JPS61147491A

JPS61147491A - 高周波加熱装置

Info

Publication number: JPS61147491A
Application number: JP26945884A
Authority: JP
Inventors: 正明加藤
Original assignee: Mitsubishi Pencil Co Ltd
Current assignee: Mitsubishi Pencil Co Ltd
Priority date: 1984-12-20
Filing date: 1984-12-20
Publication date: 1986-07-05

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は部材を高周波により加熱する高周波加熱装置に
関する。

（従来の技術）従来の高周波加熱装置に於けるインダクタ（誘導子）　
（ｌａ）、（ｌｂ入（ｌｃ）は第６図乃至第８図に示す
ように導体がコイル状になって被加熱物をとり囲むよう
な構造となっている。

（発明が解決しようとする問題点）斯る従来のインダクタによって被加熱物を加熱する場合
、特に被加熱物の全体でなく一部のみを加熱する場合は
位置寸法精度をだすのが困難であり、又、インダクタに
塵あるいは油等が付着して酸化した場合は短絡を生じる
虞れがあリ、更に被加熱物が微小である場合はコイル密
度が大となって連続運転時にコイルの自冷効果が望めず
コイル温度が上昇してしまう等の欠点があった。

本発明の目的はインダクタの塵及び油の付着による短絡
が防止され、又、温度上昇が防止し易く更に被加熱物の
位置寸法精度を出し易い高周波加熱装置を提供すること
にある。

（問題点を解決するための手段）上記の目的を達成するために、本発明は、被加熱物挿入
孔（２）を有し当該挿入孔（２）から外部に通じるよう
設けた溝（３）に絶縁体（４）を固着しこの絶縁体（４
）の両側に通電部（５）を設け更に冷却水の流通孔（６
）を有して支持板（７）に位置決め固定される導体のイ
ンダクタ（１ｄ）と、被加熱物ピ）を固定し当該被加熱
物・（（Ｊを前記のインダクタ（１ｄ）の挿入孔（２）
内に位置せしめるようセットされる被加熱物供給体（８
）と、被加熱物ビ】がセットされるインダクタ（１ｄ）
の周囲に不活性ガスを充満する気密なガス室（９）とを
備えたことを特徴とする高周波加熱装置を構成したもの
である。

（実施例）本発明の実施例を図面に基づき説明する。

まず第１図は本装置の分解斜視図であり、本装置はイン
ダクタ（ｌｄ入入船加熱物供給体８）、ブロックａ１、
支持板（力、絶縁台ｑυ、ガス供給管αり、固定ネジ（
１３、冷却水用管（ＩＪ、ｉｉ！ｌ寓里電極（１抛）（
１ａｂ）４り部品から成る。次に′！Ｊ２図はインダク
タ（１ｄ）の平面図、第３図は第２図Ａ−Ａ線断面図、
第４図はインダクタ（１ｄ）の側面図を示したものであ
り、インダクタ（１ｄ）は導体で矩形板状を呈し、上面
には凹部囲を有してその中央部に被加熱物臀）の挿入孔
（２）を有し、当該挿入孔（２）から凹部αｅが続く一
側辺まで溝（３）が開通されて同所に絶縁体（４）が固
着され、絶縁体（４）の両側の一側辺近傍には通電用電
極（１３ａ）　（１５ｂ）を取り付けて通電部（５）と
なす電極取付孔αηが設けられ、更にその対辺には肉厚
部に冷却水の流通孔（６）が横方向に設けられその両端
の上面開口部Ｃ１ｌには冷却水用管Ｉが連結可能とされ
、凹部（ｌｅの両横側端部には固定用取付孔四が設けら
れた構造を有している。

次に第５図は組立状態の部分断面図を示すもので、被加
熱物ｑ）は被加熱物供給体（８）の所定位置に位置決め
して固定され、又、インダクタ（１ｄ）はその固定用取
付孔−に挿入される固定ネジ（１３によって絶縁台（Ｌ
ηの下面部に固着される。インダクタ（１ｄ）はこの絶
縁台（１υを介して支持板（７）に位置決めして取り付
けられることになり、支持板（７）と被加熱物供給体（
８）の位置精度は出しやすいため、インダクタ（ｌｄ）
と被加熱物（イＪの相対位置もその精度が保証しやすい
。絶縁台αυの下端外周部には中空な円板状のブロック
（ＩＱが位置するためインダクタ（１ｄ）は絶縁台αυ
への取付状態に於てブロック四の中空部へ没入する。又
、被加熱物供給体（８）が固定した被加熱物（イ）をイ
ンダクタ（１ｄ）の挿入孔（２）に挿入した状態では被
加熱物供給体（８）の上面とブロック四下面部に周設さ
れたパツキン（至）とは気密に当接する。従ってインダ
クタ（１ｄ）の周囲部にブロックＱｌの内面、絶縁台α
υの下面及び被加熱物供給体（８）の上面によって囲ま
れた気密な空隙部が形成され、この空隙部には絶縁台α
υを貫通するガス供給管（１７Ｊが連通されて不活性ガ
スを供給充満されガス室（９）が構成されることになる
。

尚、インダクタ（１ｄ）の上面部の通電部が位置する凹
部−及び挿入孔（２）以外の溝（３）には接着剤−が詰
め込まれ（第２図乃至第３図参照）、インダクタ（１ｄ
）の上下面のガス室（９）は挿入孔（２）のみによって
連通し他部は密閉されている。

尚、インダクタ（１ｄ）の冷却水流通孔（６）に連結す
る冷均水用管Ｉ及び通電用電極（１５ａ）（１５ｂ）は
共に絶縁台住υを貫通して外部に突出する。

（作　用）本発明で１坊コインダクタ（１ｄ）が支持板（７）に位
置決め固定され、又、被加熱物げ）は被加熱物供給体（
８）に位置決めして固定され、支持板（７）と被加熱物
供給体とは組付精度が出し易いためインダクタ（１ｄ）
と被加熱物ピ）の位置精度も保障し易くなる。次にイン
ダクタ（ｌａ）には＃（３）が形成されてこの溝（３）
に絶縁体（４）が固着されこの絶縁体（４）の両側に通
電部（５）が配されるため電流は通電用電極（１５ａ）
力１ら溝（３）の縁部（ｚｘａ）（第２図参照）挿入孔
（２）と溝（３）の連通部（２２ａ）、挿入孔（２）の
周縁部の、挿入孔（２）と溝（３）の連通部（２２ｂ）
、　　溝（３）の縁部（２ｘｂ）を順次経由して再び通
電用電極（１５ｂ　）に戻ることになり、特に挿入孔＜
２）と溝（３）の連通部（ｚｚａ）（２２ｂ）に於ける
溝（３）の幅は被加熱物（イ）の全周を加熱するため微
小にする必要があってここに塵や油等の酸化物が付着し
て短絡を発生しやすかったものであるが、ここ？＝絶縁
体（４）が存在することとなったため短絡の虞が解消す
ることになる。又、インダクタ（１ｄ）の周囲を囲繞す
るガス室（８）が設けられここに不活性ガス例えばアル
ゴンガスが充満されるため被加熱物（イ）が酸化される
こともなく塵や油等の酸化物の発生も阻止できることに
なる。更にインダクタ（ｌｄ）には冷却水の流通孔（６
）が設けられ加熱時にも冷却が行われるためインダクタ
（ｌｄ）の温度上昇も防止可能となる。

（発明の効果）本発明は上記した構成及び作用を有することにより、被
加熱物とインダクタの位置精度が出し易くなり、酸化物
の悪影響を排除できることになり、インダクタの短絡が
防止されることになり、更にインダクタの温度上昇を阻
止できることになる等の効果を得、る。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第５図は本発明の実施例を示すもので、第１
図は分解斜視図、第２図はインダクタの平面図、′！Ｊ
３図は第２図Ａ−Ａ線の断面図、第４図はインダクタの
側面図、＄Ｓ図は組宜状態の部分断面図、第６図乃至第
８図は従来例のインダクタの斜視図である。（ｌａ）、（ｌｂ）、（ｌａ入（ｌｄ）　・・・インダ
クタ、＜２１−・・挿入孔、（３）・・・溝、（４）・
・・絶縁体、（５）・・・通電部、（６）・・・冷却水
の流通孔、（７）・・・支持板、（８）・・・被加熱物
供給体、（９）・・・ガス室、傾・・・ブロック、ｑυ
・・・絶縁台、ｕ３・・・ガス供給管、０・・・固定ネ
ジ、１４・・・冷却水用管、（１５ａ）、（１５ｂ）・
・・通電用電極、αｅ・・・凹部、αＤ・・・電極取付
孔、餞・・・開口部、住９・・・固定用取付孔、ｔｎ−
・・パツキン、（２１ａ　）、（２１ｂ）　・・・溝の
縁部、（２２ａ）（ｚｚｂ）・・・挿入孔と溝の連通部
、脅・・・挿入孔の周縁部、（イ）・・・被加熱物。１ｄ・・・インダクタ２・・・挿入孔５・・・通電部６・・・冷却水の流通孔１ｄ・・・インダクタ２・・・挿入孔４・・・絶縁体６・・・冷却水の流通孔第３図１ｄ・・・インダクタ５・・・溝４・・・絶縁体第４図１ｄ・・・インダクタ　　　　１０　・・ブロック７　
・・支持板　　　　　　工１・・絶縁台８　・・彼加熱
物供給体　　１２・・・ガス供給管９　・・・ガス室第５図コ第６図？第７図 □ 一勉 ℃：フ −／Ｃ

Claims

【特許請求の範囲】

被加熱物挿入孔を有し当該挿入孔から外部に通じるよう
設けた溝に絶縁体を固着しこの絶縁体の両側に通電部を
設け更に冷却水の流通孔を有して支持板に位置決め固定
される導体のインダクタと、被加熱物を固定し当該被加
熱物を前記のインダクタの挿入孔内に位置せしめるよう
セットされる被加熱物供給体と、被加熱物がセットされ
るインダクタの周囲に不活性ガスを充満する気密なガス
室とを備えたことを特徴とする高周波加熱装置。