JPS61152324A - 電解装置 - Google Patents
電解装置Info
- Publication number
- JPS61152324A JPS61152324A JP27823484A JP27823484A JPS61152324A JP S61152324 A JPS61152324 A JP S61152324A JP 27823484 A JP27823484 A JP 27823484A JP 27823484 A JP27823484 A JP 27823484A JP S61152324 A JPS61152324 A JP S61152324A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrolytic
- wire
- tank
- partitioning
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H3/00—Electrochemical machining, i.e. removing metal by passing current between an electrode and a workpiece in the presence of an electrolyte
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は被加工材を移動させて電解加工を行なう電解装
置に関する。
置に関する。
例えばハロゲンランプに設けるモリブデンなどからなる
リボンの製造工程においては、リボン用の線材を所定断
面形状に形成するために電解装置により電解加工するこ
とが行なわれている０ 第４図はハロゲンランプを示すもので、図中１はガラス
バルブ、２はフィラメント、３社ガラスバルブ１の圧着
封止端の内部に設けたリボン、４は外部リードであり、
リボン３はガラスパルプ１の歪割れおよびリークを防止
するために第５図で示すように、断面を流線形としてい
る。そしてこのリボン３を製造するためには、Ｍ、焼結
インゴットを鍛造および圧延加工を経て線材とした後、
線材を電解装置に通して電解加工を施して流線形の断面
に形成し、その後に線材を所定長さに切断してリボンと
している。
リボンの製造工程においては、リボン用の線材を所定断
面形状に形成するために電解装置により電解加工するこ
とが行なわれている０ 第４図はハロゲンランプを示すもので、図中１はガラス
バルブ、２はフィラメント、３社ガラスバルブ１の圧着
封止端の内部に設けたリボン、４は外部リードであり、
リボン３はガラスパルプ１の歪割れおよびリークを防止
するために第５図で示すように、断面を流線形としてい
る。そしてこのリボン３を製造するためには、Ｍ、焼結
インゴットを鍛造および圧延加工を経て線材とした後、
線材を電解装置に通して電解加工を施して流線形の断面
に形成し、その後に線材を所定長さに切断してリボンと
している。
しかして従来線材に電解加工を施す電解装置としては、
長尺の線材を陽極用の電極に接触させて電流を流しなが
ら電解液を入れた電解槽の内部を通過させ、線材と電解
槽に設けた陰極用の電極との間で電解液を介して電流を
流し線材を加工する方式のものが用いられている。
長尺の線材を陽極用の電極に接触させて電流を流しなが
ら電解液を入れた電解槽の内部を通過させ、線材と電解
槽に設けた陰極用の電極との間で電解液を介して電流を
流し線材を加工する方式のものが用いられている。
しかしながらこの方式では、線材に電極を接触させて通
電を行なうものであるから、電極に近い箇所では線材に
対する電解加工が充分性なわれるが、電極から離れた箇
所では電流が不足して線材に対する加工が不充分となり
加工効率が悪いという問題がある。そこで、線材に接触
させる電極の数を増大することが考えられるが、この場
合には電極の接触抵抗により線材の移動速度が制限され
加工能率が低下する。
電を行なうものであるから、電極に近い箇所では線材に
対する電解加工が充分性なわれるが、電極から離れた箇
所では電流が不足して線材に対する加工が不充分となり
加工効率が悪いという問題がある。そこで、線材に接触
させる電極の数を増大することが考えられるが、この場
合には電極の接触抵抗により線材の移動速度が制限され
加工能率が低下する。
本発明は前記事情に基づいてなされたもので、移動する
被加工材に対して電解加工を能率良く行なえる電解装置
を提供するものである。
被加工材に対して電解加工を能率良く行なえる電解装置
を提供するものである。
本発明の電解装置は、電解液を入れた電解槽を複数の檜
に仕切シ、これら各仕切り槽に陽電極と陰電極を交互に
設け、被加工材を電解槽の各仕切り槽に順次通過させて
電解加工を行なうことを特徴とするものである。
に仕切シ、これら各仕切り槽に陽電極と陰電極を交互に
設け、被加工材を電解槽の各仕切り槽に順次通過させて
電解加工を行なうことを特徴とするものである。
すなわち本発明は、被加工材が陰電極を設けた仕切シ槽
を通過する時に両者間に電流が流れて電解加工を行なう
ようにして、被加工材に電極を接触させないようにした
ものである。
を通過する時に両者間に電流が流れて電解加工を行なう
ようにして、被加工材に電極を接触させないようにした
ものである。
以下本発明を図面で示す実施例について説明する。
第１図は本発明の電解装置を７・ロゲンランプに設ける
リボン用線材を電解加工するものに適用した一実施例に
ついて示している。
リボン用線材を電解加工するものに適用した一実施例に
ついて示している。
架台１１には複数の電解槽１２が被加工材である線材Ａ
の移動方向に並べて設けてあり、後述するように長尺の
線材人がリワインダ２７から繰出されワインダ２８で巻
取られて移動する過程で各電解槽１２を順次通過して電
解加工を行なう。電解槽１２の内部は電解液１３が入れ
られ、且つ線材移動方向に間隔奢存した位置に直立して
設けた複数の仕切シ板１４により仕切られ複数の仕切シ
槽１５Ａおよび１５Ｂが交互に形成しである。電解槽１
２の両端壁上端部と各仕切シ壁１４の上端部には線材挿
通部１６が各々形成してあり、線材Ａが各線材挿通部１
６を挿通して電解槽１２の各仕切り槽１５Ａ。
の移動方向に並べて設けてあり、後述するように長尺の
線材人がリワインダ２７から繰出されワインダ２８で巻
取られて移動する過程で各電解槽１２を順次通過して電
解加工を行なう。電解槽１２の内部は電解液１３が入れ
られ、且つ線材移動方向に間隔奢存した位置に直立して
設けた複数の仕切シ板１４により仕切られ複数の仕切シ
槽１５Ａおよび１５Ｂが交互に形成しである。電解槽１
２の両端壁上端部と各仕切シ壁１４の上端部には線材挿
通部１６が各々形成してあり、線材Ａが各線材挿通部１
６を挿通して電解槽１２の各仕切り槽１５Ａ。
１５Ｂ内の上部を通過することができる。電解槽１２の
一方の各仕切り槽１５にの底部には陽電極１７が、他方
の各仕切シ槽ｊ５Ｂの底部には陰電極１８が各々設けて
あり、これら各電極１７、Ｉｌｌは図示しない電気回路
に接続して通電される。つまり陽電極１７と陰電極１８
は各仕切り槽Ｊ５Ａ、１５Ｂに交互に設けられているＯ また、電解槽１２における陰電極Ｉ８を設けた各仕切シ
槽１ｓＢの底部は給液管１９が接続してあり、この給液
管１９はポンプ２０を介して電解液タンク２１に接続さ
れる。なお、電解槽１２に入れた電解液１３は排液管２
２により電解液タンク２１に戻すようになっている。。
一方の各仕切り槽１５にの底部には陽電極１７が、他方
の各仕切シ槽ｊ５Ｂの底部には陰電極１８が各々設けて
あり、これら各電極１７、Ｉｌｌは図示しない電気回路
に接続して通電される。つまり陽電極１７と陰電極１８
は各仕切り槽Ｊ５Ａ、１５Ｂに交互に設けられているＯ また、電解槽１２における陰電極Ｉ８を設けた各仕切シ
槽１ｓＢの底部は給液管１９が接続してあり、この給液
管１９はポンプ２０を介して電解液タンク２１に接続さ
れる。なお、電解槽１２に入れた電解液１３は排液管２
２により電解液タンク２１に戻すようになっている。。
さらに電解槽１２の各仕切シ槽１５Ｂには、仕切シ槽１
５Ｂを通過する線材Ａの上側および下側から挾むように
位置して一対の加工治具２３．２３が設けてあり、これ
らの治具２３゜２３は例えば仕切シ槽１５Ｂに設けた支
持部材２４．２４に取付具２５およびコイルばね２６を
介して支持されている。加工治具２３，２３は線材人の
上下側において線材Ａの電解加工を施さない部分の表面
に接近してその表面を覆うものである。具体的には線材
人は第５図で示すように流線形断面をなすので、加工治
具２３゜２３は線材人の両側縁部を除いた部分の表面に
接近して冴う。なお、加工治具は耐熱性に優れた絶縁材
料例えば四沸化−壬チレン樹脂やセラミックスで形成し
、加工性も考慮した場合には四沸化エチレン樹脂で形成
する。。
５Ｂを通過する線材Ａの上側および下側から挾むように
位置して一対の加工治具２３．２３が設けてあり、これ
らの治具２３゜２３は例えば仕切シ槽１５Ｂに設けた支
持部材２４．２４に取付具２５およびコイルばね２６を
介して支持されている。加工治具２３，２３は線材人の
上下側において線材Ａの電解加工を施さない部分の表面
に接近してその表面を覆うものである。具体的には線材
人は第５図で示すように流線形断面をなすので、加工治
具２３゜２３は線材人の両側縁部を除いた部分の表面に
接近して冴う。なお、加工治具は耐熱性に優れた絶縁材
料例えば四沸化−壬チレン樹脂やセラミックスで形成し
、加工性も考慮した場合には四沸化エチレン樹脂で形成
する。。
なお、図中２２は架台１１の一端部に設けた線材Ａを巻
回するためのりワインダ、２８は架台１ノの他端部に設
けた電解加工を終えた線材Ａを巻取るだめのワインダ、
２９はワインダ２７駆動用のモータ、３０は水成槽、３
１は乾操炉、３２は線材ガイドである。
回するためのりワインダ、２８は架台１ノの他端部に設
けた電解加工を終えた線材Ａを巻取るだめのワインダ、
２９はワインダ２７駆動用のモータ、３０は水成槽、３
１は乾操炉、３２は線材ガイドである。
このように構成した電解装置では、線材Ａをリワインダ
２７から繰出して各電解槽１２の各仕切シ槽７５Ａ、１
！３Ｂに通した後に水洗槽３０および乾燥炉３Ｉに通し
てワインダ２８に巻付け、モータ２９によりワインダ２
８を回転して線材Ａを巻取りながら水平方向に移動させ
る。線材Ａは移動しながら電解？１１２の各仕切シ槽Ｊ
５Ａおよび１５Ｂを交互に順次通過する。
２７から繰出して各電解槽１２の各仕切シ槽７５Ａ、１
！３Ｂに通した後に水洗槽３０および乾燥炉３Ｉに通し
てワインダ２８に巻付け、モータ２９によりワインダ２
８を回転して線材Ａを巻取りながら水平方向に移動させ
る。線材Ａは移動しながら電解？１１２の各仕切シ槽Ｊ
５Ａおよび１５Ｂを交互に順次通過する。
線材Ａが陽電極１７を設けた仕切り槽Ｉ５Ａを通過する
時には、線材Ａが陽電極１７に対応して陰極となるので
、線材Ａに対する電解加工は行なわれない。また、線材
Ａが陰電極１８を設けた仕切シ槽１５Ｂを通過する時に
は、線材Ａが陽極となるので、仕切シ槽１５Ｂ内の電解
液１３を介して線材Ａと陰電極１８との間に電流が流れ
る状態で線材Ａの一部が溶かされて電解加工が行なわれ
る。そして、線材Ａが仕切シ槽１５Ｂを通過する時には
仕切シ槽１５Ｂに設けた一対の加工治具２３，２３の間
を通る０ここで、加工治具２３，２３に覆われた線材人
の部分の電解加工が行なわれず、加工治具２３゜２３に
覆われない線材Ａの両側線部が溶かされて電解加工が行
なわれる。このため線材人の断面が所定の形状となるよ
うに効果的に電解加工を行なえる０また、線材人の必要
とする部分のみが電解加工され不必要な部分の加工を行
なわないので、線材Ａの材料の歩留りが向上するととも
に、電流値を小さくすることができ、電解液１３の液温
および液濃度の変動が小さくなり線材Ａの形状が均一と
なる。まえ、ポンプ２０の運転により電解液タンク２１
内の電解液１３を給液管１９を介して電解槽１２の各仕
切シ槽１ｓＢの内部に供給する。電解液１３は各仕切シ
槽Ｚ５Ｂの底部から供給されて上昇する。電解加工によ
り発生したガスが気泡となって線材Ａの下面に付着する
ので、供給された電解液１３の流れにより線材Ａに付着
した気泡が取り除かれる。このため気泡の付着により線
材人に肌あれを生ずることがない０仕切シ槽１５Ｂ内の
電解液１３は給液管１９により供給される電解液の流れ
により攪拌され液温か均一となり電解条件を一定に保持
できる。
時には、線材Ａが陽電極１７に対応して陰極となるので
、線材Ａに対する電解加工は行なわれない。また、線材
Ａが陰電極１８を設けた仕切シ槽１５Ｂを通過する時に
は、線材Ａが陽極となるので、仕切シ槽１５Ｂ内の電解
液１３を介して線材Ａと陰電極１８との間に電流が流れ
る状態で線材Ａの一部が溶かされて電解加工が行なわれ
る。そして、線材Ａが仕切シ槽１５Ｂを通過する時には
仕切シ槽１５Ｂに設けた一対の加工治具２３，２３の間
を通る０ここで、加工治具２３，２３に覆われた線材人
の部分の電解加工が行なわれず、加工治具２３゜２３に
覆われない線材Ａの両側線部が溶かされて電解加工が行
なわれる。このため線材人の断面が所定の形状となるよ
うに効果的に電解加工を行なえる０また、線材人の必要
とする部分のみが電解加工され不必要な部分の加工を行
なわないので、線材Ａの材料の歩留りが向上するととも
に、電流値を小さくすることができ、電解液１３の液温
および液濃度の変動が小さくなり線材Ａの形状が均一と
なる。まえ、ポンプ２０の運転により電解液タンク２１
内の電解液１３を給液管１９を介して電解槽１２の各仕
切シ槽１ｓＢの内部に供給する。電解液１３は各仕切シ
槽Ｚ５Ｂの底部から供給されて上昇する。電解加工によ
り発生したガスが気泡となって線材Ａの下面に付着する
ので、供給された電解液１３の流れにより線材Ａに付着
した気泡が取り除かれる。このため気泡の付着により線
材人に肌あれを生ずることがない０仕切シ槽１５Ｂ内の
電解液１３は給液管１９により供給される電解液の流れ
により攪拌され液温か均一となり電解条件を一定に保持
できる。
このようにして線材人は各電解槽１２の各仕切シ槽１５
Ｂを通過することによって電解加工がなされ流線形の断
面に形成される０ここで電解槽１２の陰電極１８を設け
た各仕切り槽１５Ｂでは線材人に均一な電流が流れて均
一な電解加工を行なえて加工効率が良好である。しかも
線材Ａに電極を接触させることがないので、電極の接触
抵抗により線材Ａの移動速度が制限されることがなく加
工能率が高く、また、線材Ａを移動速度を高めるために
無理に引張って破断させるような危険性もない。
Ｂを通過することによって電解加工がなされ流線形の断
面に形成される０ここで電解槽１２の陰電極１８を設け
た各仕切り槽１５Ｂでは線材人に均一な電流が流れて均
一な電解加工を行なえて加工効率が良好である。しかも
線材Ａに電極を接触させることがないので、電極の接触
抵抗により線材Ａの移動速度が制限されることがなく加
工能率が高く、また、線材Ａを移動速度を高めるために
無理に引張って破断させるような危険性もない。
なお、線材Ａは電解槽１２を通過した後に水洗槽３０で
水洗した後に乾燥炉３１で乾燥してワインダ２８で巻取
る０また、線材Ａは所定長さに切シ離してリボノを形成
する。
水洗した後に乾燥炉３１で乾燥してワインダ２８で巻取
る０また、線材Ａは所定長さに切シ離してリボノを形成
する。
以上説明したように本発明によれば、被加工材を電解槽
の陰電極を設けた仕切）槽に通過させることにより、効
率良く電解加工を行なうことができる。
の陰電極を設けた仕切）槽に通過させることにより、効
率良く電解加工を行なうことができる。
第１図ないし第３図は本発明の一実施例を示すもので、
第１図は電解装置を示す縦断面図、第２図は加工治具を
示す第３図ｎ−ｕ線に沿う断面図、第３図は第２図１−
曙線ｔζ沿う断面図、第４図はノ・ロゲンランプを示す
説明図、第５図はハロゲンランプのリボンを示す斜視図
である。 １１・・・架台、１２・・・電解槽、１３・・・電解液
、１４・・・仕切シ板、１５に、１５Ｂ・・・仕切シ槽
、１７・・・陽電極、１８・・・陰電極、１９・・・給
液管、２０・・・ポンプ、２３・・・加工治具。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第４図 第５図
第１図は電解装置を示す縦断面図、第２図は加工治具を
示す第３図ｎ−ｕ線に沿う断面図、第３図は第２図１−
曙線ｔζ沿う断面図、第４図はノ・ロゲンランプを示す
説明図、第５図はハロゲンランプのリボンを示す斜視図
である。 １１・・・架台、１２・・・電解槽、１３・・・電解液
、１４・・・仕切シ板、１５に、１５Ｂ・・・仕切シ槽
、１７・・・陽電極、１８・・・陰電極、１９・・・給
液管、２０・・・ポンプ、２３・・・加工治具。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第４図 第５図
Claims (3)
- （１）電解液を入れた電解槽を複数の槽に仕切り、これ
ら各仕切り槽に陽電極と陰電極を各々交互に設け、被加
工材を前記各仕切り槽に順次通過させて電解加工を行な
うことを特徴とする電解装置。 - （２）電解槽における陰電極を設けた仕切り槽に電解液
を供給する特許請求の範囲第１項に記載の電解装置。 - （３）電解槽における陰電極を設けた仕切り槽に、被加
工材の一部を覆う治具を設けてなる特許請求の範囲第１
項または第２項に記載の電解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27823484A JPS61152324A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 電解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27823484A JPS61152324A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 電解装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61152324A true JPS61152324A (ja) | 1986-07-11 |
Family
ID=17594484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27823484A Pending JPS61152324A (ja) | 1984-12-27 | 1984-12-27 | 電解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61152324A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01141094A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
| JPH0367074U (ja) * | 1989-10-31 | 1991-06-28 | ||
| JPH06285719A (ja) * | 1993-04-06 | 1994-10-11 | Yuken Kogyo Kk | 連続電解研磨方法及び連続電解研磨装置 |
| DE102013219839A1 (de) | 2013-10-01 | 2015-04-16 | lP RENA GmbH | Nasschemische Kontaktierung zur Herstellung von porösem Silizium |
-
1984
- 1984-12-27 JP JP27823484A patent/JPS61152324A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01141094A (ja) * | 1987-11-27 | 1989-06-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 印刷版用アルミニウム支持体の製造方法 |
| JPH0367074U (ja) * | 1989-10-31 | 1991-06-28 | ||
| JPH06285719A (ja) * | 1993-04-06 | 1994-10-11 | Yuken Kogyo Kk | 連続電解研磨方法及び連続電解研磨装置 |
| DE102013219839A1 (de) | 2013-10-01 | 2015-04-16 | lP RENA GmbH | Nasschemische Kontaktierung zur Herstellung von porösem Silizium |
| DE102013219839B4 (de) | 2013-10-01 | 2018-08-30 | RENA Technologies GmbH | Vorrichtung zur Porosifizierung eines Siliziumsubstrates |
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