ−Ａｅアンド・バーズ（Ｒｏｈｍ　＆　Ｂ
ａａｓ）のアクリロイドＢ−６６’（ム０ｒ７１０１１
１　Ｂ−６６つ〕、スフｐ−スペンジエート、エチルセ
ル四−ス、ダイマー酸ベースポリアミド樹脂〔ヘンケル
（Ｈｅｎ’ｋｅｌ）のパーサミド９４０　（Ｖｅｒｓａ
ｍｉｄｅ　９４０）　］およびエステル化ペリンタエリ
スリトールポリマー〔ハーキエリース（Ｈｅｒｃｕｌｅ
ｓ）　ｃｒ）バー　−ｙ　−７レツクス９００　（Ｈｅ
ｒｃ。

−ＩＦＩθＸ　９００）　’］などが単げられる。

一般的に、ミルベース中に利用される保護コロイドの量
は、顔料粒子の凝集を防止するのに必要な量である。保
護コロイドが約２．Ｏｉｉ量％〜２５．。

重量係の範囲の量で存在する場合に満足できる結果が達
成されることが判明した。

本発明のミルベースに使用される可塑剤成分の選択は、
次の一般的標樵に基づくべきである。即ち低揮発性、そ
の選ばれた保護コロイドを十分に可溶化することの出来
る能力、最終製品用のラッカー配合物における選ばれた
膜形成剤およびその他の成分とのその相溶性、最終年１
品の粘度を余り増大させない能力、所望の使用目的に対
する適性、即ち、皮膚的に無害であること、および最終
製品に所望の特性、例えば柔軟性および接着性、色堅牢
度および安定性を付与する能力などが挙げられる。

これらの一般的なパラメーターの範囲内において、当業
者は次の化合物群から適当な可塑剤を容易に認識するこ
とが出来るであろう。即ち、アビエチン酸誘導体、酢酸
誘導体、アジピン酸誘導体、アゼライン酸誘導体、安息
香酸誘導体、ポリフェニル銹導体、クエン酸誘導体、エ
ポキシ誘導体、特許売薬エステル類、エーテル誘導体、
７オルマル誘導体、グルタル酸誘導体、グリセルール誘
導体、グリコール誘導体、線状二塩基酸誘導体、石油誘
導体、イソ酪酸誘導体、イソフタル酸誘導体、ラウリン
酸誘導体、メリト酸誘導体、ンリスチン酸誘導体、二）
　ＩＪル誘導体、オレイン酸誘導体、バルミチン酸誘導
体、パラフィン誘導体、ペラルゴン酸誘導体、ペンタエ
リスリトール誘導体、リン酸誘導体、フタル酸誘導体、
ポリエステル類、リシノール酸誘導体、セバシン酸誘導
体、ステアリン酸誘導体、スチレン誘導体、スチレン誘
導体、スルホン酸誘導体、テレフタル酸誘導体、酒石酸
誘導体、炭酸誘導体、アコニチン酸誘導体、マレイン酸
誘導体、フマ〜ル酸誘導体１．カプリル酸誘導体、酪酸
誘導体、並びに樟脳およびひまし油などである。

好ましい可塑剤としては、Ｎ−エチルトルエンスルホン
アミド〔サンティサイザーＢ　（Ｓａｎｔｉｃｉｚθｒ
８）〕、ブチルベンジル７タレート［サンティサイザー
Ｆ３１６０　（８ａｎｔｉｃｉｚθｒ　８１６０．）　
］、フェノールのアルキルスルホン酸エステル類、例え
ハ「メサモール（Ｍｅｅａｒｎｏユニ）」〔モペイケミ
カル社（ＭｏｂａｙＯｈｅｍｉｃａｌ　Ｏｏ、）　）お
よびトリクレシルホスフェートなどが洋げられる。

ミルベースに使用される可塑剤の量は、保護コロイドを
可溶化するに十分な量であるべきであるが、それは一般
的に約７５重量％〜約９８重量係の量が有効であること
が判明した。

界面活性剤を顔料の分散を助けるためにミルベース中に
任意に含ませることが出来る。存在する場合には、界面
活性剤の量は、使用される特別の界面活性剤の種類およ
び所望の特性に応じて異るが、しかし、界面活性剤の量
は約０゜１％〜約５．％の範囲である。最終組成物中の
成分と相洛性である任意の界面活性剤を使用することが
可能であるが、ナル＝（Ｎａｌｃｏ）　２３９５　或い
はトロイキドンルベントアンティクレーター（Ｔｒｏｙ
ｋｙａ　５ｏｌｖｅｎｔＡｎｔｉａｒａｔｅｒ）　３６
６が満足できる結果を与えることが見出された。

組み合わされた顔料および好適なミルベース組成物は、
高剪断条件下において加工（ミル加工）して顔料の平均
粒径が約０．１　ミクロン−約２．０　［クロンである
顔料ペースト組成物を与えることが出来る。

好ましい顔料組成物は適当なラッカー配合物と直接的に
混合することのできるペースト状のコンシスチンシーを
有する。、しかしながら、実際問題として、顔料ペース
トは一般的に先ず適当なラッカーシンナーと組み合わさ
れ、その後残りの成分が添加される。

以下の具体例は、本発明に従って作成された特別のミル
ベース、および顔料組成物の調製に有用であることが見
出された方法を例示するものである。

例　　　　１ ２００ボンド（約９０．７　ｋｇ　）のミルベースのバ
ラチを次の方法に従って調製した。１５９ボンド（約７
２ｋｇ、　　７９．５重量係）の可塑剤［サンティサイ
ザー　８　（８ａｎｔｉａｉｚｅｒ　８）　］即ちＮ−
ｚチルトルエンスルホンアミドをトレド（Ｔ０１θ（１
０）　床秤上で秤量し、「ライトコン（Ｌｉｇｈｔｎｉ
ｎ）　Ｊ可変速プロペラミキサーを備えたスチーム保温
された釜に注いだ。

この可塑剤を撹拌しなから１９０”Ｆ（約８８℃）の温
度に加熱した。４１ボンド（約１８．６　ｋｇ、　２０
０５重量係）の保護コロイド〔サントライト　エム・エ
ッチ・ビー（Ｓａｎｔｏｌｉｔｅ　ＭＨＰ）　）即ち）
　ル：Ｅ、　ン、Ｘ　ルホンアミドホルムアルデヒド縮
合物をトレド（Ｔｏｌｅｄｏ）の床秤上で秤量し、その
直径がほぼ約１インチ（約２．５　ａｍ）以下の小片に
砕いた。ミキサー速度を次いで撥ね掛は直前の点まで増
大させ、保護コロイドを徐々に可塑剤に添加し、その温
度を全ての保護コロイドが溶解するまで１７０″Ｆ（約
７７°Ｃ）に維持した。その後混合物を冷却し、１２０
°〜１４０″Ｆ（４９°〜６０℃）の温度に維持した。

・　　　　　例　　　　２ 下記のミルベース配合物の各々５０ボンド（約２３ｋｇ
）のバッチの調製において、例１の方法を繰り返した。

成分 Ａ）サンティサイザー１６０ （Ｓａｎｔｉｏｉｇｅｒ　１６０）　　　　　　　　　
９５．０重量係アクリロイドＢ６６ （Ａｃｒｙｌｏｉｄ　Ｂ６６）　　　　　　　　　　　
５．０重量％〔ローム・アンド・バーズ （Ｒｏｈｍ　＆　Ｂａａｓ）　］ Ｂ）サンティサイザーＢ　（Ｓａｎｔｉｏｉｚｅｒ　ｓ
）　　９ＬＯ重景係パーサミド９４ｏ　（Ｖｅｒｓａｍ
ｉａｅ９４０）　　　ａ、ｏｉｉｔ％〔ヘンケル　ケミ
カルズ（Ｈｅｎｋｅｌ　Ｏｈｅｍｉａａｌａ）　］０）
サンティサイザーＢ　（Ｓａｎｔｉｃｉｇｅｒ８）　　
８５．０重量％スクロースベンゾエート　　　　　　　
１５．ｏ重ｊｔ％〔べ＃　−１／　：Ｉ　ル　　プロッ
ト（Ｖｅｌｓｉｃｏｌ　Ｐｒｏｄ、）］Ｄ）トリクレシ
ルホスフェート　　　　　　％．０重量％〔モンサント
　（Ｍｏｎｓａｎｔｏ）　］エチルセルロース　　　　
　　　　４．０重量％〔バーキュリーズ　ケンカルズ （Ｈｅｒｏｕｌｅｓ　ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）　）Ｅ）ト
リクレジルホスフェ−）　　　　　　　９ａ、ｏｍｉｉ
チ〔モンサント　（Ｍｏｎｓａｎｔｏ）　］ハーコ　フ
レックス９００ポリエステル　７．ｏ重量％（Ｈｅｒｃ
ｏ　Ｆｌｅｘ　９００　Ｐｏ１ｙｅｓｔｓｒ）［バーキ
ュリーズ　ケム（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ　Ｏｈｓｍ、）　］
Ｆ）［メサモール（Ｍｅｅａｍｏｌｌ）　Ｊ　　　　　
　８０．０重量％〔モベイ　ケミカル社 （Ｍｏｂａｙ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏ−）　１サント
ライト　エム・エッチ・ピー （Ｓａｎｔｏｌｉｔｅ　ＭＨＰ）　　　　　　　　　　
２０．０重８１例％〜】３の顔料ペースト組成物の調製
において次の一般的方法を使用した。

例　　　　３ 例１に従って調製された所定量のミルベースをチェンジ
カン−ペーストミキサーに入れ、ミルベースの温度を１
２０”Ｆ〜１４０’Ｐ（約４９°〜６０°Ｃ）に保つ。

所望の顔料シェードを決定し、適量の個々の顔料或いは
顔料混合物を秤量し、過度に埃が立つのを°防ぐために
ミルベース中に手で掻き混ぜて練り込む。顔料およびミ
ルベースを含有するチェンジカンをミキサー下に置き、
塊や乾燥顔料の完全に無い、よく分散されたスラリーが
得られるまで混合する。ミル処理装置、即ち標準化ロー
ラー速度を有するビューシー　ニス・ディー・エックス
−６００（Ｂｕｅｈｌｅｒ　ＳＤＸ　−６００）　三本
ロー　／ｌ／　ミ、ｚｌｉ、ロールを約７２下（２２，
２℃）〜約１２４７（約５１．２℃）の範囲の温度に予
備加熱し、四−ルの油圧を約１５〜１８．５バール（約
２２０ポンド〜約２７２ボンド）（約１００〜１２３ｋ
ｇ）の範囲に設定し、ナイフの油圧を７バール（約１０
３ボンド）（約４７　ｋｇ　）に設定して操作準備を行
う。チェンジカン内のスラリーを次いでミルに移し、材
料をミル中に、所望の平均顔料粒径即ち約０．１〜約２
．０ンクｐンのペーストが得られるに必要な特定のパラ
メーターにおいて十分な回数通過させてスラリーをミル
処理する。ミルルールを通過しないスラリー物質、即ち
「戻り（ｈａｎｇ　−ｂａａｋ）　Ｊ物質は、それがロ
ールを通過するに十分なスラリーの追加量で加湿する。

その後、ミル処理された顔料ペーストを清浄なチェンジ
カン−ペーストミキサーに移し、均一になるまで混合す
る。

例　　　　４ 例３の方法に従って、下記の材料を用いて２３００ｇの
顔料ペースト組成物のバッチを調製した。：ミルベース
　（例１）　　　　　　６２．５重量％ディー・アンド
・シー・レッド ＋７カルシウムレーキ　　　　　　３７．５重量％（Ｄ
　＆　ＯＲｅｄ　４７０ａｌｃｉｕｍ　Ｌａｋｅ　）ビ
ューラーエス・ディー・エックス６００ミル（Ｂｕｅｈ
ｌｅｒ　８ＤＸ　−６００ｍ１ｌｌ）の三本ロールを９
９”Ｆ（約３７°Ｃ）まで予備加熱し、次いでロール１
および３を９７’Ｆ（約３６℃）まで冷却した。ロール
油田を１８．５バール（２７２ボンド）　（Ｉ＋’＋Ｉ
Ｉ２３ｋｇ）に設定した。ナイフ油圧は７バール（１０
３ボンド）（約４７ｋｇ）に設定した。顔料スラリーを
上記条件において、３回ミルを通過させたところ、得ら
れた顔料ペースト組成物はｏ　−１２−１／２　ミクロ
ンの範囲を有するブレシジ箇ン（Ｐｒｅｃ１θ１ｏｎ）
の磨砕ゲージ〔エヌ・アイ・ビー・アイ・アール・アイ
（Ｎ、１．Ｐ。

１、Ｒ，Ｉ　）　６２５−１／２　ｘム−：ｓ−−（Ｍ
ｕ）］で測定して約０．１〜約２．０ミクロンの範囲の
平均粒径を有していた。

例　　　　５ 例３の方法に従って、下記の材料を用いて２８００ｇの
顔料ペースト組成物のパッチを調製した；ミルベース　
（例１　）　　　　　　　７０．０重量憾ディー・アン
ド・シー・レッド ナ７０ジン化カルシウムレーキ　　　Ｂｏ、０重ｆｔ係
（Ｄ　＆　ＯＲｅｄす７　Ｒｏｓｉｎａｔｅｄ　Ｏａ、
　Ｌａｋｅ）ビューラーエス・ディー−エックス−６０
０イル（Ｂｕｅｈｌｅｒ　ＳＤＸ　−６００ｍ１ｌｌ）
の三本ロールを１０６″Ｆ（４１℃）まで予備加熱し、
次いでｐ−ル１および３を９７″Ｆ（約３６℃）まで冷
却した。ロール油圧を１８．５バール（２７２ボンド）
（約１２３　ｋｇ　）に設定した。ナイフ油圧は７バー
ル（１０３ボンド）（約４７　ｋｇ）に設定した。顔料
スラリーを上記条件において、３回ミルを通過させたと
ころ、得られた顔料ペースト組成物は例４で使用した磨
砕ゲージで測定して約０．１〜約２．０ミクロンの範囲
の平均粒径な有していた。

例　　　　６ 例３の方法に従って下記の材料を用いて２３００（Ｄ　
＆　ｏ　Ｙｅｌｌｏｗす５） ジルコニウムレーキ　　　　　　　　　３０．０重を係
ビューラエス・ディー・エックス−６００ミル（Ｂｕｅ
ｈｌｅｒ　ＳＤＸ　−６００ｍ１ｌｌ）の三本ロールを
９９下（約３７℃）まで予備加熱し、次いでロール１お
よび３を９０″Ｆ（約３２°Ｃ）まで冷却した。ロール
油圧を１６．５バール（２４３ボンド）（約ｏｏｋｇ）
に設定した。ナイフ油圧を７バール（１０３ボンド）（
約４７　ｋｇ　）に設定した。顔料スラリーを上記条件
において、３回ずルを通過させたところ、得られた顔料
ペース［１成物は例４で使用した磨砕ゲージで測定して
約０．１〜約２．０ミクロンの範囲の平均粒径を有して
いた。

例　　　　７ 例３の方法に従って、下記の材料を用いて２３００ｇの
顔料ペースト組成物のバッチを調製した：ミルベース　
（例１　）　　　　　　４８．５２０重量係化粧品用フ
ェルシアン化第二鉄　　　　　、２００重量係Ｄ＆りＬ
／７ドナ１ｉＢａ、レーキ　　　１．７１９重量優Ｄ＆
り　　Ｔｉｅ８４４．％９重量憾化粧品用酸化鉄Ｍ　　
　　　　　　　　　３．２１６重量憾Ｄ＆り　（エロー
◆６ジルコニウムレーキ　　ｘ、ｓａｓ重ＩＨ６ピユー
ラー８ＤＩ　−６００ずルの三本レールを１２７７（約
５３°Ｃ）まで予備加熱し、次〜）でｐ−ル１および３
を１１８″Ｆ　（４７，４℃）まで冷却した。ロール油
圧を１８．５バール（２７２ボンド）（約１２３　ｋｇ
　）に設定した。ナイフ油圧を７バール（１０３ボンド
）（約４７ｋｇ）に設定した。顔料スラリーを上記条件
において、３回イルを通過させたところ、得られた顔料
ペースト組成物は例４で使用した磨砕ゲージで測定して
約０．１〜約２．０ミクｐンの範囲の平均粒径を有して
いた。

例　　　　８ 例３の方法に従って、下記の材料を用いて１０００ｇの
顔料ペースト組成物のパッチを調製した２ミルベース　
（例２Ａ　）　　　　　　　６２．８重量俤り＆０レッ
ドナ７カルシウムレーキ　　８７．ｓ重量俤ビューラ−
３ＤＩ　−６００ミルの三本田−ルを９９テ（約３７℃
）まで予備加熱し、次いでロール１および３を９７″Ｆ
（約３６℃）まで冷却した。ロール油圧を１８．５バー
ル（２７２ボンド）（約１２３　ｋｇ　）に設定した。

ナイフ油圧を７バール（１０３ボンド）（約４７ｋｇ）
に設定した。顔料スラリーを上記条件において、３回ミ
ルを通過させたところ、得られた顔料ペースト組成物は
例４で使用した磨砕ゲージで測定して約０．１〜約２．
０ミクロンの範囲の平均粒径な有していた。

例　　　　９ 例３の方法に従って、下記の材料を用いて１０００ｇの
顔料ペースト組成物のバッチを調製した；ミルベース　
（例２Ｄ　）　　　　　　７ｏ、ｏ重量幅Ｄ＆Ｏ（エロ
ーナ５ジルコニウムレーキ　　３０．０重量％ビ、−５
−８ＤＸ　−６００ミルの三本ロールを９９＠Ｆ（約３
７℃）まで予備加熱し、次いでロール１および３を９０
″Ｆ（約３２℃）まで冷却した。ロール油圧を１６．５
バール（２４３ボンド）（約１１０　ｋｇ　）に設定し
た。ナイフ油圧を７バール（１０３ボンド）（約４７ｋ
ｇ）に設定した。顔料スラリーを上記条件において３回
ミルを通過させたところ、得られた顔料ペースト組成物
は例４で使用した磨砕ゲージで測定して約０．１〜約２
，０ミク四ンの範囲の平均粒径な有していた。

例　　　１０ 例３の方法に従って、下記の材料を用いて２８００ｇの
顔料（シェード）ペースト組成物のバッチを調製した。

ミルベース　（例１　）　　　　　　　５５．０重量係
り＆Ｏレッドナ＠Ｂａ、レーキ　　　　　４５．０重量
幅ピ＄−３−８ＤＫ−ｓ００？ルの三本−−ルを１０６
″Ｆ（４１℃）まで予備加熱し、次いでロール１および
８を９７″Ｆ（約３６℃）に冷却した。ロール油圧を１
８．５バール（２７２ボンド）（約１ｊ１ｋｇ）に設定
した。ナイフ油圧を７バール（１０３ボンド）（約４７
　ｋｇ　）に設定した。顔料スラリーを上記条件におい
て３回ミルを通過させたところ、得られた顔料ペースト
組成物は例４で使用した磨砕ゲージで測定して約０，１
〜約２．０ンク四ンの範囲の平均粒径を有していた。

例　　　１１ 例３の方法に従って、下記の材料を用いて２３００ｇの
顔料（シェード）ペースト組成物のバッチを調製した： ミルベース　（例１　）　　　　　　　７０．０重量係
り＆Ｏイエロー※６　Ａｌレーキ　　　　３０．０重量
％ヒューラー８Ｄｘ−６００ミルノ三本ロールを９９”
Ｆ（約３７℃）に予備加熱し、次いでロール１および３
を９０下（約３２℃）に冷却した。ロール油圧を１５バ
ール（２２０ボンド）（約１ｏｏｋｇ）に設定した。

ナイフ油圧を７バール（１０３ボンド）（約、ｉ７ｋｇ
）に設定した。顔料スラリーを上記条件において３回ミ
ルを通過させたところ、得られた顔料ペースト組成物は
例４で使用した磨砕ゲージで測定して約０．１〜約２．
０ミク目ンの範囲の平均粒径を有していた。

例　　　１２ 例３の方法に従って、下記の材料を用いて２３００ｇの
顔料（シェード）ペースト組成物のバッチな調製した； ミルベース　（例１　）　　　　　　６９．８７９重量
係Ｄ＆りＴｉＯ□　　　　　　　　　　　１％０８重量
係Ｄ＆りレッド÷３４カルクウムレーキ　　２６．９２
４重量係化粧品用フェロシアン化第二鉄　　　　１．７
８９重量優ヒＪＬ　−ラー８ＤＸ　−６００ｉ　ルの三
本ｐ−ルを９９下（約３７℃）に予備加熱し、ロール１
および３を９０″Ｆ（約３２°Ｃ）に冷却した。ロール
油圧を１６，５バール（２４３ボンド）（約７５ｋｇ）
に設定した。ナイフ油圧を７バール（１０３ボンド）（
約４７　ｋｇ）　Ｋ設定した。顔料スラリーを上記条件
において３回ずルを通過させたところ、得られた顔料ペ
ースト組成物は例４で使用した磨砕ゲージで測定して約
０Ｊ〜約２．０ｉクロンの範囲の平均粒径を有していた
。

前記説明から明らかな如く、この顔料組成物は最終的に
はネイルポリッシェ組成物用のラッカー配合物中に導入
されるべき中間生成物である。

前記開示内容および具体例は好まし〜ＳｉＳミルベース
種顔料材料のための磨砕媒体としての用途に全て向けら
れたものであり、本発明のラッカー配合物中に直接導入
されることのできる顔料ペースト組成物を形成するため
のものであったが、これらの顔料材料はまたニトロセル
筒−ス含有ばルベース中において磨砕され、通常の「チ
ッピング」技術に従った顔料チップを形成することも可
能である。しかしながら、本発明に従ってニトロセルロ
ース顔料チップが使用される場合には、ニトロセフｔ＝
ｏ−ス調製顔料成分を含有する最終ネイルポリッシュ組
成物の粘度が２００　ｃｐｓ以下であるべきことが重要
である。これは、例えば、約１０００ｐｌｉニドトロセ
ルロース７０４１．Ｐ、Ａ、潤滑の等級のニトロセルロ
ースをミルベース中に用いて顔料チップを形成すること
により達成することが出来る。通常のネイルポリッシュ
組成物は、一般的に約９０〜１００　ｃｐｓ以上の等級
を有するニトロセルロース即ち１７４秒のニド−セルロ
ースを使用していることは了解されている。また、ネイ
ルポリッシュ顔料チップ配合物が９０ｃｐｓ未満の粘度
例えば１８〜２５　Ｑ’ｆＢのニトロセルロースの等級
を使用して調製されることもまた了解されるべきである
。この等級のニトロセルロースを用いることにより９０
−１００　ａｐｅの等級のニトロセルロースを用いて達
成できるよりもより大きな顔料の負荷が可能となる。勿
論上記タイプのニトロセルロースチツプが利用される場
合には、色チップを適当な溶媒に溶解させて、その後適
当なラッカー配合物と混合して最終ネイルポリッシュ組
成物を与えることのできる顔料分散液或いはスラリー（
シェードペースト）を形成する必要がある。

本発明の顔料ペースト或いはスラリーが混合されるラッ
カー配合物は、適当なフィルム形成剤と各種任意成分、
例えば一種以上の変性樹脂、シンナー、溶媒、稀釈剤、
界面活性剤、凝集剤或いは懸濁剤を含んでなるものであ
る。好ましいフィルム形成剤は、１８〜２５０ｐｓの硝
酸セル四−スである。

しかしながら、最終ネイルポリッシュ組成物の粘度が２
００　ｃｐｓ以下であるならば任意のニトロセルロース
ポリマーも利用されることが了解されるべきである。そ
の他の適当な膜形成剤としてはセルロースプロピオネー
ト、セル四−スアセテートブチレート、エチルセルロー
ス、スクロースアセテートイソブチレート、ビニルポリ
マー例えばポリビニルアセテートおよびポリビニルアル
コール、アクリル樹脂例えばアクリルポリマー（熱可塑
性アクリルエステル、アルキルアクリレートおよびメタ
クリレートのホモポリマーおよびコポリマー）、ウレタ
ンポリマー、ナイロン、ポリエステルおよびアルキドな
どが挙げられる。当業者はラッカー配合物或いは最終組
成物のいずれかに存在する各種のその他の成分例えばミ
ルベース中に存在する保護コロイドもまた膜形成剤とし
て作用することを了解するであろう。一定量の該成分が
最終ネイルポリッシュに顔料ペーストの一部として運び
こまれる。

ラッカー配合物中に存在するニトロセル日−ス膜形成剤
の量は通常約２．０％〜約２０．０チの範囲にあること
が判明した。好ましいニトロセルロース膜形成剤即ち１
８〜２５　（ｊｐｓを有する膜形成剤の量は通常約３．
％〜１５．５％の範囲にあり、好ましい範囲は約５．０
重量優〜約１０．０重量％である。

ニトロセルロース以外の膜形成剤が使用される場合には
、ネイルポリッシュ組成物に存在する量は約２．％〜約
４０．０％の範囲にある。勿論、適当な膜形成剤の選択
に際しては、組成物の固形分含ｌを膜形成剤により構成
する必要性と同時に最終組成物の粘度が約２０００ｐｌ
ｉ＋を趨えないようにすることの必要性との間のバラン
スをとることが必要なことは当業者には了解されるであ
ろう。

ラッカー配合物中に存在する任意成分の変性樹脂（類）
は所望の膜形成剤と相溶性がなげればならない。変性樹
脂の主たる役割は１以上の次の特性を最終組成物に与え
ることである。即ち改良された光沢、数校された光沢の
深さ、改良された接着性、改良された膜硬度、膜収縮の
減少、改良された耐水性および増大した固形分である。

適当な変性樹脂としては、トルエンスルホンアミド−ホ
ルムアルデヒド縮合物〔サントライトＭＨＰ　　（Ｓａ
ｎｔ、ｏｌｉｔｅ　ＭＨＰ）および／またはサントライ
トＭＳ−８０、（８ａｎｔＯ１１ｔｅ　ＭＳ　−８０）
　）　、スクロースベンゾエート、スクロースアセテー
トイソブチレート、そ？７）　コホＩＪマー混合物、ア
ルキド、ポリビニルアセテート、ポリエステル、アクリ
ル樹脂、ホルムアルデヒド縮合物、ナイロン、ロジン樹
脂、アセテートおよびシクロヘキサノンなどが挙げられ
る。

好ましい樹脂混合物はサントライ）　ＭＨＰおよびサン
トライ）　ＭＳ　−８０（ｓｏ、ｏ　％溶液）のいずれ
か或いは両者およびセロバー（Ｏｅｌｌｏｖａｒ）　Ｏ
Ｖ　−１６０（酢酸ブチル中ｇｏ、ｏ　４溶液）即ちス
クロースベンゾエート／スクロースアセテートイソブチ
レートコポリマーを含んでなるものである。

ラッカー配合物中に存在する全変性樹脂室いはそれらの
混合物の舞は１００　％固形分に基づいて０．％〜約５
０．％であり、好ましい範囲は約４．％〜約１３．０　
％である。好ましいラッカー配合物においてサントライ
）　ＭＨＰは約０．２　％〜約ｓ、ｏ　１であり、サン
トライトＭＳ８０は約２％％〜約５．６係の範囲の量で
あり、およびセロバーｅＶ　１６０　（８０チ）は約１
．６壬〜約３．２係の範囲の量で存在する（全ての数値
は１００％固形分に基づくものである）。

る）。

ラッカー配合物中に存在するその他の任意成分としては
公知のその様な配合物に通常使用されている成分が挙げ
られる。その様な成分の具体例としては、可塑剤、例え
ば上記可塑剤の表を参照工溶媒菖分散剤、例えばベント
ンクレー；分散剤の特性を高める増強化合物、例えばリ
ンゴ酸１稀釈剤；天然および／または合成真珠光沢剤１
例えばグアニン１金属粉末および紫外線安定剤、例えば
シアソープ（Ｏｙａｓｏｒｂ）　５４１１などが挙げら
れる。

真珠光沢剤が最終ネイルラッカー配合物に含有される場
合には、１／／！秒までのおよびこれを含むニトロセル
ロースの等級を利用することが可能であることが判明し
た。

使用可能な金属粉末の具体例としては、例えば化粧品等
級のアルミニウム箔、或いは青銅粉末が挙げられる。該
金属粉末の最終ネイルボリッＶｚ組成物中に存在し得る
量は通常約１．０重量％〜約１７．０重量係である。し
かしながら実際に使用される督は望まれる化粧品効果に
応じて異る。

しかしながら、如何なる特別のラッカー配合物における
特別の成分の使用も必然的に最終製品において得られる
ことが求められる特別の特性および粘度に基づくもので
あることは了解されるであろう。

ラッカー配合物或いは最終ネイルポリッシー組成物のい
ずれかの部分として導入することにより界面活性剤およ
び凝集剤もまた利用することができる。

界面活性剤は任意成分であるが爪表面に塗布された際に
ネイルポリッシュに均−化効果並びに改作された摩耗お
よび流動特性をもたらすことが判明した。適当な界面活
性剤としてはその他の点に′おいてはネイルポリッシュ
成分と相溶性であるアニオン、カチオン、非イオン或い
は両性界面活性剤が挙げられる。しかしながら、ベント
ンが懸濁剤として使用される場合には、ベントンはカチ
オン成分を含むのでアニオン界面活性剤を使用すること
ができないことが了解されるべきである。適当なアニオ
ン界面活性剤の具体例は当業者には良く知られており、
次の分類の範囲の化合物が挙げられる。即ち、脂肪のケ
ン化生成物、硫酸化脂肪アミド、硫酸化脂肪アルコール
、脂肪アルコールのリン酸エステル、アミノカルボキシ
ル化酸、硫酸化ロジンおよび硫酸化非イオン型界面活性
剤。

などが挙げられる。カチオン界面活性剤の具体例として
は、脂肪鎖を有する脂肪族アミン、および四級アンモニ
ウム塩が挙げられる。非イオン界面活性剤の具体例とし
ては、次の分類の範囲内の化合物が挙げられる。即ちポ
リオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキシエチ
レンアルコール、脂肪酸のポリオキシエチレンエステル
、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチ
レンアルキルイミド、ポリオール界面活性剤、ポリアル
キレンオキサイドブロックコポリマー、プロポキシル化
界面活性剤およびフッ素化アルキルエステルなどがあげ
られる。

前記添加物に加えて、高分子分散剤もまたネイルポリッ
シュの均一化を助けるために、顔料分散剤として助ける
ために凌いは顔料の凝集を柔軟な沈澱にするのを助ける
ために含有させることが出来る。該分散剤としては特に
シリコーンポリマーおよびコポリマー、ポリアミド、ポ
リアクリルアミドおよびポリカルボン酸などが挙げられ
る。界面活性剤或いは分散成分の存在量は０．０壬〜約
１ｏ、ｏ　４の１囲である。本発明の好ましい配合に従
えば少なくとも一種の界面活性剤或いは分散剤化合物が
配合物中にＰ＋　０．０１重９Ｌ１〜約１．０１１の範
囲の量で導入される。好ましい界面活性剤としてはエト
キシル化ヒマシ油例えばナルコケミカルズ社「ナルコ　
２３９５　Ｊ　（Ｎａｌｃｏ　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ。

”Ｎａ１ｃｏ　２３９５’）　、フッ素化アルキルエス
テル例えば３エムのフルオラッドエフ・シー４３０　（
”３Ｍ１ｓＩＦｌｕｏｒａｄ　ＦＯ４３ｏ）およびトロ
イケミカルの［トロイキッドアンチクレーター３６６　
Ｊ　（Ｔｒｏｙ　Ｏｈｅｍｉｏａｌ’ｓ”　Ｔｒｏｙｌ
ｃｙｄＡｎｔｉｃｒａｔｅｒ　３６６　”　）などが挙
げられる。

上記の如く懸濁剤例えばベントンが顔料の懸濁を助ける
ために利用される。その様ｔｒ懸濁削の不存在下におい
ては顔料は密な硬い塊として沈澱する傾向を示す。本発
明に従えばベントンはそれらの伝統的な量即ち約０．７
５％〜約１．２係の量で存在すべぎではなく、むしろ使
用される場合には相当により低い割合例えば、２５％で
存在すべきであることが判明した。好ましいベントン懸
濁剤はベントン（Ｂθｎｔｏｎｅ）　２７であり、これ
はラッカー配合物用としてシンナー（７５，ｏｌ）を被
覆されたチェンジカンな備えたカラレス（ＯｏＷｌｅｓ
）　　溶解器に入れることにより調製することができろ
。このミキサーを活動させ、ベントン２７のチップ（２
５，１５１ベントン、］ｓ、ｏ　’１６樟脳および５７
．０％の乾燥硝酸セルロース）を徐々に添加する。これ
らの材料を樟脳および硝酸セルロースが溶解し、ベント
ンが分散するまで高剪断条件下に混合する。

本発明に従って使用することのできる更に任意成分は凝
集剤である。最終ネイルポリッシュ配合物中に存在する
場合には、それは顔料の柔軟な沈澱を促進することが見
出された。商業等級のネイルポリッシュの配合において
は成分が懸濁液中に残存し、従ってベントンなどの懸濁
剤の使用が一般的に望ましいことであるので凝集剤は通
常のネイルポリッシュには全く相客れないものであるよ
うに当業者には思われることであろう。使用するに適し
た好ましい凝集剤の幾つかとしてはヌオスパース７００
　（Ｎｕｏｓｐｅｒｓｅ　７００）およびリボホス４２
−６　（Ｌｉｐｏｐｈｏｓ　４２−６）などが挙げられ
る。また、ある種のアミン類或いは四級化アンモニウム
化合物例えばＮ、Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ア
ルキルアミンおよび大豆ジメチル、エチルアンモニウム
エト−サルフェートなどが各々使用できることが判明し
た。存在する場合には、ネイルポリッシュ中に利用され
る凝集剤の量は用いられる凝集剤の特性に応じて０．０
％〜約ｔｏ、ｏｓ、好ましくは約０．１％〜約５．０チ
である。

最終ネイルポリツアーは適当な顔料ペースト或いはスラ
リーを所望のラッカー成分と混合して２００ａｐ８以下
の粘度を有し、顔料・濃度が０．６％〜約１２．０　％
であるネイルポリッシュを提供することにより調製され
る。特別のネイルポリッシュの調製のためには当業者は
利用される成分の量が選ばれた特別の成分に応じて異る
ことを了解するであろう。例えばより暗い顔料は満足で
きる被覆特性を得るためにはより明るい顔料に比べてよ
り低い濃度を使用することが一般的に必要である。この
注意事項にも拘らず、以下に通常のネイルボリッシー配
合技術および方法に従って調製された本発明のネイルポ
リッシュ配合物の具体例を示す。しかしながら、これら
のＩｌｌ！Ｊに当っては、第一の製造工程としては顔料
（シェード）ペースト成分を、適当なシンナーおよび使
用される任意の固形樹脂と混合するのが好ましくその後
に残りのラッカー成分を混合するということが判明した
ことを留意しながら行った。

町　　　ロ　−ｅｒｌ　６　　Ｏｃｏ　　ｎ　　ＯＰＩ
　　　へ　　へ　　− ｅ；Ｉ、、；　　Ｉ　　■■ｌ蟇 ｇｉ−１１く、Ｉ論 ト　　　　　　　ｅ 表１に用いられた特定の成分は更に以下に同定される： １）サントライトＭＨＰ−モンサントのトルエンスルホ
ンアミドホルムアルデヒド縮合物１）サントライトＭｅ
　−３Ｑ−モンナントのトルエンスルホンアミドホルム
アルデヒド縮合物８０％溶液（配合物中の係は８％溶液
に基づく）。

２）セロバーＯＶ−１６０−セ０７４ルＡ　（Ｏｅｌｌ
Ｏ−ｆｎｍ）のスクロースベンゾエート／スクロースア
セテート−イソブチレートコポリマー８０％溶液（配合
物中の係は８％溶液に基づく）。

３）トロイキド３６６　−　　）ローイケミカルの界面
活性剤。

４）ナルコ２３９５　−　　トロイケミカルのエトキシ
ル化しマシ油。

５）シェードペースト　一例７の薄ライラック色（Ｐａ
ｌｅ　Ｌｌｌａｃ） ６）ミルベース−例１゜ ７）顔料ベース−例１０゜ ８）顔料ベース−例１１゜ ９）ヌオスパーク７００−ヌオデツクスコーボレ−−ｙ
　ｗ　ン（Ｎｕｏｄｅｘ　０ｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）１
０）リボホス４２−６−　リボケミカル社（Ｌｉｐ。

Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｏｏ、） １１）ベントン２７ベーストーベントンチツプス２５％
、シンナー７５係。

本発明の範囲内のニトロセルロース以外の主膜形成剤を
含有するネイルポリッシュ配合物を表２に示す＠ 成　　　分　　　　　　　　　　Ａ　　　　Ｂ　　　　
Ｏ’Ｄサントライト　Ｍｅ−８０”　　　　　　４．０
　　４．０　　５．０　　−ブチルアセテート　　　　
　　　２８．８　３２．８−−エチルアセテート　　　
　　　　２Ｂ、８　３２．８　　−　　　−トルエン　
　　　　　　　　　　１４％　１６％−−ジプチルフタ
レート　　　　　　　−一一一シエートペースト　３６
．０　６．０　６．０　６．０イソブチルメタクリレー
ト　４ メチルエチルケトン　　　　　　　−　　　−８３，０
５６，０イソプロパツール　　　　　　　−−−１４，
０パイｆル（Ｖｉｔ　ｅｌ　）　Ｐ凡２００’　　　　
　−−−１５，０サントライト　ＭＨＰ７−　　　−　
　　−　　６．０セロバー　ｅＶ−１６０８−＝　　　
−、３，０１００，０１００，０１００，０１００，０
上記配合において使用された各種特定の成分の更に詳細
な同定資料（製造者等）を以下に示す。

１）イーストマンコダック（Ｒａｓｔｍａｎ　Ｋｏｄａ
ｋ）２）モンサンドのトルエンスルホンアミドホルムア
ルデヒド縮合物の８％溶液 ３）例７の薄ライラック（Ｐａｌｅ　Ｌｉ１ａｃ）４）
ローム　アンド　バーズのアクリロイドＢ−６７（Ａａ
ｒｙｌｏｉｄ　Ｂ　−６７）５）イーストマンコダック ６）グツドイヤー（ＧＯＯｄｙｅａｒ）７）モンサンド ８）セロフィルムの阻Ａ、１．Ｂ、　８０％溶液表１お
よび２に開示したネイルポリッシュ配合物の粘度は２０
００ｐθを越えない。この粘度パラメーターはブルック
フィールド粘度計モデルＬＶＴで２５℃で測定されたニ
ュートン粘度である。１ｏｏｃｐθ未満の粘度を有する
ネイルボリッシー配合物の粘度）’！、　６０　ｒｐｍ
で回転するスピンドルＮｏ、ｌを用（１て行った。１０
０　Ｑｐ８〜２００　ｃｐｓの粘度を有するネイルボリ
ッシー配合物の粘度の測定には６ｏ　ｒｐｍで回転−ｔ
−るスピンドルＮｏ、２を使用した。粘度測定は如何な
るチキントロピー粘度も排除するためにネイルポリッシ
ュ組成物を激しく撹拌した後に行われた。より具体的に
は配合物Ａ−Ｆ、、Ｔ、におよびＭ−Ｒは全て約２０ｃ
ｐｓ未満の粘度を有した。配合物りは約２５０ｐＳの粘
度を有した。配合物Ｇ、　Ｈおよび■は約１００ｃｐｓ
の粘度を有し、配合物Ｓは約２０００Ｉ］βの粘度を有
した。本発明のネイルポリッシュ組成物の粘度の上限は
約２０００１）１３であるが、好ましい組成物において
は粘度は約７５　ａｐｅを越えるべきでなく、好ましく
は約ＩＱ　Ｏｐ８〜約８〜０ｐＢの範囲がよいことが判
明した。

表　　　　３ 例 成　　分　　　　　　　　　　　Ａ　　　　　Ｂ　　　
　　Ｏトルエン　　　　　　　　　　　３１．８２　３
１．８２　３１．８２ブチルアセテート　　　　　　　
３０．５９　　３０．５９　３０．５９エチルトルエン
スルホンアミド　　　　９．５４　　　６．６８　　　
７．３５エチルアセテ−）　　　　　　　　８％７　　
８％７　　８％７ニトロセルロース　　　　　　　２．
９５　　２．９５　　２．９５イソプロピルアルコール
　　　　１％３　　１，４３　　１％４アルコール　　
　　　　　　　　　、９７　　　．９７　　　．９７ジ
ブチルフタレート　　　　　　　、８５　　　．８５　
　　．８５樟脳　　　　　　、５２　．５２　．５２ス
テアラルコニクムへクトライト　　　　、１３　　　　
．１３　　　　．１３アルミニウム粉末　　　　　　　
９．００　　９．００　　９．０２シエロシアン醗窮二
鉄アンモニウム　　　−−−−２，７６１００，００１
００，００１００，００表３に開示した例は化粧品等級
の金属薄片化粉末例えばアルミニウム粉末を含有する新
規なネイルポリッシュ配合物に向けられたものである。

配合物ム−０の各号の粘度は全て約４ｏ　ａｐｅ未満で
あることが判明した。

本発明の新規な低粘度ネイルポリッシュ組成物はネイル
ポリッシュを爪に塗布するためのベン状の分配手段と共
に使用するように配合した。それぞれ分配手段および内
部バルブ手段の分解組立図を示す第１図および第２図を
参照すると、この装置は、閉じられた末端１３．および
外部１ジ山１９を有する突出している円筒状先端１７で
形成された開放末端１５を有する円筒状のスリーブ或い
はチューブ部材；スリーブ１１の開放末端内にぴったり
嵌め合わされるようにされ、実質的に円筒状のケース２
３、バネー偏位ピン２５および頂部ノ１ット２７よりな
る実質的に円筒状のバネバルブアセンブリー２目その内
部がスリーブ１１の外部ネジ山１９と咬み合うように設
計された内部ネジ出で形成され更に貯蔵槽部分および多
孔性物質で構成された円筒状のワラシャ−３１を含んで
なる実質的に円筒状のペン先ホルダー２９；実質的に繊
維状の材料で構成され、成形された先端部分３５を有す
る実質的に円筒状の固体ペン先部材３３；およびペン先
３３およびペン先ホルダー２９の両者を核種するように
された実質的に円筒状のキャップ３７を含んでなるもの
である。

本発明の新規なネイルポリッシュは１個以上の混合ボー
ル（図示せず）と共にスリーブｌＯ内に含有されている
。バルブアセンブリー２１はネイルポリッシュの洩れを
防止するものである。ネイルポリッシュのペン先３３へ
の運搬はペン先３３の先端３５を硬い表面に押し当てて
へこませることにより行われる。即ち、これによりペン
先３３の遠方の末端がパルプアセンブリー２１のバネー
偏位ピン２５と係合□　してこれを動かし、それにより
装置のスリーブ１１本体部分に含有されている一定量の
ネイルポリッシュをペン先ホルダーの貯蔵槽部分に排出
する。

この様にして、ネイルポリッシュはペン先ホルダー内の
多孔性ワッシャーおよびペン先の遠方末端と接触し、ペ
ン先先端に流れる。

【図面の簡単な説明】

第１図はネイルポリッシュアプリケーターの構成部品の
分解組立図である。 第２図はアプリケーターに使用されるパルプ手段の分解
組立図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、約２．０％〜約４０．０％の主膜形成剤、３．０％
   〜約２４．０％のシェードペースト、０．０％〜約１２
   ．０％のミルベース、０．０％〜約５０．０％の変性樹
   脂、０．０％〜約１０．０％の界面活性剤、約０．０％
   〜約１０．０％の分散剤、０．０％〜約１０．０％の凝
   集剤および最終組成物の粘度を約２００ｃｐｓ以下にす
   るに十分な量のシンナーを含んでなることを特徴とする
   新規な低粘度ネイルポリシュ組成物。 ２、主膜形成剤がセルロースプロピオネート、セルロー
   スアセテートブチレート、エチルセルロース、スクロー
   スアセテートイソブチレート、ビニルポリマー類、アク
   リル樹脂、ウレタンポリマー類、ナイロン、ポリエステ
   ルおよびアルキドよりなる、特許請求の範囲第１項記載
   のネイルポリシッシュ組成物。 ３、主膜形成剤が約９０ｃｐｓ未満の等級を有するニト
   ロセルロースであり、該膜形成剤が約２．０重量％〜約
   ２０．０重量％の範囲の量で存在し、および組成物が約
   ７５ｃｐｓ以下の粘度を有する、特許請求の範囲第１項
   記載のネイルポリッシュ組成物。 ４、主膜形成剤が１８〜２５ｃｐｓのニトロセルロース
   であり、約５．０重量％〜約１０．０重量％の範囲で存
   在し、組成物が約２５ｃｐｓ未満の粘度を有する、特許
   請求の範囲第３項記載のネイルポリッシュ組成物。 ５、シェードペーストが、少なくとも一種の通常の顔料
   物質と、該主膜形成剤と相溶性の水不溶性保護コロイド
   および主膜形成剤と相溶性である本質的に非−燃焼性の
   低揮発性の可塑剤を含む本質的に非−燃焼性、非−爆発
   性のミルベースとを含んでなる、特許請求の範囲第１項
   記載のネイルポリッシュ組成物。 ６、ミルベース中の保護コロイドが、サッカライドベー
   スポリマー、アクリルポリマー、ポリエステル、アルキ
   ド樹脂、ポリアミド、セルロースポリマー、スルホン化
   ナフタレン、ビニルポリマー、ホルムアルデヒド縮合物
   、ポリウレタン、置換ピロリドンポリマーおよびポリプ
   ロピレンオキシドよりなる群から選ばれる、特許請求の
   範囲第５項記載のネイルポリッシュ組成物。 ７、保護コロイドがトルエンスルホンアミドホルムアル
   デヒド縮合物、メチル−ブチルメタクリレートコポリマ
   ー、スクロースベンゾエート、エチルセルロース、エス
   テル化ペンタエリスリトールポリマーおよびダイマー酸
   ベースポリアミド樹脂よりなる群から選ばれる、特許請
   求の範囲第６項記載のネイルポリッシュ組成物。 ８、ミルベース中に存在する保護コロイドの量がミルベ
   ース成分の約２．０重量％〜約２５．０重量％の範囲で
   ある、特許請求の範囲第７項記載のネイルポリッシュ組
   成物。 ９、ミルベース中の可塑剤がＮ−エチルトルエンスルホ
   ンアミド、ブチルベンジルフタレート、フェノールのア
   ルキルスルホン酸エステルおよびトリクレシルホスフェ
   ートよりなる群から選ばれる、特許請求の範囲第５項記
   載のネイルポリッシュ組成物。 １０、ミルベース中に存在する可塑剤の量がミルベース
   成分の約７５．０重量％〜約９８．０重量％の範囲にあ
   る、特許請求の範囲第５項記載のネイルポリッシュ組成
   物。 １１、シェードペーストが約２０．０重量％〜約８０．
   ０重量％の顔料物質および約２０．０重量％〜約８０．
   ０重量％のミルベースを含んでなる、特許請求の範囲第
   ５項のネイルポリッシュ組成物。 １２、シェードペーストがニトロセルロース顔料チップ
   を含んでなる、特許請求の範囲第１項記載のネイルポリ
   ッシュ組成物。 １３、ニトロセルロースの等級が約８０ｃｐｓ未満であ
   る、特許請求の範囲第１２項記載のネイルポリッシュ組
   成物。 １４、変性樹脂が約４．０％〜約１３．０％の量で存在
   する、特許請求の範囲第１項記載のネイルポリッシュ組
   成物。 １５、変性樹脂がトルエンスルホンアミドホルムアルデ
   ヒド縮合体、スクロースベンゾエート、スクロースアセ
   テートイソブチレート、その共重合体混合物、アルキド
   、ポリビニルアセテート、ポリエステル、アクリル、ホ
   ルムアルデヒド縮合体、ナイロン、ロジン樹脂、アセテ
   ートおよびシクロヘキサノンよりなる群から選ばれる、
   特許請求の範囲第１項記載のネイルポリッシュ組成物。 １６、変性樹脂がサントライト（Ｓａｎｔｏｌｉｔｅ）
   ＭＨＰ、サントライト（Ｓａｎｔｏｌｉｔｅ）ＭＳ８０
   およびセロバー（Ｃｅｌｌｏｖａｒ）−１６０であり、
   該樹脂がそれぞれ１００％固形分に基づき約０．２％〜
   約８．０％、約２．４％〜約５．６％および約１．６％
   〜約３．２％の量で存在する、特許請求の範囲第１項記
   載のネイルポリッシュ組成物。 １７、界面活性剤がアニオン、カチオン、非イオンおよ
   び両性界面活性剤よりなる群から選ばれる、特許請求の
   範囲第１項記載のネイルポリッシュ組成物。 １８、界面活性剤がトロイキドアンティクレーター（Ｔ
   ｒｏｙｋｙｄ　Ａｎｔｉｃｒａｔｅｒ）３６６およびナ
   ルコ（Ｎａｌｃｏ）２３９５である、特許請求の範囲第
   １７項記載のネイルポリッシュ組成物。 １９、凝集剤が０．１〜５．０％の範囲の量で存在する
   、特許請求の範囲第１項記載のネイルポリッシュ組成物
   。 ２０、分散剤がベントン（Ｂｅｎｔｏｎｅ）２７である
   、特許請求の範囲第１項記載のネイルポリッシュ組成物
   。 ２１、更に少なくとも一種の化粧品等級の薄片化金属粉
   を約１．０％〜約１７．０％の範囲の量で含有する、特
   許請求の範囲第１項記載のネイルポリッシュ組成物。 ２２、約５．０％〜約１０．０％のニトロセルロース１
   ８−２５ｃｐｓ、約０．２％〜約８．０％のサントライ
   ト（Ｓａｎｔｏｌｉｔｅ）ＭＨＰ、約２．４％〜約５．
   ６％のサントライト（Ｓａｎｔｏｌｉｔｅ）ＭＳ−８０
   、約１．６％〜約３．２％のセロバー（Ｃｅｌｌｏｖａ
   ｒ）ＣＶ−１６０、約０．０１％〜約１．０％のナルコ
   （Ｎａｌｃｏ）２３９５、約０．０１％〜約１．０％の
   トロイキド（Ｔｒｏｙｋｙｄ）３６６アンティクレータ
   ー（Ａｎｔｉｃｒａｔｅｒ）および０．０％〜約１５．
   ０％のシェードペーストを含んでなり、該組成物が約２
   ００ｃｐｓ以下の粘度を有することを特徴とするネイル
   ポリッシュ組成物。 ２３、更に約３．０％〜約１５％の少なくとも一種の化
   粧品等級の金属粉を含有する、特許請求の範囲第２２項
   記載のネイルポリッシュ組成物。 ２４、実質的に非−剛毛ペン先を有するペンを含んでな
   ることを特徴とする、約２．０％〜約４０．０％の主膜
   形成剤、３．０％〜約２４．０％のシェードペースト、
   ０．０％〜約１２．０％のミルベース、０．０％〜約５
   ０．０％の変性樹脂、０．０％〜約１０．０％の界面活
   性剤、約０．０〜約１０．０％の分散剤、０．０％〜約
   １０．０％の凝集剤および最終組成物の粘度を約２００
   ｃｐｓ以下にするに十分な量のシンナーを含んでなる新
   規な低粘度ネイルポリッシュ組成物を分配するための塗
   布手段。 ２５、実質的に非−剛毛ペン先を有するペンを含んでな
   ることを特徴とする、約５．０％〜約１０．０％のニト
   ロセルロース１８−２５ｃｐｓ、約０．２％〜約８．０
   ％のサントライト（Ｓａｎｔｏｌｉｔｅ）ＭＨＰ、約２
   ．４％〜約５．６％のサントライト（Ｓａｎｔｏｌｉｔ
   ｅ）ＭＳ−８０、約１．６％〜約３．２％のセロバー（
   Ｃｅｌｌｏｖａｒ）ＣＶ−１６０、約０．０１％〜約１
   ．０％のナルコ（Ｎａｌｃｏ）２３９５、約０．０１％
   〜約１．０％のトロイキド（Ｔｒｏｙｋｙｄ）３６６ア
   ンティクレーター（Ａｎｔｉｃｒａｔｅｒ）および０．
   ０％〜約１５．０％のシェードペーストを含んでなり、
   該組成物が約２００ｃｐｓ以下の粘度を有するネイルポ
   リッシュ組成物を分配するための塗布手段。