JPS61143380A - チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 - Google Patents
チアゾ−ル酢酸誘導体の製法Info
- Publication number
- JPS61143380A JPS61143380A JP59264800A JP26480084A JPS61143380A JP S61143380 A JPS61143380 A JP S61143380A JP 59264800 A JP59264800 A JP 59264800A JP 26480084 A JP26480084 A JP 26480084A JP S61143380 A JPS61143380 A JP S61143380A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- compound
- compound shown
- protected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はセファロスポリン化合物の合成中間体として有
用な下記一般式で示されるチアゾール酢（但し、Ｒ’Ｎ
Ｈ−はアミノ基又は保護されたアミノ１−ＧＯＯＲ”は
カルボキシ基又は保護されたカルボキシ基を表わす。） （従来の技術） 特開昭５９−５１２９２号には下記反応式で示されるチ
アゾール酢酸誘導体の製法が記載されている。
用な下記一般式で示されるチアゾール酢（但し、Ｒ’Ｎ
Ｈ−はアミノ基又は保護されたアミノ１−ＧＯＯＲ”は
カルボキシ基又は保護されたカルボキシ基を表わす。） （従来の技術） 特開昭５９−５１２９２号には下記反応式で示されるチ
アゾール酢酸誘導体の製法が記載されている。
（但し−Ｔｒはトリチル基を表わす。）（発明の目的）
本発明は、優れた抗菌作用を有するセファロスポリン化
合物の合成中間体として有用なチアゾール酢酸誘導体（
１）の新規製法を提供しようとするものである。
合物の合成中間体として有用なチアゾール酢酸誘導体（
１）の新規製法を提供しようとするものである。
（発明の構成及び効果）
本発明によれば、目的化合物（１）は一般式（但し、
Ｒ慴Ｈ−はアミノ基又は保護されたアミ７基、−ＧＯＯ
Ｒ’はカルボキシ基又は保護されたカルボキシ基を表わ
す。） で示される化合物と一般式 （但しＩ Ｒ’は置換もしくは非置換フェニル基又は低
級アルキル基を表わす。） で示される化合物とを反応させて一般式（但し、 Ｒ”
ＮＨ−及び−ＧＯＯＲ’は前記と同一意味を有する。） で示される化合物とし、要すれば該化合物（白から保護
基を除去すること薯こより製することができる。
Ｒ慴Ｈ−はアミノ基又は保護されたアミ７基、−ＧＯＯ
Ｒ’はカルボキシ基又は保護されたカルボキシ基を表わ
す。） で示される化合物と一般式 （但しＩ Ｒ’は置換もしくは非置換フェニル基又は低
級アルキル基を表わす。） で示される化合物とを反応させて一般式（但し、 Ｒ”
ＮＨ−及び−ＧＯＯＲ’は前記と同一意味を有する。） で示される化合物とし、要すれば該化合物（白から保護
基を除去すること薯こより製することができる。
上記反応において、記号Ｒ”で示される基としては２例
えば水素原子；、又はホルミル基、アセチル基、ピバロ
イル基の如き低級アルカノイル基：クロロアセチル基、
トリフルオロアセチル基の如キモノー、ジーもしくはト
リハロゲノ−低級アルカノイル基；メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、 ｊｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル基の如き低級アルコキシカルボニル基；トリクロ
ロエトキシカルボニル基の如き七ノー、ジーもしくはト
リハロゲノ−低級アルコキシカルボニル基；ベンジルオ
キシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル基の如き置換もしくは非置換ベンジルオキシカルボ
ニル基；ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、３，４
−ジメトキシベンジル基の如き置換もしくは非置換フェ
ニル低級アルキル基；ベンズヒドリル基、トリチル基の
如きジーもしくはトリフェニル低級アルキル基などの保
護基が挙げられる。また記号Ｒ”で示される基としては
。
えば水素原子；、又はホルミル基、アセチル基、ピバロ
イル基の如き低級アルカノイル基：クロロアセチル基、
トリフルオロアセチル基の如キモノー、ジーもしくはト
リハロゲノ−低級アルカノイル基；メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、 ｊｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル基の如き低級アルコキシカルボニル基；トリクロ
ロエトキシカルボニル基の如き七ノー、ジーもしくはト
リハロゲノ−低級アルコキシカルボニル基；ベンジルオ
キシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル基の如き置換もしくは非置換ベンジルオキシカルボ
ニル基；ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、３，４
−ジメトキシベンジル基の如き置換もしくは非置換フェ
ニル低級アルキル基；ベンズヒドリル基、トリチル基の
如きジーもしくはトリフェニル低級アルキル基などの保
護基が挙げられる。また記号Ｒ”で示される基としては
。
例えば水素原子；又はメチル基、エチル基、 ｔｅｒｔ
。
。
−ブチル基の如き低級アルキル基；ベンジル基。
ｐ−メトキシベンジルＪｆｐ−二トロベンジル基の如き
置換もしくは非置換フェニル低級アルキル基；ベンズヒ
ドリル基の如き保護基が挙げられる。
置換もしくは非置換フェニル低級アルキル基；ベンズヒ
ドリル基の如き保護基が挙げられる。
さら薯こ記号Ｗで示される基としては１例えばフェ゛ニ
ルｌ ｐ−メチルフェニル基の如＊ａ換モｔ、＜は非置
換フェニル基又はメチル基、エチル基、プロピル基の加
金低級アルキル基が挙げられる。
ルｌ ｐ−メチルフェニル基の如＊ａ換モｔ、＜は非置
換フェニル基又はメチル基、エチル基、プロピル基の加
金低級アルキル基が挙げられる。
化合物（１Ｋ）と化合物（ＩＩ）との反応は適当な溶媒
中脱酸剤の存在下に実施することができる。脱酸剤とし
ては１例えば炭酸アルカリ金属（例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム）、水素化アルカリ金属（例えば、水
素化ナトリウム）、水酸化アルカリ金属（例えば、水酸
化す） ＩＪウム、水酸化カリウム）などが挙げられる
。溶媒としては１例えばアセトン、テトラヒドロフラン
、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミドなどが挙げられる。本反応は−１θ℃〜８０℃、
好ましくはｌＯ℃〜５０℃で実施するのが適当である。
中脱酸剤の存在下に実施することができる。脱酸剤とし
ては１例えば炭酸アルカリ金属（例えば、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム）、水素化アルカリ金属（例えば、水
素化ナトリウム）、水酸化アルカリ金属（例えば、水酸
化す） ＩＪウム、水酸化カリウム）などが挙げられる
。溶媒としては１例えばアセトン、テトラヒドロフラン
、酢酸エチル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミドなどが挙げられる。本反応は−１θ℃〜８０℃、
好ましくはｌＯ℃〜５０℃で実施するのが適当である。
かくして得られる化合物（１′）からの保護基の脱離は
９例えば加水分解、加溶媒分解、酸処理、還元の如き常
法により容易に実施することができる。
９例えば加水分解、加溶媒分解、酸処理、還元の如き常
法により容易に実施することができる。
例えば、アミノ基の保護基Ｒ”がホルミル基、アセチル
基、 ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニル基、トリチル基
もしくはベンズヒドリル基及び／又はカルボキシ基の保
護基ダ′がｔｅｒｔ 、−ブチル基、もしくはベンズヒ
ドリル基である場合、これら保護基は化合物（りを酸で
処理すること番こより除去することができる。
基、 ｔｅｒｔ、−ブトキシカルボニル基、トリチル基
もしくはベンズヒドリル基及び／又はカルボキシ基の保
護基ダ′がｔｅｒｔ 、−ブチル基、もしくはベンズヒ
ドリル基である場合、これら保護基は化合物（りを酸で
処理すること番こより除去することができる。
酸としては９例えばギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼン
スルキン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素
などが挙げられる。本反応は適当な溶媒又は無溶媒中で
実施することができ、溶媒としては例えば、水、メタノ
ール、エタノール、酢酸、ジオキサンなどを使用するこ
とができる。本反応は一３０℃〜７０℃、好ましくは１
０℃〜５０℃で実施するのが適当である。なお１本反応
において。
スルキン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素
などが挙げられる。本反応は適当な溶媒又は無溶媒中で
実施することができ、溶媒としては例えば、水、メタノ
ール、エタノール、酢酸、ジオキサンなどを使用するこ
とができる。本反応は一３０℃〜７０℃、好ましくは１
０℃〜５０℃で実施するのが適当である。なお１本反応
において。
酸としてトリフルオロ酢酸を用いる場合には、アニソー
ルの存在下に実施するのが好ましい。
ルの存在下に実施するのが好ましい。
また、アミノ基の保護基Ｒ”がトリチル基である場合、
該保護基の除去は化合物（１′）を適当な溶媒中加熱す
ることによっても実施することができる。
該保護基の除去は化合物（１′）を適当な溶媒中加熱す
ることによっても実施することができる。
溶媒としては９例えば低級アルカノール（例えば。
メタノール、エタノール）、水、或いはこれらの混合溶
媒などを好適に使用することができる。本反応は４０℃
〜゛１００℃、好ましくは５０℃〜８０℃で実施するの
が適当である。アミノ基の保護基がベンジルオキシカル
ボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基もしくは３，４−
ジメトキシベンジル基及び／又はカルボキシ基の保護基
Ｖがベンジル基。
媒などを好適に使用することができる。本反応は４０℃
〜゛１００℃、好ましくは５０℃〜８０℃で実施するの
が適当である。アミノ基の保護基がベンジルオキシカル
ボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、
ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基もしくは３，４−
ジメトキシベンジル基及び／又はカルボキシ基の保護基
Ｖがベンジル基。
ｐ−メトキシベンジル基もしくはｐ−ニトロベンジル基
である場合、これら保護基の除去は化合物（１′）を水
素ガス気流中触媒の存在下に接触還元することにより実
施することができる。触媒としては１例えばパラジウム
−炭酸バリウム、パラジウムＴ炭素、パラジウム黒など
が好適に挙げられる。
である場合、これら保護基の除去は化合物（１′）を水
素ガス気流中触媒の存在下に接触還元することにより実
施することができる。触媒としては１例えばパラジウム
−炭酸バリウム、パラジウムＴ炭素、パラジウム黒など
が好適に挙げられる。
本接触還元反応は適当な溶媒中常圧乃至加圧下Ｏ℃〜１
００℃、とくにｌＯ℃〜４０℃で実施−するのが好まし
い。溶媒としては９例えばメタノール、エタノール、テ
トラヒドロフラン、水などを好適に用いることができる
。アミノ基の保護基Ｒ”がトリフルオロアセチル基、ピ
パロイル基、エトキシカルボニル基もしくはエトキシカ
ルボニル基及び／又はカルボキシ基の保護基Ｗ′がメチ
ル基、エチル基の如き低級アルキル基である場合、これ
ら保護基は化合物（ｆ）を加水分解することにより除去
することができる。化合物（１′）の加水分解は常法Ｉ
ζより実施することができ１例えば適当な溶媒中アルカ
リ試薬又は酸で処理することにより実施することができ
る。アルカリ試薬としては１例えば水酸化アルカリ金属
（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、水酸化
アルカリ土類金属（例えば、水酸化カルシウム、水酸化
バリウム）などが挙げられ、また酸としては例えば、塩
酸、臭化水素酸などが挙げられる。溶媒としては１例え
ば低級アルカノール（メタノール、エタノール）、ジメ
チルホルムアミド、或いはこれら溶媒と水との混合溶媒
などを好適に使用することができる。本反応はｌＯ℃〜
８０℃、好ましくは２０℃〜６０℃で実施するのが適当
である。さらｌど、アミノ基の保護基Ｒ”がクロロアセ
チル基である場合、該保護基は適当な溶媒中化合物（１
′）をチオ尿素で処理することにより除去することがで
きる。溶媒としては。
００℃、とくにｌＯ℃〜４０℃で実施−するのが好まし
い。溶媒としては９例えばメタノール、エタノール、テ
トラヒドロフラン、水などを好適に用いることができる
。アミノ基の保護基Ｒ”がトリフルオロアセチル基、ピ
パロイル基、エトキシカルボニル基もしくはエトキシカ
ルボニル基及び／又はカルボキシ基の保護基Ｗ′がメチ
ル基、エチル基の如き低級アルキル基である場合、これ
ら保護基は化合物（ｆ）を加水分解することにより除去
することができる。化合物（１′）の加水分解は常法Ｉ
ζより実施することができ１例えば適当な溶媒中アルカ
リ試薬又は酸で処理することにより実施することができ
る。アルカリ試薬としては１例えば水酸化アルカリ金属
（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、水酸化
アルカリ土類金属（例えば、水酸化カルシウム、水酸化
バリウム）などが挙げられ、また酸としては例えば、塩
酸、臭化水素酸などが挙げられる。溶媒としては１例え
ば低級アルカノール（メタノール、エタノール）、ジメ
チルホルムアミド、或いはこれら溶媒と水との混合溶媒
などを好適に使用することができる。本反応はｌＯ℃〜
８０℃、好ましくは２０℃〜６０℃で実施するのが適当
である。さらｌど、アミノ基の保護基Ｒ”がクロロアセ
チル基である場合、該保護基は適当な溶媒中化合物（１
′）をチオ尿素で処理することにより除去することがで
きる。溶媒としては。
例えばメタノール、エタノール、水などを好適に使用す
ることができる。本反応は２０℃〜８０℃。
ることができる。本反応は２０℃〜８０℃。
好ましくは２０℃〜５０℃で実施するのが適当である。
上記反応に詔いて、原料化合物（１）は分子内に１個の
不斉炭素原子を有するため２個の光学異性体が存在する
が、上記本発明の反応は全てラセミ化を伴うことな（進
行するため原料化合物として化合物（組の光学活性体を
使用すれば、目的化合物（Ｉ）を光学活性体として容易
に取得することができる。
不斉炭素原子を有するため２個の光学異性体が存在する
が、上記本発明の反応は全てラセミ化を伴うことな（進
行するため原料化合物として化合物（組の光学活性体を
使用すれば、目的化合物（Ｉ）を光学活性体として容易
に取得することができる。
また目的化合物（ｒ）ｉこはオキシイミノ基がＺ（すな
わち、シン）配置の化合物とＥ（すなわち、アンチ）配
置の化合物が存在するが、上記本発明の反応においては
、オキシイミノ基が主として２配置である化合物１１）
が生成する。
わち、シン）配置の化合物とＥ（すなわち、アンチ）配
置の化合物が存在するが、上記本発明の反応においては
、オキシイミノ基が主として２配置である化合物１１）
が生成する。
上記の如（して得られる本発明の目的化合物（１）はセ
ファロスポリン化合物合成中間体として有用であり１例
えば特開昭５９−５１２９２号に記載されている優れた
抗菌活性を有するセファロスポリン化合物の合成中間体
として有用である。
ファロスポリン化合物合成中間体として有用であり１例
えば特開昭５９−５１２９２号に記載されている優れた
抗菌活性を有するセファロスポリン化合物の合成中間体
として有用である。
尚、原料化合物情）の光学活性体は９例えば光学活性３
−ヒドロキシ−２−ピロ１７１’ン（ＡｃｔａＣｈｅｍ
ｉｃａ ５ｃａｎｄｉｎａｖｉｃａ、、 Ｂ３４．７３
１−７３３頁（１９８０年）参照）と一般式 ％式％ （但し、Ｘ″はハロゲン原子を表わし＋ Ｒ”は前記と
同一意味を有する。） で示される化合物とを反応させることにより製すること
ができる。
−ヒドロキシ−２−ピロ１７１’ン（ＡｃｔａＣｈｅｍ
ｉｃａ ５ｃａｎｄｉｎａｖｉｃａ、、 Ｂ３４．７３
１−７３３頁（１９８０年）参照）と一般式 ％式％ （但し、Ｘ″はハロゲン原子を表わし＋ Ｒ”は前記と
同一意味を有する。） で示される化合物とを反応させることにより製すること
ができる。
実施例
（１）（カー２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチルエステル１．０１を
ジメチルスルホキシド５ｆｎ１−こ溶解し、該溶液６ζ
炭酸カリウム１．０ｇ及び（Ｂ）−３−Ｃｐ−トシルオ
キシ）−２−ピロリドン１．５３Ｆを加え室温で一夜か
く拌する。反応混合物に水を加え、該混合物をクロロホ
ルムで抽出する。抽出液を水で洗浄し、乾燥後減圧下に
濃縮乾固する。残査をイソプロピルエーテルで結晶化し
、含水メタノールから再結晶することにより、（Ｚ）−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル’）−２−［（
（３Ｓ）−２−ピロリドン−３−イル）オキシイミノ〕
酢酸エチルエステル０．８６Ｆを得る。
−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチルエステル１．０１を
ジメチルスルホキシド５ｆｎ１−こ溶解し、該溶液６ζ
炭酸カリウム１．０ｇ及び（Ｂ）−３−Ｃｐ−トシルオ
キシ）−２−ピロリドン１．５３Ｆを加え室温で一夜か
く拌する。反応混合物に水を加え、該混合物をクロロホ
ルムで抽出する。抽出液を水で洗浄し、乾燥後減圧下に
濃縮乾固する。残査をイソプロピルエーテルで結晶化し
、含水メタノールから再結晶することにより、（Ｚ）−
２−（２−アミノチアゾール−４−イル’）−２−［（
（３Ｓ）−２−ピロリドン−３−イル）オキシイミノ〕
酢酸エチルエステル０．８６Ｆを得る。
Ｍ、ｐ、 １６０−１６３℃
〔α）；’ −１５，９＠（ｃ −１，メタノール）Ｎ
ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ・）ｊ： １．２７（３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈ！ ）、 １．９３−
２．６０（２Ｈ，ｍ）。
ＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ・）ｊ： １．２７（３Ｈ，ｔ、 Ｊ−７Ｈ！ ）、 １．９３−
２．６０（２Ｈ，ｍ）。
３．１−３．５（２Ｈ，ｆｎ）、 ４．３２（２Ｈ，ｑ
、 Ｊ−７Ｈｚ）。
、 Ｊ−７Ｈｚ）。
４．７４（ｌＨ，ｔ、 Ｊ−７Ｈｇ）、 ６．９３（Ｉ
Ｈ，ＩＩ）。
Ｈ，ＩＩ）。
７．３０ （２Ｈ，８）、 ７．９６ （ＬＨ，ｓ
）（２）水酸化ナトリウム０．２７Ｆをメタノール３−
と水１−との混液に溶解し、該溶液に（Ｚ）−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル） −２−（（（３Ｓ）
−２−ピロリドン−３−イル）オキシイミノ〕酢酸エチ
ルエステル１．Ｏｆを加え２０℃で１時間かく拌する。
）（２）水酸化ナトリウム０．２７Ｆをメタノール３−
と水１−との混液に溶解し、該溶液に（Ｚ）−２−（２
−アミノチアゾール−４−イル） −２−（（（３Ｓ）
−２−ピロリドン−３−イル）オキシイミノ〕酢酸エチ
ルエステル１．Ｏｆを加え２０℃で１時間かく拌する。
混合物を１０９６塩酸でＰＨ５とし、該混合物を減圧下
に濃縮してメタノールを留去する。残査を１０９６塩酸
でｐＨ３とし、該混合物を氷冷する。
に濃縮してメタノールを留去する。残査を１０９６塩酸
でｐＨ３とし、該混合物を氷冷する。
析出晶をろ取し、メタノールで洗浄後乾燥することによ
り、（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−［（（３３）−２−ピロリドン−３−イル）オキ
シイミノ〕酢酸７３０ ”Ｆを得る。
り、（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−［（（３３）−２−ピロリドン−３−イル）オキ
シイミノ〕酢酸７３０ ”Ｆを得る。
Ｍ、ＩＰ、 １９９−２００℃（分解）ｒ、ａ］：
−５０，８°（Ｃ！１．水）ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ＋ ＮａＨ
ＣＯ，） ａ ：２．０−２．７（２Ｈ，ｍ）、 ３
．３−３．６（２Ｈ，ｎ１ｍ）。
−５０，８°（Ｃ！１．水）ＮＭＲ（Ｄ、Ｏ＋ ＮａＨ
ＣＯ，） ａ ：２．０−２．７（２Ｈ，ｍ）、 ３
．３−３．６（２Ｈ，ｎ１ｍ）。
４．９５（ＬＨ，ｔ、 Ｊ＝８Ｈｚ）、 ６．９０（
ｌＨ，ｓ）上記実施例１に準拠して下記表記載の化合物
を得る。
ｌＨ，ｓ）上記実施例１に準拠して下記表記載の化合物
を得る。
（Ｒ）−３−ヒドロキシ−２−ピロリドン（ＡｃｔａＣ
ｈｅｍｉｃａ ５ｃａｒｉｄｉｎａｖｉｃａ 、 、
Ｂ ３４ （１９８０） ７３１−７３３ ）２Ｆをア
セトン３０Ｉｎｌにけん濁し、該けん濁液に２Ｎ水酸化
ナトリウム１５−を室温で加えけん濁物を溶解させる。
ｈｅｍｉｃａ ５ｃａｒｉｄｉｎａｖｉｃａ 、 、
Ｂ ３４ （１９８０） ７３１−７３３ ）２Ｆをア
セトン３０Ｉｎｌにけん濁し、該けん濁液に２Ｎ水酸化
ナトリウム１５−を室温で加えけん濁物を溶解させる。
この溶液を一３〜５℃に冷却し。
［溶液にｐ−トシルクロリド５．７Ｆを加え同温で１時
間かく拌する。混合物を１０−１５℃で一夜かく拌後、
該混合物を２Ｎ塩酸１０−でｐＨ２とする。
間かく拌する。混合物を１０−１５℃で一夜かく拌後、
該混合物を２Ｎ塩酸１０−でｐＨ２とする。
混合物を減圧下に濃縮してアセトンを留去する。
残査をクロロホルムで抽出し、抽出液を飽和食塩水で洗
浄後乾燥する。クロロホルム液を減圧下暑こ濃縮して溶
媒を留去する。残査をエーテルで結晶化し、酢酸エチル
から再結晶することにより、（Ｒ）−３−（１）−）シ
ルオキシ）−２−ピロリドン３．５２を得る。
浄後乾燥する。クロロホルム液を減圧下暑こ濃縮して溶
媒を留去する。残査をエーテルで結晶化し、酢酸エチル
から再結晶することにより、（Ｒ）−３−（１）−）シ
ルオキシ）−２−ピロリドン３．５２を得る。
Ｍ、ｐ、 １４８−１４９℃
〔α〕。＋１７．７°（ｃ＝Ｌメタノール）ＮＭＲ（Ｃ
Ｄα８）８： １０−２．７ （２Ｈ，ｍ）、 ２．４３ （３Ｈ，ｓ
）３．１−３．５（２Ｈ，ｍ）、 ４．９１ （Ｌ
Ｈ，ｔ、 Ｊ＝７Ｈｚ）７．２（ＬＨ，ｂｒｏａｄ）、
７．３２（２Ｈ，ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）７．８４ （２
Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝９Ｈｚ ）しユニ」
Ｄα８）８： １０−２．７ （２Ｈ，ｍ）、 ２．４３ （３Ｈ，ｓ
）３．１−３．５（２Ｈ，ｍ）、 ４．９１ （Ｌ
Ｈ，ｔ、 Ｊ＝７Ｈｚ）７．２（ＬＨ，ｂｒｏａｄ）、
７．３２（２Ｈ，ｄ、Ｊ−９Ｈｚ）７．８４ （２
Ｈ，ｄ 、 Ｊ＝９Ｈｚ ）しユニ」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （但し、Ｒ＾１′ＮＨ−はアミノ基又は保護されたアミ
ノ基、−ＣＯＯＲ＾２′はカルボキシ基又は保護された
カルボキシ基を表わす。） で示される化合物と一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （但し、Ｒ＾３は置換もしくは非置換フェニル基又は低
級アルキル基を表わす。） で示される化合物とを反応させて一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ′） （但し、Ｒ＾１′ＮＨ−及び−ＣＯＯＲ＾２′は前記と
同一意味を有する。） で示される化合物とし、要すれば該化合物（ I ′）か
ら保護基を除去することを特徴とする一般式▲数式、化
学式、表等があります▼（ I ） （但し、Ｒ＾１ＮＨ−はアミノ基又は保護されたアミノ
基、−ＣＯＯＲ＾２はカルボキシ基又は保護されたカル
ボキシ基を表わす。） で示されるチアゾール酢酸誘導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59264800A JPS61143380A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59264800A JPS61143380A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61143380A true JPS61143380A (ja) | 1986-07-01 |
Family
ID=17408383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59264800A Pending JPS61143380A (ja) | 1984-12-14 | 1984-12-14 | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61143380A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0101265A2 (en) * | 1982-08-07 | 1984-02-22 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
-
1984
- 1984-12-14 JP JP59264800A patent/JPS61143380A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0101265A2 (en) * | 1982-08-07 | 1984-02-22 | Tanabe Seiyaku Co., Ltd. | Novel cephalosporin compounds and preparation thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH02311483A (ja) | セフトリアキソンの製造方法 | |
| SU1391496A3 (ru) | Способ получени азетидинонов | |
| EP0422566B1 (en) | A process for the preparation of 3-(L-pyroglutamyl)-L-thiazolidine-4-carboxylic acid derivatives | |
| JPS61143380A (ja) | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 | |
| JP5362593B2 (ja) | 溶媒を用いずにペプチドを合成する方法 | |
| JP2003528105A (ja) | 新規チアゾール化合物を用いたセファロスポリン系抗生物質の製造方法 | |
| JPS5833877B2 (ja) | ユウキカゴウブツニカンスルカイリヨウ | |
| SU1039444A3 (ru) | Способ получени 1-оксадетиацефалоспоринов | |
| JPS61143379A (ja) | チアゾ−ル酢酸誘導体の製法 | |
| JPH0249758A (ja) | （１ｒ，２ｓ）−シス−２−アミノシクロペンタンカルボン酸の製造方法 | |
| JPS6028988A (ja) | ペプチドの製造方法 | |
| JPH0641066A (ja) | ピロール誘導体の製造方法 | |
| US4324891A (en) | Process for the production of a 7-methoxycephalosporine derivative | |
| JPS604190A (ja) | セフアロスポリン誘導体の製法 | |
| JPS6018669B2 (ja) | ７−（２−置換フエニルグリシンアミド）−３−メチル−３−セフエム−４−カルボン酸誘導体の合成方法 | |
| EP0024879B1 (en) | Cephalosporin derivative production by a 7 alpha-methoxylation process and intermediates | |
| JPS58194856A (ja) | 新規２−アゼチジノン誘導体 | |
| JP2002265481A (ja) | 高分子担持光学活性ホスフィン化合物 | |
| JPH0363560B2 (ja) | ||
| JP2698372B2 (ja) | Ｎ−保護アスパラギン酸無水物の製造方法 | |
| JPS5828271B2 (ja) | テトラペプタイドノセイホウ | |
| WO1985001046A1 (en) | Mandelic acid derivatives | |
| JP3547498B2 (ja) | ベンゾチアゾロン化合物の製造方法 | |
| WO1985005360A1 (en) | Process for preparing cephalosporin derivatives | |
| JPS6219594A (ja) | セフアロスポリン誘導体 |