JPS61143400A - アクチノマイシンd様ペプチド - Google Patents
アクチノマイシンd様ペプチドInfo
- Publication number
- JPS61143400A JPS61143400A JP59267122A JP26712284A JPS61143400A JP S61143400 A JPS61143400 A JP S61143400A JP 59267122 A JP59267122 A JP 59267122A JP 26712284 A JP26712284 A JP 26712284A JP S61143400 A JPS61143400 A JP S61143400A
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- JP
- Japan
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- compound
- reaction
- formula
- residue
- compound shown
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は抗菌活性を有する新規なアクチノマイシンD
様ペプチドに関するものであシ、医療の分野で利用され
る。
様ペプチドに関するものであシ、医療の分野で利用され
る。
アクチノマイシンDは後記一般式CI)においてRがメ
チμ基の化合物でアシ、その類似ペプチドとしてはRが
水素原子である(Ser’)、−アクチノマイシンDが
知られている( Serはセリン残基を意味する)。、
これらの合成法はケミヒエ・ベリヒテ(Chemj−c
he Berichte )第101巻第1312頁、
ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エテ((JOlLrnal of the A11le
r:LeanChem:heal 5ociety)第
92巻第3771頁、7”L/チンφオオンザ・ケミカ
ル・ソサイエテイ・オン・ジャ/< ン(Bullet
i、n of the Chemical 5o−ci
ety of Japan)第53巻第1352頁、同
第55巻第3237頁などに記載されている。
チμ基の化合物でアシ、その類似ペプチドとしてはRが
水素原子である(Ser’)、−アクチノマイシンDが
知られている( Serはセリン残基を意味する)。、
これらの合成法はケミヒエ・ベリヒテ(Chemj−c
he Berichte )第101巻第1312頁、
ジャーナル・オプ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エテ((JOlLrnal of the A11le
r:LeanChem:heal 5ociety)第
92巻第3771頁、7”L/チンφオオンザ・ケミカ
ル・ソサイエテイ・オン・ジャ/< ン(Bullet
i、n of the Chemical 5o−ci
ety of Japan)第53巻第1352頁、同
第55巻第3237頁などに記載されている。
この発明は、抗菌活性を有する新規なアクチノマイシン
D様ペプチドを提供することを目的とするものである。
D様ペプチドを提供することを目的とするものである。
この発明の目的化合物であるアクチノマイシンD様ペプ
チドは次の一般式〔I〕で表される。
チドは次の一般式〔I〕で表される。
(式中、Valはバリン残基、Proはプロリン残基、
Sarはサルコシン残基、MeValはN−メチルバリ
ン残基、Rはエチル基またはフエニlし基をそれぞれ意
味する) この発明の目的物質CI)は次の方法によシ製造される
。
Sarはサルコシン残基、MeValはN−メチルバリ
ン残基、Rはエチル基またはフエニlし基をそれぞれ意
味する) この発明の目的物質CI)は次の方法によシ製造される
。
製造法
Z−NH−OH−000H([)
\l
CH
Boc−Sar−MeVal−0
H−3ar−MeVal−O
R−CH、(■〕
Z−NH−OH−Co−D−Val−Pro−OH(式
中、Zはベンジlレオキ7カルボニlし基、Buは第三
級グチル基、BoCは第三級ブトキシカルボ二p基、B
z上はベンジμ基をそれぞれ意味し、Val、pro、
Sar、 MeValオjびRはそれぞれ前と同じ意
味である) 上記の化合物〔工〕、(II)、(IT)、C■〕、〔
■〕、〔■〕、〔x〕および〔几〕における部分構造式
:OH ■ −NH−C!H−CO− (式中、Rは前と同じ意味) には2個の不斉炭素原子によ!l14種の光学異性体が
存在するが、この明細書では特にことわりのない限9、
α炭素の立体配置はL体でありβ炭素の 。
中、Zはベンジlレオキ7カルボニlし基、Buは第三
級グチル基、BoCは第三級ブトキシカルボ二p基、B
z上はベンジμ基をそれぞれ意味し、Val、pro、
Sar、 MeValオjびRはそれぞれ前と同じ意
味である) 上記の化合物〔工〕、(II)、(IT)、C■〕、〔
■〕、〔■〕、〔x〕および〔几〕における部分構造式
:OH ■ −NH−C!H−CO− (式中、Rは前と同じ意味) には2個の不斉炭素原子によ!l14種の光学異性体が
存在するが、この明細書では特にことわりのない限9、
α炭素の立体配置はL体でありβ炭素の 。
立体配置はスレオ体であるものとする。
また、化合物CDにおける部分構造式:(式中、Rは前
と同じ意味) にも2個の不斉炭素原子によシ4種の光学異性体が存在
するが、この明細書では特にことわυのない限シ、α炭
素の立体配置はL体であシβ炭素の立体配置はシス体で
あるものとする。
と同じ意味) にも2個の不斉炭素原子によシ4種の光学異性体が存在
するが、この明細書では特にことわυのない限シ、α炭
素の立体配置はL体であシβ炭素の立体配置はシス体で
あるものとする。
前記の製造法における各化合物中の非天然型アミノ酸お
よびイミノ酸残基について、以下の説明では次表に示す
名称および略号を用いる。
よびイミノ酸残基について、以下の説明では次表に示す
名称および略号を用いる。
また、以下の説明では、パールマン(perman )
著ノストラクチャーアクテイビテイ・リレイショ7シツ
ブス・アマング・ザ・セミシンセテイツク・アンチバイ
オ7−1クス(5tructure −Activit
yRelationships among the
semj−8ynthetj−CAntj−bioti
cs )第427頁から第529頁中に記載されている
略号に従い、一般式〔1〕においてRが共にエチル基で
ある化合物を(E(yNva’ ) 2−アクチノマイ
シンD、Rが共にフエニル基である化合物It (Ph
5er”) 2−アクチノマイシンDとそれぞれ命名す
る。
著ノストラクチャーアクテイビテイ・リレイショ7シツ
ブス・アマング・ザ・セミシンセテイツク・アンチバイ
オ7−1クス(5tructure −Activit
yRelationships among the
semj−8ynthetj−CAntj−bioti
cs )第427頁から第529頁中に記載されている
略号に従い、一般式〔1〕においてRが共にエチル基で
ある化合物を(E(yNva’ ) 2−アクチノマイ
シンD、Rが共にフエニル基である化合物It (Ph
5er”) 2−アクチノマイシンDとそれぞれ命名す
る。
目的化合物CI)の製造法について以下に詳細に説明す
る。
る。
工程1
化合物(/ff)は化合物(ID tたはそのカルボキ
シ基における反応性誘導体と化合物(I[[)とを反応
させることにより製造することができる0化合物〔■〕
のカルボキシ基における反応性誘導体としては、酸無水
物、エステル、酸アジド等が含まれる。
シ基における反応性誘導体と化合物(I[[)とを反応
させることにより製造することができる0化合物〔■〕
のカルボキシ基における反応性誘導体としては、酸無水
物、エステル、酸アジド等が含まれる。
化合物(II)が遊離のカルボン酸の形で使用される場
合には、慣用の縮合剤、例えばN、N’−ジシクロへキ
シルカルボジイミド、N−エチ/l/ −N’−(3−
ジメチルアミノプロピル ド、ジメチμホスホニμチオイルクロリド、塩化チオニ
ル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソブチル等の存在
下で反応を行うのが好ましい。
合には、慣用の縮合剤、例えばN、N’−ジシクロへキ
シルカルボジイミド、N−エチ/l/ −N’−(3−
ジメチルアミノプロピル ド、ジメチμホスホニμチオイルクロリド、塩化チオニ
ル、クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソブチル等の存在
下で反応を行うのが好ましい。
この反応は通常、水、ジオキサン、クロロホルム、塩化
メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エ
チル、N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジンのよう
な慣用の溶媒中で行なわれるが反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であればいずれも使用することができる。
メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エ
チル、N,N−ジメチルホルムアミド、ピリジンのよう
な慣用の溶媒中で行なわれるが反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であればいずれも使用することができる。
反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし室温
で反応を行うのが好ましい。
で反応を行うのが好ましい。
工程2
上記の工程1で得られる化合物(IV)’を次いで分子
内脱水縮合反応に付す。
内脱水縮合反応に付す。
この反応は、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボ
ン酸ジイソプロピル等のアゾジカルボン酸エステル及び
トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物を化合物
(N)に作用させることによシ行うことができる。
ン酸ジイソプロピル等のアゾジカルボン酸エステル及び
トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物を化合物
(N)に作用させることによシ行うことができる。
この反応は、通常、溶媒中で行われ、溶媒としテハ、例
えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル
、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルセロソルブ、ジエチルセロソルブ 乾燥したものを使用するのが好ましい。
えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトニトリル
、N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ジメチルセロソルブ、ジエチルセロソルブ 乾燥したものを使用するのが好ましい。
反応温度は特に限定されないが、通常、冷却下ないし室
温で反応が行われる。
温で反応が行われる。
工程3
上記の工程2で得られる化合物(V)に次いで化合物(
Vl)を反応させる。
Vl)を反応させる。
この反応は通常、クロロホルム、塩化メチレン等の有機
溶媒中、室温ないし加温下で行うことができる。また、
この反応は、三フッ化ホウ素等のルイス酸の存在下で行
ってもよい0 工程4 上記の工程3で得られる化合物〔■〕を次いでそのサル
コシン残基におけるアミノ保護基およびプロリン残基に
おけるカルボキン保護基の脱離反応に付す。
溶媒中、室温ないし加温下で行うことができる。また、
この反応は、三フッ化ホウ素等のルイス酸の存在下で行
ってもよい0 工程4 上記の工程3で得られる化合物〔■〕を次いでそのサル
コシン残基におけるアミノ保護基およびプロリン残基に
おけるカルボキン保護基の脱離反応に付す。
これら保護基の脱離反応は、ギ酸、トリフルオロ酢酸、
塩化水素等の酸の存在下で行うことができる。
塩化水素等の酸の存在下で行うことができる。
この反応は通常、水、酢酸、ジオキサン、アセトン、ク
ロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中で行
うことができる。この反応で使用される酸が液体の場合
には、溶媒を兼もて用いてもよい。
ロロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒中で行
うことができる。この反応で使用される酸が液体の場合
には、溶媒を兼もて用いてもよい。
反応温度は特に限定されず、通常、冷却下ないし室温で
反応が行われる。
反応が行われる。
この反応で得られる化合物〔■〕は所望により、そのカ
ルボキン基における反応性誘導体としたのち、次の工程
に付してもよい。
ルボキン基における反応性誘導体としたのち、次の工程
に付してもよい。
工程5
上記の工程4で得られる化合物〔■〕またはそのカルボ
キン基における反応性誘導体を次いで分子内環化反応に
付す。
キン基における反応性誘導体を次いで分子内環化反応に
付す。
原料化合物〔■〕のカルボキン基における反応性誘導体
としては、前記の工程lで例示した反応性誘導体と同様
のものが挙げられる。
としては、前記の工程lで例示した反応性誘導体と同様
のものが挙げられる。
この反応は前記の工程1と実質的に同様の方法で行うこ
とができるが、分子間反応を抑制するためにはこの反応
を高希釈条件下で行うのが好ましい0 工程6 上記の工程5で得られる化合物Cff)を次いでそのア
ミン保護基の脱離反応に付す。
とができるが、分子間反応を抑制するためにはこの反応
を高希釈条件下で行うのが好ましい0 工程6 上記の工程5で得られる化合物Cff)を次いでそのア
ミン保護基の脱離反応に付す。
この脱離反応は、パラジウム炭素、パラジウム黒等の触
媒の存在下に接触還元によシ脱離させる方法あるいはフ
ッ化水素酸、臭化水素の酢酸溶液等の酸によシ脱離させ
る方法など、慣用の方法で行うことができる。
媒の存在下に接触還元によシ脱離させる方法あるいはフ
ッ化水素酸、臭化水素の酢酸溶液等の酸によシ脱離させ
る方法など、慣用の方法で行うことができる。
この反応は通常、メタノール、エタノ−)V,酢酸、ク
ロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒中で行われるが
、使用される酸が液体のときは1溶媒を兼ねて用いても
よい。
ロロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒中で行われるが
、使用される酸が液体のときは1溶媒を兼ねて用いても
よい。
反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし室温
で反応が行われる。
で反応が行われる。
工程7
上記の工程6で得られる化合物(J)に次いで化合物(
n)またはそのカルボキシ基における反応性誘導体を反
応させる。
n)またはそのカルボキシ基における反応性誘導体を反
応させる。
原料化合物[1.XDのカルボキン基における反応性誘
導体としては、前記の工程lで例示した反応性誘導体と
同様のものおよび酸クロリド、酸プロミド等の酸ハロゲ
ン化物などが挙げられる。
導体としては、前記の工程lで例示した反応性誘導体と
同様のものおよび酸クロリド、酸プロミド等の酸ハロゲ
ン化物などが挙げられる。
この反応は工程1と実質的に同様の方法で行うことがで
きるが、この反応は通常暗所中で行われる。
きるが、この反応は通常暗所中で行われる。
工程8
前記の工程7で得られる化合物(Xll)’e次いで還
元反応に付した後、三量化することによシ目的とする化
合物(:I) t−製造することができる。
元反応に付した後、三量化することによシ目的とする化
合物(:I) t−製造することができる。
還元反応は、パラジウム炭素、パラジウム黒等を触媒と
して用いる接触還元によシ行うことができる。
して用いる接触還元によシ行うことができる。
この反応は通常、メタノール、エタノール、酢酸、クロ
ロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒中、室温ないし加
温下で行われる。なおこの反応も、通常暗所中で行われ
る0 上記の還元反応で生成する化合物は常法に従って単離で
きるが特に単離しないで次の反応に付すこともできる。
ロホルム、塩化メチレン等の有機溶媒中、室温ないし加
温下で行われる。なおこの反応も、通常暗所中で行われ
る0 上記の還元反応で生成する化合物は常法に従って単離で
きるが特に単離しないで次の反応に付すこともできる。
三量化反応は上記の反応生成物を空気酸化に付すか、ま
たは酸化剤と反応させることによシ行うことができる。
たは酸化剤と反応させることによシ行うことができる。
好ましい酸化剤としては、ヘキサシアノ鉄(2)塩、過
酸化水素水、ショートエタン、ヨウ素、チオシアノーゲ
ン等が挙げられる。
酸化水素水、ショートエタン、ヨウ素、チオシアノーゲ
ン等が挙げられる。
この反応は通常水、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタノー
ル、エタノール、アセトン、N、N−ジメチルホルムア
ミド等の溶媒中、冷却下ないし加温下で行われる。
ル、エタノール、アセトン、N、N−ジメチルホルムア
ミド等の溶媒中、冷却下ないし加温下で行われる。
上記の各工程で得られる化合物は再結晶、カラムクロマ
トグラフィーのような慣用の方法で単離、精製すること
ができる0 〔発明の効果〕 この発明の目的物質であるアクチノマイクンD様ペプチ
ドは、以下の試験結果からも明らかなように抗菌活性を
有し、抗菌剤として有用である。
トグラフィーのような慣用の方法で単離、精製すること
ができる0 〔発明の効果〕 この発明の目的物質であるアクチノマイクンD様ペプチ
ドは、以下の試験結果からも明らかなように抗菌活性を
有し、抗菌剤として有用である。
試験
■)試験方法:
試験管内抗菌活性を下記の寒天平板希釈法によって求め
た。
た。
トリプチケース・ソー4・グロス中で一夜培養した各試
験菌株(菌数108個/コ)の−白金耳をミエーラー・
ヒントン寒天(Di、fco 社製)に画線接種した。
験菌株(菌数108個/コ)の−白金耳をミエーラー・
ヒントン寒天(Di、fco 社製)に画線接種した。
この培地には試験化合物が所定の各濃度で含まれており
、37℃で20時間培養した後、最小発育阻止濃度(M
工C)を測定した。
、37℃で20時間培養した後、最小発育阻止濃度(M
工C)を測定した。
2)試験化合物:
(HyNva”)2−7 りfノマイVンD3)試験結
果: 〔実施例〕 次に、この発明を実施例によシ説明する。
果: 〔実施例〕 次に、この発明を実施例によシ説明する。
実施例1
(1) Z−L−町Nva−OH−L−Tyr=NHN
H2:Z−DL−HyNva−OH(36P)’にメタ
ノ−/l’(250rILl)に溶解し、L−チa シ
:iヒドラジド(L−Tyr−NHNH2) (26,
:5 t )を加え結晶化する0粗結晶をF去した後、
F液を濃縮し、得られた結晶t−熱メタノールより再結
晶して標題の化合物(16,9f )を得る。
H2:Z−DL−HyNva−OH(36P)’にメタ
ノ−/l’(250rILl)に溶解し、L−チa シ
:iヒドラジド(L−Tyr−NHNH2) (26,
:5 t )を加え結晶化する0粗結晶をF去した後、
F液を濃縮し、得られた結晶t−熱メタノールより再結
晶して標題の化合物(16,9f )を得る。
融点: 15B −159,5℃
(:α)g =+ 37−2°(C= 1.0 メタ
ノール)先に戸去した粗結晶を熱メタノールよシ再結晶
してZ−D−HyNva−OH−L−Tyr−NHNH
= (15,3F ) ′f、得る0 融点:166.5−167℃ 〔α〕芯=+34.3°(C= 1.0 メタノール
)(2) Z−L−HyNva−OH: 上記(1)テ得た Z−L−町Nva−○H−L−Ty
r−NHNH2(3,6f)i3N4酸(boml)K
加、t6酸エチルで抽出し、抽出液を塩化ナトリウム飽
和水溶液で洗浄する。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶
He減圧留去して、標題の化合物(2,34P)を油状
物として得る。油状物の一部をとシ無水テトラヒドロフ
ランに溶解し、シンクロヘキシルアミンを加え、析出し
た結晶を戸数して標題の化合物のシンクロヘキシルアミ
ン塩を得ル。
ノール)先に戸去した粗結晶を熱メタノールよシ再結晶
してZ−D−HyNva−OH−L−Tyr−NHNH
= (15,3F ) ′f、得る0 融点:166.5−167℃ 〔α〕芯=+34.3°(C= 1.0 メタノール
)(2) Z−L−HyNva−OH: 上記(1)テ得た Z−L−町Nva−○H−L−Ty
r−NHNH2(3,6f)i3N4酸(boml)K
加、t6酸エチルで抽出し、抽出液を塩化ナトリウム飽
和水溶液で洗浄する。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶
He減圧留去して、標題の化合物(2,34P)を油状
物として得る。油状物の一部をとシ無水テトラヒドロフ
ランに溶解し、シンクロヘキシルアミンを加え、析出し
た結晶を戸数して標題の化合物のシンクロヘキシルアミ
ン塩を得ル。
・ 融点:166.5−167.5℃〔α堀=+9.
4°(C= 1.0 メタ/−/L’)(3) Z−
HyNva−D−Va上−Pro−OBu :Z−D
−Va上−Pro−OBu (1,6zf)’rメタ
ノール(20M)に溶解し、パラジウム黒を加えて、水
素気流下2時間攪拌する。パラジウム黒を許去し、戸液
を減圧濃縮して油状物を得る。
4°(C= 1.0 メタ/−/L’)(3) Z−
HyNva−D−Va上−Pro−OBu :Z−D
−Va上−Pro−OBu (1,6zf)’rメタ
ノール(20M)に溶解し、パラジウム黒を加えて、水
素気流下2時間攪拌する。パラジウム黒を許去し、戸液
を減圧濃縮して油状物を得る。
別に上記(2)テ得たZ−L−HyNva−OH< 1
.189 )を無水テトラヒドロフラン(30m/)I
C溶解し、−15℃に冷却してジメチルホスホニルチオ
イルクロリド(0,52t )とトリエチルアミン(0
,56mA’)を加えた後同温度で45分間攪拌する。
.189 )を無水テトラヒドロフラン(30m/)I
C溶解し、−15℃に冷却してジメチルホスホニルチオ
イルクロリド(0,52t )とトリエチルアミン(0
,56mA’)を加えた後同温度で45分間攪拌する。
この反応液に先の油状物の無水テトラヒドロフラン溶液
を加え、室温で20時間攪拌するQ反応液を減圧濃縮し
、残渣を酢酸エチルに溶解し、炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液、水、10%クエン酸水溶液および塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で順次洗浄する0無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出する。目的
物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合物(1
,8f )を得る。
を加え、室温で20時間攪拌するQ反応液を減圧濃縮し
、残渣を酢酸エチルに溶解し、炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液、水、10%クエン酸水溶液および塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で順次洗浄する0無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、クロロホルムで溶出する。目的
物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合物(1
,8f )を得る。
〔α叶ニー26.2°(0=1.0 メタノ−フレ1
元素分析値: C27H4107N3 トL テ計算値
: C,62,41; H,7,95; N、8
.09実測値: C!、 62.03 ; H,8
,02; N、 7.89(4) Z−EtAzy−
D−Mal−Pro−OBu” :アゾジカルポン酸ジ
イソプロピル(工、o2r)を無水テトラヒドロフラン
(40IrLl)に溶解し、水冷下トリフェニルホスフ
ィン(1,3zf)e加えて5分間攪拌する0反応液に
上記(3)で得たZ−HyNva−榊亀−D−Va、ニ
ーpro’−oJ < 1.05 t )を加え、室温
で40分間攪拌する。反応液に水(5rrLl)を加え
て反応を停止させた後、酢酸エチル(50TrLl)で
3回抽出する。抽出g1を合わせ、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液、水、10%クエン酸水溶液および塩化ナト
リウム飽和水溶液で順次洗浄する。無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣を7リカゲルカラム
クロマトグラフイーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチ/
’ (2: l V/V )の混合溶媒で溶出する。目
的物を含む自分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合物(
7711n9)を得る0〔α〕冗=−65.5°(C=
1.Oメタノ−/L/)元素分析値: 027H3,O
晶・TH20として計算値: C,63,50;
H,’/、91 ; N、 8.23実測値: C
,63,65; H,7,89; N、8.01上
記(4)で得たZ−EtAzy−D−val−Pro−
OBu (837/n9)およびBoc−Sar−M
eval−OH(2,521)を塩化メチレン(20m
J)に溶解し、7日間還流する。
元素分析値: C27H4107N3 トL テ計算値
: C,62,41; H,7,95; N、8
.09実測値: C!、 62.03 ; H,8
,02; N、 7.89(4) Z−EtAzy−
D−Mal−Pro−OBu” :アゾジカルポン酸ジ
イソプロピル(工、o2r)を無水テトラヒドロフラン
(40IrLl)に溶解し、水冷下トリフェニルホスフ
ィン(1,3zf)e加えて5分間攪拌する0反応液に
上記(3)で得たZ−HyNva−榊亀−D−Va、ニ
ーpro’−oJ < 1.05 t )を加え、室温
で40分間攪拌する。反応液に水(5rrLl)を加え
て反応を停止させた後、酢酸エチル(50TrLl)で
3回抽出する。抽出g1を合わせ、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液、水、10%クエン酸水溶液および塩化ナト
リウム飽和水溶液で順次洗浄する。無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣を7リカゲルカラム
クロマトグラフイーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチ/
’ (2: l V/V )の混合溶媒で溶出する。目
的物を含む自分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合物(
7711n9)を得る0〔α〕冗=−65.5°(C=
1.Oメタノ−/L/)元素分析値: 027H3,O
晶・TH20として計算値: C,63,50;
H,’/、91 ; N、 8.23実測値: C
,63,65; H,7,89; N、8.01上
記(4)で得たZ−EtAzy−D−val−Pro−
OBu (837/n9)およびBoc−Sar−M
eval−OH(2,521)を塩化メチレン(20m
J)に溶解し、7日間還流する。
反応液を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液、水、10%クエン酸水溶
液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホ
ルム−酢酸エチル(3:1v/■)の混合溶媒で溶出し
て、目的物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して標題の化
合物(770η)を得る。
酸水素ナトリウム飽和水溶液、水、10%クエン酸水溶
液および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホ
ルム−酢酸エチル(3:1v/■)の混合溶媒で溶出し
て、目的物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して標題の化
合物(770η)を得る。
〔α堀=−34,5°(C=1.0 メタノール)元素
分析値二041山5011NS・2H20として計算値
: 0,59.90; E(,8,23; N、
8.52実測随: C,59,76; E(,8,
09; N、8.66上記(5)で得た化合物(55
0+119)’e塩化メチレン(3mAりに溶解し、水
冷下トリフルオロ酢酸(10ml)を加え、4時間攪拌
する。反応液を減圧濃縮し、残渣を無水テトラヒドロフ
ラン(20ゴ)に溶解する。水冷下にトリエチルアミン
(o、o96mJ)で中和した後、1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール(462〜)および無水テトラヒドロフ
ラン(34om)を加える0これにN−エチ〜−N’−
(3−ジメチルアミノプロピ/L/ )カルボジイミド
(0,63mJ)を滴下し、室温で4日間攪拌する。反
応液に酢酸(0,5d)i加えて減圧濃縮し、残渣を酢
酸エチルに溶解する。炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、
水、10%クエン酸水溶液および塩化ナトリウム飽和水
溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を減圧留去する0残1’t S’シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー付し、クロロホルム−酢酸エチ/L/(
30: l V/V)の混合溶媒で溶出して目的物を含
む両分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合物(305I
n?)を得る0〔α堀=−31,5°(C= 1.0
メタノ−/L/ )IR(フィルム): 3440
.32B0,3015.2980゜1750(肩)+
1720.1670.1630.1505゜1220c
In + 質量スペクト/しくm/e): 630(M )、4
78元素分析値二C3□H4708NS・τHρとして
計算値: C,58,52i H,7,67i
N、 10.66実測値: C,58,10; H
,7,38; N、10.62上記(6)で得た化合
物(255*)eメタノール(4酩)に溶解し、これに
5.6N塩化水素メタノール溶液(0,O’72M)お
よびパラジウム黒を加えて、水素気流下2時間攪拌する
0パラジウム黒を戸別し、p液を減圧濃縮し、残渣をク
ロロホルム(10d)に溶解する。−15℃に冷却し、
トリエチルアミン(0,12rILl)および2−ニト
ロ−3−ベンジルオキシ−4−メチルベンゾイルクロリ
ド(1469)を加え、暗所で1時間攪拌する。反応液
を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。炭酸水素
ナトリウム飽和水溶液、水、10%クエン酸水溶液およ
び塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶gを減圧留去する。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付シ、クロロホルム−
メタノール(30: IV/V )の混合溶媒で溶出し
、目的物を含む画分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合
物(27℃m9)h得る。
分析値二041山5011NS・2H20として計算値
: 0,59.90; E(,8,23; N、
8.52実測随: C,59,76; E(,8,
09; N、8.66上記(5)で得た化合物(55
0+119)’e塩化メチレン(3mAりに溶解し、水
冷下トリフルオロ酢酸(10ml)を加え、4時間攪拌
する。反応液を減圧濃縮し、残渣を無水テトラヒドロフ
ラン(20ゴ)に溶解する。水冷下にトリエチルアミン
(o、o96mJ)で中和した後、1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾール(462〜)および無水テトラヒドロフ
ラン(34om)を加える0これにN−エチ〜−N’−
(3−ジメチルアミノプロピ/L/ )カルボジイミド
(0,63mJ)を滴下し、室温で4日間攪拌する。反
応液に酢酸(0,5d)i加えて減圧濃縮し、残渣を酢
酸エチルに溶解する。炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、
水、10%クエン酸水溶液および塩化ナトリウム飽和水
溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を減圧留去する0残1’t S’シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー付し、クロロホルム−酢酸エチ/L/(
30: l V/V)の混合溶媒で溶出して目的物を含
む両分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合物(305I
n?)を得る0〔α堀=−31,5°(C= 1.0
メタノ−/L/ )IR(フィルム): 3440
.32B0,3015.2980゜1750(肩)+
1720.1670.1630.1505゜1220c
In + 質量スペクト/しくm/e): 630(M )、4
78元素分析値二C3□H4708NS・τHρとして
計算値: C,58,52i H,7,67i
N、 10.66実測値: C,58,10; H
,7,38; N、10.62上記(6)で得た化合
物(255*)eメタノール(4酩)に溶解し、これに
5.6N塩化水素メタノール溶液(0,O’72M)お
よびパラジウム黒を加えて、水素気流下2時間攪拌する
0パラジウム黒を戸別し、p液を減圧濃縮し、残渣をク
ロロホルム(10d)に溶解する。−15℃に冷却し、
トリエチルアミン(0,12rILl)および2−ニト
ロ−3−ベンジルオキシ−4−メチルベンゾイルクロリ
ド(1469)を加え、暗所で1時間攪拌する。反応液
を減圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。炭酸水素
ナトリウム飽和水溶液、水、10%クエン酸水溶液およ
び塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、溶gを減圧留去する。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付シ、クロロホルム−
メタノール(30: IV/V )の混合溶媒で溶出し
、目的物を含む画分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合
物(27℃m9)h得る。
(α): =−7,3°(C=0.5 )Ill/−
/l/)工R()1/l/ム): 3420,326
0.2960,2940゜1’750(@)、1730
,1660,1630,1540゜1190.1ユ’l
0cm 元素分析値:C3凪520soNs・3H20として計
算値: C,57,20; H,7,15i N、
10.26実測値: C,57,26i H,6,
56; N、 10.03(8)〔町N’7a”、+
2−7 りf/−rイシンD上記(7)で得た化合物(
118ダ)をメタノ−p(5d)に溶解し、パラジウム
黒を加え、暗所で水素気流下1時間攪拌する。パラジウ
ム黒をF去し、F液をヘキテシアノ鉄(III)(14
7Iv) ヲ含む0.067Mリン酸緩衝液、 (pH
’7.1.10M)に室温で加え、20分間攪拌する。
/l/)工R()1/l/ム): 3420,326
0.2960,2940゜1’750(@)、1730
,1660,1630,1540゜1190.1ユ’l
0cm 元素分析値:C3凪520soNs・3H20として計
算値: C,57,20; H,7,15i N、
10.26実測値: C,57,26i H,6,
56; N、 10.03(8)〔町N’7a”、+
2−7 りf/−rイシンD上記(7)で得た化合物(
118ダ)をメタノ−p(5d)に溶解し、パラジウム
黒を加え、暗所で水素気流下1時間攪拌する。パラジウ
ム黒をF去し、F液をヘキテシアノ鉄(III)(14
7Iv) ヲ含む0.067Mリン酸緩衝液、 (pH
’7.1.10M)に室温で加え、20分間攪拌する。
反応液を酢酸エチIしで抽出し、抽出液を炭酸水素ナト
リウム飽和水溶液、水、1M塩酸および塩化ナトリウム
飽和水溶液で順次洗浄する。無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去して標題の化合物(81,11Gl)e
赤色結晶で得る。
リウム飽和水溶液、水、1M塩酸および塩化ナトリウム
飽和水溶液で順次洗浄する。無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、溶媒を留去して標題の化合物(81,11Gl)e
赤色結晶で得る。
融点: 205−207℃
〔α〕フ=−166°(0=0.3 )li/−/l/
)工R(KBr): 3440,2960,2920,
1745゜ユ6’70−1620.1580.11B0
,1081080a (メタノ−/l/):^=443
nm (t=26400)、238nm(ε=3860
0) 実施例2 (1) Z−DL−PhSer−D−Val−Pro−
OBu” :Z−DL−PhSer−OR(1,1?
)、Z−D−Mal−Pro −0Bu”(1,28f
)およびジメチルホスホニルチオイルクロリド を行う。生成物をシリカゲルカラムクロマトクラ7 イ
ー ( 溶出溶媒 クロロホルム:酢酸エチル=4:
1v/v)で精製し、標題の化合物(工.7f)を得る
。
)工R(KBr): 3440,2960,2920,
1745゜ユ6’70−1620.1580.11B0
,1081080a (メタノ−/l/):^=443
nm (t=26400)、238nm(ε=3860
0) 実施例2 (1) Z−DL−PhSer−D−Val−Pro−
OBu” :Z−DL−PhSer−OR(1,1?
)、Z−D−Mal−Pro −0Bu”(1,28f
)およびジメチルホスホニルチオイルクロリド を行う。生成物をシリカゲルカラムクロマトクラ7 イ
ー ( 溶出溶媒 クロロホルム:酢酸エチル=4:
1v/v)で精製し、標題の化合物(工.7f)を得る
。
元素分析値: C31H4107N3として計算値:
0, 65.59 ; H, 7.28 ; N,
7.40実測値: 0, 64.88 ;H. 7.
2’7 ; N, 7.52(2) Z−L−PbA
zy−D−Val−Pro−OBu” :上記(1)で
得た化合物<4.549)、アゾジカルボン酸ジインプ
ロピル( 4.0 4 f )およびトリフェニルホス
フィン(5.24f)を用いて実施例1(4)と同様の
操作を行う。生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒、n−ヘキサン:酢酸エチ/l/l :
l V/V )で分離、精製して標題の化合物とその
ジアステレオマーを得る。
0, 65.59 ; H, 7.28 ; N,
7.40実測値: 0, 64.88 ;H. 7.
2’7 ; N, 7.52(2) Z−L−PbA
zy−D−Val−Pro−OBu” :上記(1)で
得た化合物<4.549)、アゾジカルボン酸ジインプ
ロピル( 4.0 4 f )およびトリフェニルホス
フィン(5.24f)を用いて実施例1(4)と同様の
操作を行う。生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒、n−ヘキサン:酢酸エチ/l/l :
l V/V )で分離、精製して標題の化合物とその
ジアステレオマーを得る。
収量:1.74f
融点:136−139℃(n−ヘキサン−酢酸エテルか
ら再結晶〕 〔α席=−41.2°( 0=1、0メタノ−)v )
元素分析値: 031E(3906N3として計算値:
0. 67、74 ; H, 7.15 ; N
, 7.64実測値: C, 67、80 ; H.
7.41 ; N, 7.42b) Z−D−P
hAzy−D−Val−Pro−OBu”収量:1.9
4f! 〔α堀=+5.94°( c = 1.0 メタノー
ル)を 上記(2)テ得た Z−L−PhAzy−DLVal−
Pro−OBu(1,43f)オよびBoc−8ar−
Medal−OH(3,93t )を塩化メチレン(s
ome)に溶解し、lo日間還流する。反応液を減圧濃
縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。炭酸水素ナトリウ
ム飽和水溶液、水、10%クエン酸水溶液および塩化す
l−’Jウム飽和水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。残液をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−酢酸
エチlv(2: l V/V)の混合溶媒で溶出し、
目的物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合物
(1,4t )を得る。
ら再結晶〕 〔α席=−41.2°( 0=1、0メタノ−)v )
元素分析値: 031E(3906N3として計算値:
0. 67、74 ; H, 7.15 ; N
, 7.64実測値: C, 67、80 ; H.
7.41 ; N, 7.42b) Z−D−P
hAzy−D−Val−Pro−OBu”収量:1.9
4f! 〔α堀=+5.94°( c = 1.0 メタノー
ル)を 上記(2)テ得た Z−L−PhAzy−DLVal−
Pro−OBu(1,43f)オよびBoc−8ar−
Medal−OH(3,93t )を塩化メチレン(s
ome)に溶解し、lo日間還流する。反応液を減圧濃
縮し、残渣を酢酸エチルに溶解する。炭酸水素ナトリウ
ム飽和水溶液、水、10%クエン酸水溶液および塩化す
l−’Jウム飽和水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。残液をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−酢酸
エチlv(2: l V/V)の混合溶媒で溶出し、
目的物を含む両分を合わせ、減圧濃縮して標題の化合物
(1,4t )を得る。
〔α〕北 =−31,3° (0== 1.0 メ
タ )′ −ル )元素分析値:C4401,N、・−
H2Oとして計算値: C,61,48; H,7,
81; N、 7.9’?実測値: C,61,72
; H,’?、53 ; N、 7.78酸(25
mAり、トリエチ/V7ミン(0,23mA! )、1
−ヒドロキンベンゾトリアシー*(1,1?)、N−エ
チル−N’−(3−pメチルアミノプロピ/I/)カル
ボジイミド(0,63m)および無水テトラヒドロフラ
ン(820d)を用いて実施例1(6)と同様の操作を
行う0生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出溶媒、クロロホルム二メタノ’−IV: 50 :
l V/V )で精製して標題の化合物(688ダ
)を得る。
タ )′ −ル )元素分析値:C4401,N、・−
H2Oとして計算値: C,61,48; H,7,
81; N、 7.9’?実測値: C,61,72
; H,’?、53 ; N、 7.78酸(25
mAり、トリエチ/V7ミン(0,23mA! )、1
−ヒドロキンベンゾトリアシー*(1,1?)、N−エ
チル−N’−(3−pメチルアミノプロピ/I/)カル
ボジイミド(0,63m)および無水テトラヒドロフラ
ン(820d)を用いて実施例1(6)と同様の操作を
行う0生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出溶媒、クロロホルム二メタノ’−IV: 50 :
l V/V )で精製して標題の化合物(688ダ
)を得る。
〔α〕七= −29,’7°(0=1.Oメタノ−/L
/)工R(フィルム): 3400.3300.29
70,1735゜1’710.1640.1490.1
220.1190゜1140 ctn 質量スペクト/L/(m/l : 6’78(M )
、526上記(4)で得た化合物(284M9)、)−
リエチμアミン(0,12m )および2−二トロー3
−ベンジルオキV−4−メチルベンシイμクロリド(1
4日w9)を用いて、実施例1(7)と同様の操作を行
う。
/)工R(フィルム): 3400.3300.29
70,1735゜1’710.1640.1490.1
220.1190゜1140 ctn 質量スペクト/L/(m/l : 6’78(M )
、526上記(4)で得た化合物(284M9)、)−
リエチμアミン(0,12m )および2−二トロー3
−ベンジルオキV−4−メチルベンシイμクロリド(1
4日w9)を用いて、実施例1(7)と同様の操作を行
う。
生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(溶出溶
媒、クロロホルム:メタノール=40:1v/v )で
精製して標題の化合物(325#)を得る。
媒、クロロホルム:メタノール=40:1v/v )で
精製して標題の化合物(325#)を得る。
(α堀=−39,8°(Q = 0.5 メタノ−/
I/)工R(7(/L/A): 3390,3030,
2970.lフ40゜1655−1635.1545.
1220am(6) (Ph5er” ) 2−7ク
テノマイV7D:上記(5)で得た化合物(1201F
9)をメタノ−7L/(5mlに溶解し、パラジウム黒
を加え暗所で水素気流下に1時間攪拌する。パラジウム
黒t−P去し、p液をへキサシフ)鉄(III) (1
40〜)1−含む0.067Mリン酸緩衝1(pH7゜
1.10M)に室温で加え、20分間攪拌する。反応液
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を炭酸水素ナトリウム飽
和水溶液、水、1M塩酸および塩化ナトリウム飽和水溶
液で順次洗浄する。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を留去して標題の化合物(9419)を橙色結晶で得る
。
I/)工R(7(/L/A): 3390,3030,
2970.lフ40゜1655−1635.1545.
1220am(6) (Ph5er” ) 2−7ク
テノマイV7D:上記(5)で得た化合物(1201F
9)をメタノ−7L/(5mlに溶解し、パラジウム黒
を加え暗所で水素気流下に1時間攪拌する。パラジウム
黒t−P去し、p液をへキサシフ)鉄(III) (1
40〜)1−含む0.067Mリン酸緩衝1(pH7゜
1.10M)に室温で加え、20分間攪拌する。反応液
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を炭酸水素ナトリウム飽
和水溶液、水、1M塩酸および塩化ナトリウム飽和水溶
液で順次洗浄する。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を留去して標題の化合物(9419)を橙色結晶で得る
。
融点: 217−219.5℃
〔α堀ニー 25.3°(Cj==0.15 メタノ
ール)工R(KBr): 3420.2960,292
0.2B50゜1730.1655−1620.157
0.l190cmUV(メタノール): 人= 44
5nmC&=2’i’700 )、235nm(ε=4
5100)
ール)工R(KBr): 3420.2960,292
0.2B50゜1730.1655−1620.157
0.l190cmUV(メタノール): 人= 44
5nmC&=2’i’700 )、235nm(ε=4
5100)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Valはバリン残基、Proはプロリン残基、
Sarはサルコシン残基、MeValはN−メチルバリ
ン残基、Rはエチル基またはフェニル基をそれぞれ意味
する) で示されるアクチノマインンD様ペプチド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59267122A JPS61143400A (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | アクチノマイシンd様ペプチド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59267122A JPS61143400A (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | アクチノマイシンd様ペプチド |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61143400A true JPS61143400A (ja) | 1986-07-01 |
Family
ID=17440372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59267122A Pending JPS61143400A (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | アクチノマイシンd様ペプチド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61143400A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015513544A (ja) * | 2012-03-01 | 2015-05-14 | ノヴォ ノルディスク アー/エス | Glp−1プロドラッグ |
-
1984
- 1984-12-17 JP JP59267122A patent/JPS61143400A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015513544A (ja) * | 2012-03-01 | 2015-05-14 | ノヴォ ノルディスク アー/エス | Glp−1プロドラッグ |
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