JPS61131338A - シヤドウマスク構体の製造装置 - Google Patents
シヤドウマスク構体の製造装置Info
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- JPS61131338A JPS61131338A JP25049484A JP25049484A JPS61131338A JP S61131338 A JPS61131338 A JP S61131338A JP 25049484 A JP25049484 A JP 25049484A JP 25049484 A JP25049484 A JP 25049484A JP S61131338 A JPS61131338 A JP S61131338A
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- tension
- frame
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はシャドウマスク構体の製造装置に係シ、特にシ
ャドウマスク方式カラー受像管の色純度再生特性の向上
のために平坦なシャドウマスクがどの場所でもシャドウ
マスク面に沿って、あらゆる方向に一様な張力（以下単
に均一な張力と云う）が印加され九状態でマスクフレー
ムに張架するようになされたシャドウマスク構体の製造
装置に関するものでちる。
ャドウマスク方式カラー受像管の色純度再生特性の向上
のために平坦なシャドウマスクがどの場所でもシャドウ
マスク面に沿って、あらゆる方向に一様な張力（以下単
に均一な張力と云う）が印加され九状態でマスクフレー
ムに張架するようになされたシャドウマスク構体の製造
装置に関するものでちる。
一般に７ヤドクマスク方式力２−受像管において、赤、
緑及び背に対応する３本の電子ビームはシャドウマスク
の一つの電子ビーム通過孔部を通過後、シャドウマスク
に対向配設されたパネル内面に形成された赤、緑及び背
の各螢光体層に射突し、この各螢光体層を発光させるよ
うになっている。
緑及び背に対応する３本の電子ビームはシャドウマスク
の一つの電子ビーム通過孔部を通過後、シャドウマスク
に対向配設されたパネル内面に形成された赤、緑及び背
の各螢光体層に射突し、この各螢光体層を発光させるよ
うになっている。
従って、良好な色再現を行うためにはシャドクマスクの
多数の電子ビーム通過孔部を通過した電子ビームが所定
の螢光体層に正確にランディングする必要がある。
多数の電子ビーム通過孔部を通過した電子ビームが所定
の螢光体層に正確にランディングする必要がある。
しかし、通常電子ビームのシャドウマスク透過率は１５
乃至２０１であり、他の大部分の電子ビームはシャドウ
マスクに衝突してシャドウマスクを加熱膨張させる。こ
の加熱膨張は特に明るい画面を得るため、カラー受像管
の陽極電圧やビーム電流を増加させた時に著しく大きく
なシ、その結果、ビームランディング位置が大きく変移
して色純度の劣化を起すことになる。
乃至２０１であり、他の大部分の電子ビームはシャドウ
マスクに衝突してシャドウマスクを加熱膨張させる。こ
の加熱膨張は特に明るい画面を得るため、カラー受像管
の陽極電圧やビーム電流を増加させた時に著しく大きく
なシ、その結果、ビームランディング位置が大きく変移
して色純度の劣化を起すことになる。
次に通常のシャドウマスク方式のカラー受像管の一例を
第４図によシ説明する。
第４図によシ説明する。
即ち、内面に赤、緑および青に発光する螢光体層から々
る螢光面（２）が被着形成されてなるパネル（１）と、
この螢光面（２）Ｋ所定間隔をおいて配設されたシャド
ウマスク（３）と、シャドウマスク（３）が固定された
マスクフレーム（４）とからなるシャドウマスク構体（
５）とこのシャドウマスク構体（５）をパネルピン（６
）に支持する支持構体（６）及びネック（８）内に設け
られた電子銃（９）から構成されている。
る螢光面（２）が被着形成されてなるパネル（１）と、
この螢光面（２）Ｋ所定間隔をおいて配設されたシャド
ウマスク（３）と、シャドウマスク（３）が固定された
マスクフレーム（４）とからなるシャドウマスク構体（
５）とこのシャドウマスク構体（５）をパネルピン（６
）に支持する支持構体（６）及びネック（８）内に設け
られた電子銃（９）から構成されている。
このようなカラー受像管において、シャドウマスク（３
）はエツチングなどによシ多数の電子ビーム通過孔部が
設けられた０、１〜０．２關の薄い鉄板をドーム状にプ
レス成形して作られ、０．５〜１．５ ｙｍ厚のマスク
フレーム（４）に複数点で溶接固着され、シャドウマス
ク構体（５）を構成している。
）はエツチングなどによシ多数の電子ビーム通過孔部が
設けられた０、１〜０．２關の薄い鉄板をドーム状にプ
レス成形して作られ、０．５〜１．５ ｙｍ厚のマスク
フレーム（４）に複数点で溶接固着され、シャドウマス
ク構体（５）を構成している。
上述のように電子銃（９）から放射される電子ビーム叫
の一部はシャドウマスク（３）の電子ビーム通過孔部を
通過して螢光面（２）Ｋ射突し、所定の螢光体層を発光
させるが、残りの大部分はシャドウマスク（３） Ｋ衝
突してシャドウマスク（３）を加熱する。そして、この
加熱によυ、シャドウマスク（３）は温度が上昇して膨
張し、更にこの熱がマスクフレーム（４）、マスク支持
構体（６）からパネル（１）へと伝わっていくため、各
部分で温度差が生じて部品が変形し、電子ビームＱｌが
電子ビーム通過孔部を介して螢光面（２）上にランディ
ングする位置が所定の位置から変動する所謂ランディン
グ誤差が生じる。
の一部はシャドウマスク（３）の電子ビーム通過孔部を
通過して螢光面（２）Ｋ射突し、所定の螢光体層を発光
させるが、残りの大部分はシャドウマスク（３） Ｋ衝
突してシャドウマスク（３）を加熱する。そして、この
加熱によυ、シャドウマスク（３）は温度が上昇して膨
張し、更にこの熱がマスクフレーム（４）、マスク支持
構体（６）からパネル（１）へと伝わっていくため、各
部分で温度差が生じて部品が変形し、電子ビームＱｌが
電子ビーム通過孔部を介して螢光面（２）上にランディ
ングする位置が所定の位置から変動する所謂ランディン
グ誤差が生じる。
このランディング位置の変移量は数１０μｍ−１００μ
ｍ程度であり、色純度の劣化をひき起す。また明るい画
面を得ようとしてカラー受像管の陽極電圧の高圧化やビ
ーム電流を増加させるほど、シャドウマスク（３）に衝
突するエネルギーも増加するのでランディング誤差も大
きくなシ色純度の劣化も著しくなる。
ｍ程度であり、色純度の劣化をひき起す。また明るい画
面を得ようとしてカラー受像管の陽極電圧の高圧化やビ
ーム電流を増加させるほど、シャドウマスク（３）に衝
突するエネルギーも増加するのでランディング誤差も大
きくなシ色純度の劣化も著しくなる。
一方、高精細な画像を実現させるためには、シャドウマ
スク（３）の電子ビーム通過孔部の相互間隔を小さくし
て絵素数を増加させる必要がある。このことは螢光面（
２）に被着形成される３色の螢光体層間の間隔や各螢光
体層のランディング裕度を小さくする。従って、高精細
なカラー受像管はど、よシ正確なビームランディングを
必要とすることになる。
スク（３）の電子ビーム通過孔部の相互間隔を小さくし
て絵素数を増加させる必要がある。このことは螢光面（
２）に被着形成される３色の螢光体層間の間隔や各螢光
体層のランディング裕度を小さくする。従って、高精細
なカラー受像管はど、よシ正確なビームランディングを
必要とすることになる。
上述したビームランディング誤差を減少させるためＫ、
従来から種々の提案が表されている。例えばシャドウマ
スクを黒化させたり、黒色コートして放熱を良くし温度
上昇を低減させる構造や。
従来から種々の提案が表されている。例えばシャドウマ
スクを黒化させたり、黒色コートして放熱を良くし温度
上昇を低減させる構造や。
シャドウマスク側壁部の板厚、長さの調整、あるいは孔
、切り欠き等を設けることによって熱容量を小さくして
均熱化を計る構造や、アンバー材など低熱膨張率材料を
使用する構造などがある。しかし、航空機中車載など、
明るい外光下で使用し。
、切り欠き等を設けることによって熱容量を小さくして
均熱化を計る構造や、アンバー材など低熱膨張率材料を
使用する構造などがある。しかし、航空機中車載など、
明るい外光下で使用し。
高輝度を必要とする用途には、これらの対策では不充分
であった。
であった。
この問題点を解決する構造としてＲ，Ｃ，Ｒｏｂｉｎｄ
ｅｒによる− Ａ Ｈｉｇｈ Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ
Ｓｈａｄｏｗ−Ｍａｓｋ Ｃｏ１ｏｒＣＲＴ ｆｏｒ
Ｃｏｃｋｂｉｔ Ｄｉａｐｌａｙｓ、 Ｄｌｇｓｎｔ
ｏｆ ｐａｐ＠ｒ ｏｆ１９８３ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ
ｏｆ ５ｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉ
ｏｎＤｉｓｐｌａｙ ９ 、５において改良されたシャ
ドウマスク構体を装着したカラー受像管が発表されてい
る。
ｅｒによる− Ａ Ｈｉｇｈ Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ
Ｓｈａｄｏｗ−Ｍａｓｋ Ｃｏ１ｏｒＣＲＴ ｆｏｒ
Ｃｏｃｋｂｉｔ Ｄｉａｐｌａｙｓ、 Ｄｌｇｓｎｔ
ｏｆ ｐａｐ＠ｒ ｏｆ１９８３ Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ
ｏｆ ５ｏｃｉｅｔｙ ｆｏｒ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉ
ｏｎＤｉｓｐｌａｙ ９ 、５において改良されたシャ
ドウマスク構体を装着したカラー受像管が発表されてい
る。
このカラー受像管は第５図に示すように張力をかけてマ
スクフレーム（４）に固着された平坦なシャドウマスク
（３）を具えている。
スクフレーム（４）に固着された平坦なシャドウマスク
（３）を具えている。
次に、このカラー受像管の動作を簡単に説明する。即ち
、シャドウマスク（３）はその面方向に張力を印加した
状態でマスクフレーム（４）に固着されている。この状
態において、シャドウマスク（３）には印加張力に見合
った内部応力が蓄えられる。上述のように受像管を動作
させると、シャドウマスク（３）は熱膨張するが、この
張架されたシャドウマスク（３）を有する受像管におい
ては、シャドウマスク（３）の内部応力緩和によって熱
膨張を吸収するのでシャドウマスク（３）は内部応力が
完全に緩和されるまでは変形しない。従ってビームラン
ディング誤差の少い受像管を実現できる。
、シャドウマスク（３）はその面方向に張力を印加した
状態でマスクフレーム（４）に固着されている。この状
態において、シャドウマスク（３）には印加張力に見合
った内部応力が蓄えられる。上述のように受像管を動作
させると、シャドウマスク（３）は熱膨張するが、この
張架されたシャドウマスク（３）を有する受像管におい
ては、シャドウマスク（３）の内部応力緩和によって熱
膨張を吸収するのでシャドウマスク（３）は内部応力が
完全に緩和されるまでは変形しない。従ってビームラン
ディング誤差の少い受像管を実現できる。
上述の説明かられかるようにマスクフレーム（４）への
固着時の印加張力が大きい程シャドウマスク（４）の内
部応力も大きくなり、高輝度までジンディング諸差を生
じないので、でき得るだけ大きな張力をシャドウマスク
（３）Ｋ印加することが望ましい。
固着時の印加張力が大きい程シャドウマスク（４）の内
部応力も大きくなり、高輝度までジンディング諸差を生
じないので、でき得るだけ大きな張力をシャドウマスク
（３）Ｋ印加することが望ましい。
この印加張力の上限はシャドウマスク（３）の破断強度
によって決るため、張架されたシャドウマスク（３）の
張力を所定値に制御することが重要な問題点となる。そ
のためシャドウマスク（３）への印加張力を検出する手
段が必要となる。しかし、従来非破壊でシャドウマスク
（３）の印加張力を検知する有効な手段がなかったのが
現状である。
によって決るため、張架されたシャドウマスク（３）の
張力を所定値に制御することが重要な問題点となる。そ
のためシャドウマスク（３）への印加張力を検出する手
段が必要となる。しかし、従来非破壊でシャドウマスク
（３）の印加張力を検知する有効な手段がなかったのが
現状である。
本発明は面方向に張力を印加されたシャドウマスクの印
加張力を非破壊で検知する手段を有するシャドウマスク
構造の製造装置を実現することにより色純度劣化のない
高輝度の力２−受偉管を提供し得ることを目的としてい
る。
加張力を非破壊で検知する手段を有するシャドウマスク
構造の製造装置を実現することにより色純度劣化のない
高輝度の力２−受偉管を提供し得ることを目的としてい
る。
即ち、張力の印加されたシャドウマスクとの間にコンデ
ンサを形成するように共振周波数検出器を配置し、シャ
ドウマスクの振動による容量変化を検出してシャドウマ
スクの共振周波数を求めて印加張力を求め、との印加張
力が所定値になった時にこのシャドウマスクをマスクフ
レームに張架するようＫなされたシャドウマスク構体の
製造装置である。
ンサを形成するように共振周波数検出器を配置し、シャ
ドウマスクの振動による容量変化を検出してシャドウマ
スクの共振周波数を求めて印加張力を求め、との印加張
力が所定値になった時にこのシャドウマスクをマスクフ
レームに張架するようＫなされたシャドウマスク構体の
製造装置である。
次に、本発明のシャドウマスク構体の製造装置の一実施
例を第１図乃至第３図により説明する。
例を第１図乃至第３図により説明する。
即ち、中央に内径（Ｄｉ）の円形開口部の、＠がそれぞ
れ設けられ、対設面にゴム板［７） 、 （１１が貼付
された一対の押え板（１１（ＬＱＫ！！７電子ビーム通
過孔部が全面に規則的に設けられたシャドウマスク材（
１３１）の周辺部が挾持固定されている。このゴム板惺
η、賭はシャドウマスク材（１３，）に張力を印加する
時にシャドウマスク材（１３１）が移動するのを防止す
るために設けられている。
れ設けられ、対設面にゴム板［７） 、 （１１が貼付
された一対の押え板（１１（ＬＱＫ！！７電子ビーム通
過孔部が全面に規則的に設けられたシャドウマスク材（
１３１）の周辺部が挾持固定されている。このゴム板惺
η、賭はシャドウマスク材（１３，）に張力を印加する
時にシャドウマスク材（１３１）が移動するのを防止す
るために設けられている。
一方、支持板−の押え板Ｕ、［ＩＫ対設する面には円筒
枠体（至）が設けられているが、この円筒枠体（ト）の
外径（ＤＲ）は、押え板（１５１、ｔｔｅの円形開口部
四。
枠体（至）が設けられているが、この円筒枠体（ト）の
外径（ＤＲ）は、押え板（１５１、ｔｔｅの円形開口部
四。
四の内径（ＤＨ）よシも小さくなるように選ばれ、支持
板（至）を軸方向に移動した時、円形開ロ部＠、ＩＪ３
内に円筒枠体（至）が所定の間隙をもって入るようＫな
っている。また円筒枠体（ハ）の高さは、この円筒枠体
（ト）内に押えピン（至）で固定されたマスクフレーム
Ｉの溶接部（１４１）の高さと同じか、多少低くなされ
ている。また円筒枠体四の軸に対応する支持板＠上には
共振周波数検出器０３が固定されている。この共振周波
数検出器（至）はその上部が金属板（３２，）で構成さ
れ、この金属板（３２，）は後述するシャドウマスク部
位（１３ｍ）の面と平行、かつ所定間隔だけ下げられ、
両者でコンデンサを形成するようになされている。
板（至）を軸方向に移動した時、円形開ロ部＠、ＩＪ３
内に円筒枠体（至）が所定の間隙をもって入るようＫな
っている。また円筒枠体（ハ）の高さは、この円筒枠体
（ト）内に押えピン（至）で固定されたマスクフレーム
Ｉの溶接部（１４１）の高さと同じか、多少低くなされ
ている。また円筒枠体四の軸に対応する支持板＠上には
共振周波数検出器０３が固定されている。この共振周波
数検出器（至）はその上部が金属板（３２，）で構成さ
れ、この金属板（３２，）は後述するシャドウマスク部
位（１３ｍ）の面と平行、かつ所定間隔だけ下げられ、
両者でコンデンサを形成するようになされている。
ま九基台Ｇυには支持棒（至）が固定されており、この
支持棒（２）は支持板（至）を軸方向に移動させ得ると
共にシャドウマスク素材（１３１）を押え板（１Ｓ、
（１１間に挾持固定するようになっている。更に基台ｃ
１１）と支持板（財）間には支持板（２）を上下に移動
させ、押え仮置。
支持棒（２）は支持板（至）を軸方向に移動させ得ると
共にシャドウマスク素材（１３１）を押え板（１Ｓ、
（１１間に挾持固定するようになっている。更に基台ｃ
１１）と支持板（財）間には支持板（２）を上下に移動
させ、押え仮置。
四と支持板（至）とを近接及び離間させる油圧や空気圧
を利用した上下送り装置（７）が設けられている。
を利用した上下送り装置（７）が設けられている。
次に、このシャドウマスク構体の製造装置によりシャド
ウマスク構体を形成する工程を同じ図面を使用して説明
する。
ウマスク構体を形成する工程を同じ図面を使用して説明
する。
先ず、第２図に示すようにシャドウマスク材（ｔａＳ）
を支持棒−を介して押え仮置、四間に挾持固定する。こ
の時点では支持板＠は円筒枠体（２）やマスクフレーム
Ｉの溶接部（１４１）の上面とシャドウマスク材が多少
離間する程度に下げられている。
を支持棒−を介して押え仮置、四間に挾持固定する。こ
の時点では支持板＠は円筒枠体（２）やマスクフレーム
Ｉの溶接部（１４１）の上面とシャドウマスク材が多少
離間する程度に下げられている。
次に、第３図に示すように上下送り装置（至）を動作さ
せると、支持板−は押え板ａ！９．αｅと近接する方向
に移動し、シャドウマスク材（ｔａ、）には押え仮置、
ｕｓと円筒枠体（至）の関係によシ、円筒枠体（ハ）
の□ 頂部外周で折曲されながら全周方向く均一な張力が印加
される。この時の円筒枠体（６内のシャドウマスク材を
シャドウマスク部・位（１３ｍ）と呼ぶ。
せると、支持板−は押え板ａ！９．αｅと近接する方向
に移動し、シャドウマスク材（ｔａ、）には押え仮置、
ｕｓと円筒枠体（至）の関係によシ、円筒枠体（ハ）
の□ 頂部外周で折曲されながら全周方向く均一な張力が印加
される。この時の円筒枠体（６内のシャドウマスク材を
シャドウマスク部・位（１３ｍ）と呼ぶ。
この工程でシャドウマスク部位（１３ｍ）を強制振動さ
せ、その振動周波数を連続的に変化させると、シャドウ
マスク部位（１３ｍ）はその共振周波数において大きな
振幅で振動する。この振動によりシャドウマスク部位（
１３ｍ）と金属板（３２，）で形成するコンデンサの容
量が変化するのでこの容量変化を共振周波数検出器０望
で検出することＫよりシャドウマスク部位（１３ｍ）の
共振周波数を知ることができる。即ち、印加張力Ｔと共
振周波数ｆの間には膜振動論かられかるようにＴ＝に−
ｆ” の関係があシ、共振周波数ｆから印加張力が求め
られる。ここでｋはシャドウマスク部位（１３ｍ）の材
質、形状、寸法によって決る定数である。強制振動をさ
せるには、電磁石によるものなど周知のものを用いるこ
とができ、共振周波数検出器Ｇ２内に組込むことも可能
である。
せ、その振動周波数を連続的に変化させると、シャドウ
マスク部位（１３ｍ）はその共振周波数において大きな
振幅で振動する。この振動によりシャドウマスク部位（
１３ｍ）と金属板（３２，）で形成するコンデンサの容
量が変化するのでこの容量変化を共振周波数検出器０望
で検出することＫよりシャドウマスク部位（１３ｍ）の
共振周波数を知ることができる。即ち、印加張力Ｔと共
振周波数ｆの間には膜振動論かられかるようにＴ＝に−
ｆ” の関係があシ、共振周波数ｆから印加張力が求め
られる。ここでｋはシャドウマスク部位（１３ｍ）の材
質、形状、寸法によって決る定数である。強制振動をさ
せるには、電磁石によるものなど周知のものを用いるこ
とができ、共振周波数検出器Ｇ２内に組込むことも可能
である。
このようにしてシャドウマスク部位（１３ＪＬ）に所定
の張力が印加された時点でマスク７レームＩの溶接部（
１４１）に対応するリボン状枠（至）をシャドウマスク
部位（１３ｍ）上から溶接部に合わせ溶接点面で密に溶
接することによυシャドウマスク構体が完成する。
の張力が印加された時点でマスク７レームＩの溶接部（
１４１）に対応するリボン状枠（至）をシャドウマスク
部位（１３ｍ）上から溶接部に合わせ溶接点面で密に溶
接することによυシャドウマスク構体が完成する。
上述した実施例ではシャドウマスク部位（１３ａ）の振
動周波数を連続的に変化させる場合について説明したが
、これは検出した容量変化を振動手段にフィードバック
させることにより自動的に共振周波数を検出することも
可能である。この印加張力を非接触で検出することでシ
ャドウマスクに変形などの損傷を与えず、常に所定の張
力を印加することができる。
動周波数を連続的に変化させる場合について説明したが
、これは検出した容量変化を振動手段にフィードバック
させることにより自動的に共振周波数を検出することも
可能である。この印加張力を非接触で検出することでシ
ャドウマスクに変形などの損傷を与えず、常に所定の張
力を印加することができる。
また、装置としても上下送り装置をしたが、プレス機な
どを使用しても良いことは勿論である。
どを使用しても良いことは勿論である。
上述のように本発明によれば、予めシャドウマスクの熱
膨張によるう／ディング誤差を防止するよう均一な張力
が印加されている品位の良好なシャドウマスク構体を簡
単に製造できるシャドウマスク構体の製造装置を提供で
きる。
膨張によるう／ディング誤差を防止するよう均一な張力
が印加されている品位の良好なシャドウマスク構体を簡
単に製造できるシャドウマスク構体の製造装置を提供で
きる。
第１図乃至第３図は本発明のシャドウマスク構体の製造
装置の一実施例を示す図であ）第１図は要部斜視図、第
２図はシャドウマスク材に均一な張力を印加する前の状
態を示す断面図、第３図はシャドウマスク材に均一な張
力を印加し、マスクフレームとリボン状枠間に挾持固着
した状態を示す断面図、第４図は従来のシャドウマスク
方式カラー受像管の説明用断面図、第５図は従来のシャ
ドウマスク方式カラー受像管の他の例の要部説明用断面
図である。 ３・・・シャドウマスク １３１・・・シャドウマス
ク材１３＆・・・シャドウマスク部位 １５．１６・・
・押え板２４・・・支持板 ２５・−・円筒枠
体２７・・・溶接点 ２８・・・押えピン２９
・・・支持棒 ３０・・・上下送り装置３１・
・・基台 ３２・・・共振周波数検出器３
２、・・・金践板 代理人 弁理士 井 上 −男 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 第 ４ 図 第 ５ 図
装置の一実施例を示す図であ）第１図は要部斜視図、第
２図はシャドウマスク材に均一な張力を印加する前の状
態を示す断面図、第３図はシャドウマスク材に均一な張
力を印加し、マスクフレームとリボン状枠間に挾持固着
した状態を示す断面図、第４図は従来のシャドウマスク
方式カラー受像管の説明用断面図、第５図は従来のシャ
ドウマスク方式カラー受像管の他の例の要部説明用断面
図である。 ３・・・シャドウマスク １３１・・・シャドウマス
ク材１３＆・・・シャドウマスク部位 １５．１６・・
・押え板２４・・・支持板 ２５・−・円筒枠
体２７・・・溶接点 ２８・・・押えピン２９
・・・支持棒 ３０・・・上下送り装置３１・
・・基台 ３２・・・共振周波数検出器３
２、・・・金践板 代理人 弁理士 井 上 −男 第 １ 図 第 ２ 図 第 ３ 図 第 ４ 図 第 ５ 図
Claims (1)
- 電子ビーム通過孔部が規則的に設けられたシャドウマス
ク材の周縁部を挾持し、中央に開口部が設けられた一対
の押え板と、この押え板に対設された支持板の前記押え
板側にそれぞれ設けられ、前記押え板の開口部より径小
な外径を有する筒状枠体及びこの筒状枠体の内部に設け
られたマスクフレームを支持する押えピン並びに共振周
波数検出器と、前記押え板と支持板とを相対的に近接及
び離間させる移動機構とを少くとも具備し、前記押え板
と前記支持板の近接時に前記押え板と前記筒状枠体とに
より前記シャドウマスク材の少くとも前記筒状枠体内の
シャドウマスク部位を振動させて、その共振周波数を前
記共振周波数検出器で検出し、所定の張力としたのち、
前記シャドウマスク部位の所定部を前記マスクフレーム
とリボン状枠により挾持固着し得るようになされている
ことを特徴とするシャドウマスク構体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25049484A JPH0685298B2 (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | シヤドウマスク構体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25049484A JPH0685298B2 (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | シヤドウマスク構体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61131338A true JPS61131338A (ja) | 1986-06-19 |
| JPH0685298B2 JPH0685298B2 (ja) | 1994-10-26 |
Family
ID=17208702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25049484A Expired - Lifetime JPH0685298B2 (ja) | 1984-11-29 | 1984-11-29 | シヤドウマスク構体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0685298B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000060635A1 (en) * | 1999-04-01 | 2000-10-12 | Thomson Licensing S.A. | Color picture tube having a low expansion tension mask |
-
1984
- 1984-11-29 JP JP25049484A patent/JPH0685298B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000060635A1 (en) * | 1999-04-01 | 2000-10-12 | Thomson Licensing S.A. | Color picture tube having a low expansion tension mask |
| US6407488B1 (en) | 1999-04-01 | 2002-06-18 | Thomson Licensing S.A. | Color picture tube having a low expansion tension mask |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0685298B2 (ja) | 1994-10-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |