JPS61126732A - Ｘ線管の製造方法 - Google Patents
Ｘ線管の製造方法Info
- Publication number
- JPS61126732A JPS61126732A JP24625584A JP24625584A JPS61126732A JP S61126732 A JPS61126732 A JP S61126732A JP 24625584 A JP24625584 A JP 24625584A JP 24625584 A JP24625584 A JP 24625584A JP S61126732 A JPS61126732 A JP S61126732A
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- JP
- Japan
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- anode target
- cleaning
- ray tube
- anode
- slit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はグラファイト材をターゲットの一部に有するＸ
ＪＩ管の製造方法に関する。
ＪＩ管の製造方法に関する。
（発明の、技術的背景およびその問題点）近来例えばＣ
Ｔスキャナーなどに用いられるＸ線管は、陽極ターゲッ
トの熱容量を大きくするためターゲットの一部にグラフ
フィト材を使用している。すなわち第４図に示すように
、真空容器（１１）の内部にカソード（１２）をもつ陰
極構体（１３）およびこれに対向して回転陽極構体（１
０が配設されている。この回転陽極構体（１４）は、陽
極支柱（１５）に自転自在に支持されたロータ（１６）
の先端にシャフトを介して陽極ターゲット（１７）が固
定されてなる。この陽極ターゲット（昆）は、タングス
テン（Ｗ）あるいはモリブデン（ＭＯ）のような重金属
からなるターゲット基板（１８）の裏面にグラファイト
・ブロック（１９）が鑞接なとで接着されており、この
グラファイト・ブロック（１９）には熱膨張、熱応力を
吸収するための複数の放射状スリット（２０）スリット
（２０）が設けられている。
Ｔスキャナーなどに用いられるＸ線管は、陽極ターゲッ
トの熱容量を大きくするためターゲットの一部にグラフ
フィト材を使用している。すなわち第４図に示すように
、真空容器（１１）の内部にカソード（１２）をもつ陰
極構体（１３）およびこれに対向して回転陽極構体（１
０が配設されている。この回転陽極構体（１４）は、陽
極支柱（１５）に自転自在に支持されたロータ（１６）
の先端にシャフトを介して陽極ターゲット（１７）が固
定されてなる。この陽極ターゲット（昆）は、タングス
テン（Ｗ）あるいはモリブデン（ＭＯ）のような重金属
からなるターゲット基板（１８）の裏面にグラファイト
・ブロック（１９）が鑞接なとで接着されており、この
グラファイト・ブロック（１９）には熱膨張、熱応力を
吸収するための複数の放射状スリット（２０）スリット
（２０）が設けられている。
このようなグラフフィト・ブロック（１９）をもつ陽極
ターゲット（２）は、材料の性質上、グラファイト材か
らグラファイト粉末が多く発生し、管内放電をおこしや
すい不都合がある。とくにスリット（２０）が形成され
ているとその奥の部分に微粉末が留りやすい。このため
Ｘ線管の製造においてはこのグラファイト・ブロック（
１９）がらのグラフフィト粉末や一般的なゴミを除去す
るため、真空容器（１１）内に装着する前に陽極ターゲ
ット（且、）を洗浄している。なおグラフフィト・ブロ
ック（１９）はまたその性質上ガス吸蔵量が多いので、
あらかじめ真空加熱処理により予備的にガス出しを行な
わなければならない。この製造工程は第５図に示すよう
に、陽極ターゲット（１Ｌ）の洗浄工程（２１）を経た
後、真空加熱処理工程（２２）を経て、その後この陽極
ターゲットリュ）を回転陽極構体（１４）として組立て
る。この回転機構への取付は工程（２３）の後、真空容
１（１１）内へ回転陽極構体（１４）を組込む工程（２
４）にすすむ。
ターゲット（２）は、材料の性質上、グラファイト材か
らグラファイト粉末が多く発生し、管内放電をおこしや
すい不都合がある。とくにスリット（２０）が形成され
ているとその奥の部分に微粉末が留りやすい。このため
Ｘ線管の製造においてはこのグラファイト・ブロック（
１９）がらのグラフフィト粉末や一般的なゴミを除去す
るため、真空容器（１１）内に装着する前に陽極ターゲ
ット（且、）を洗浄している。なおグラフフィト・ブロ
ック（１９）はまたその性質上ガス吸蔵量が多いので、
あらかじめ真空加熱処理により予備的にガス出しを行な
わなければならない。この製造工程は第５図に示すよう
に、陽極ターゲット（１Ｌ）の洗浄工程（２１）を経た
後、真空加熱処理工程（２２）を経て、その後この陽極
ターゲットリュ）を回転陽極構体（１４）として組立て
る。この回転機構への取付は工程（２３）の後、真空容
１（１１）内へ回転陽極構体（１４）を組込む工程（２
４）にすすむ。
ターゲット洗浄工程は種々の洗浄方法が考えられるが、
従来一般的には狭い間隙の不純物の除去にも効果的であ
るとされている超音波洗浄が実施されている。
従来一般的には狭い間隙の不純物の除去にも効果的であ
るとされている超音波洗浄が実施されている。
しかしながら、ＣＴスキャナーなどで近来ますますＸ線
管の放電のないＡ信頼性の要求が強まっており、そのよ
うな背景からみると従来の製造方法ではまだターゲット
とくにグラフフィト・ブロックに残留する粉末の除去が
不充分であることが確認された。
管の放電のないＡ信頼性の要求が強まっており、そのよ
うな背景からみると従来の製造方法ではまだターゲット
とくにグラフフィト・ブロックに残留する粉末の除去が
不充分であることが確認された。
本発明は、以上の事情に鑑みてなされたもので、グラフ
フィト材を陽極ターゲットの一部に有するＸＩ管の製造
方法において、グラフフィト材からの不純物の除去を一
層確実に達成し、管内放電の防止に顕著な効果を得るＸ
線管の製造方法を提供するものである。
フィト材を陽極ターゲットの一部に有するＸＩ管の製造
方法において、グラフフィト材からの不純物の除去を一
層確実に達成し、管内放電の防止に顕著な効果を得るＸ
線管の製造方法を提供するものである。
本発明は、少なくとも一部にグラファイト材からなるブ
ロックを備えた回転陽極ターゲットを真空外囲器内に組
込む前に、このターゲットに洗浄剤をジェット噴流によ
り吹き付けて洗浄するジェット噴流洗浄を行なうことを
特徴とするＸａ管の製造方法であ′る。またとくに好ま
しくは、陽極ターゲットを真空加熱処理する工程を経た
後に、ジェット噴流洗浄工程を経ることを特徴とするＸ
線管の製造方法である。
ロックを備えた回転陽極ターゲットを真空外囲器内に組
込む前に、このターゲットに洗浄剤をジェット噴流によ
り吹き付けて洗浄するジェット噴流洗浄を行なうことを
特徴とするＸａ管の製造方法であ′る。またとくに好ま
しくは、陽極ターゲットを真空加熱処理する工程を経た
後に、ジェット噴流洗浄工程を経ることを特徴とするＸ
線管の製造方法である。
以下図面を参照してその実施例を説明する。なお同一部
分は同一符号であられす。
分は同一符号であられす。
本発明の特徴である陽極ターゲット（匡）のグラファイ
ト材からなるグラファイト・ブロック（１つ）を洗浄す
る工程は、第１図および第２図に示すように、洗浄装置
の一部を構成する回転保持台（２５）の上に陽極ターゲ
ット（１Ｌ）を図示のように載せる。洗浄剤輸送パイプ
（２６）から分岐された３個のジェットノズル（２７）
が、グラフフィト・ブロック（１９）の面に近接して配
置されている。これらジェットノズル（２７）は、スリ
ット（２０）に沿って配列され、その先端から洗浄剤を
ジェット噴流にしてグラファイト・ブロック（１９）の
面およびスリット（２０）の内面に吹き付けるようにな
っている。回転保持台（２５）は回転軸（２８）により
所定モードすなわちジェットノズル（２７）がスリット
（２０）の位置に合致したときおよそ３０秒間停止し、
次に隣のスリット（２０）まで間はゆっくり定速度で回
転するモードを繰り返すようになっている。なお陽極タ
ーゲット（ＬＬ）は回転保持台（２５）上に回転軸（２
８）の先端に螺合されたナツト（２９）で固定されてい
る。洗浄剤は、フレオン（商品名）で知られる炭化水素
のフルオルクロル置換体などが適している。同図におい
て符号（３０）はジェット噴流をあられしている。
ト材からなるグラファイト・ブロック（１つ）を洗浄す
る工程は、第１図および第２図に示すように、洗浄装置
の一部を構成する回転保持台（２５）の上に陽極ターゲ
ット（１Ｌ）を図示のように載せる。洗浄剤輸送パイプ
（２６）から分岐された３個のジェットノズル（２７）
が、グラフフィト・ブロック（１９）の面に近接して配
置されている。これらジェットノズル（２７）は、スリ
ット（２０）に沿って配列され、その先端から洗浄剤を
ジェット噴流にしてグラファイト・ブロック（１９）の
面およびスリット（２０）の内面に吹き付けるようにな
っている。回転保持台（２５）は回転軸（２８）により
所定モードすなわちジェットノズル（２７）がスリット
（２０）の位置に合致したときおよそ３０秒間停止し、
次に隣のスリット（２０）まで間はゆっくり定速度で回
転するモードを繰り返すようになっている。なお陽極タ
ーゲット（ＬＬ）は回転保持台（２５）上に回転軸（２
８）の先端に螺合されたナツト（２９）で固定されてい
る。洗浄剤は、フレオン（商品名）で知られる炭化水素
のフルオルクロル置換体などが適している。同図におい
て符号（３０）はジェット噴流をあられしている。
このようにして陽極ターゲットをジェット噴流洗浄によ
り約２０分間洗浄し、その後陽極ターゲットを真空加熱
処理してガス出しを行ない、回転陽極構体に組立て、真
空容器内に組込み排気工程を経てＸ線管を製作する。本
発明によれば、特に陽極ターゲットのスリットをもつグ
ラファイト・ブロックをジェット噴流により洗浄するの
で、グラフフィト・ブロックからの微粉末除去を確実に
でき、Ｘ線管の使用時の管内放電を抑制することができ
る。本発明者らの実測では、同一の洗浄時間で比較する
と、従来の超音波洗浄法によればこの洗浄後の陽極ター
ゲットに付着している微粉末（大部分がクラファイト粉
末である）のＩは平均的に２．９ｇ＋ｇであったのに対
し、本発明によると０．３＋ａｇ以下という、非常に少
ない聞に低減することができた。
り約２０分間洗浄し、その後陽極ターゲットを真空加熱
処理してガス出しを行ない、回転陽極構体に組立て、真
空容器内に組込み排気工程を経てＸ線管を製作する。本
発明によれば、特に陽極ターゲットのスリットをもつグ
ラファイト・ブロックをジェット噴流により洗浄するの
で、グラフフィト・ブロックからの微粉末除去を確実に
でき、Ｘ線管の使用時の管内放電を抑制することができ
る。本発明者らの実測では、同一の洗浄時間で比較する
と、従来の超音波洗浄法によればこの洗浄後の陽極ター
ゲットに付着している微粉末（大部分がクラファイト粉
末である）のＩは平均的に２．９ｇ＋ｇであったのに対
し、本発明によると０．３＋ａｇ以下という、非常に少
ない聞に低減することができた。
ざらに本発明者らの考察によれば、この洗浄の時間はむ
やみに長いとかえって微粉末が多くなので、ジェット噴
流の速度や量、ノズルの位置などとの関係から最適な時
間を設定すべきであることを見出した。同時にまた、陽
極ターゲットからのガス出しのための真空加熱処理との
関係で、この真空加熱処理を洗浄工程の前に実施するこ
とが望ましいことを見出した。すなわち第３図に工程図
を示すように、陽極ターゲットを単体で真空加熱処理し
てガス出しを行ない、その後ジェット噴流洗浄する。な
おこの洗浄工程は、好ましくはまず前述の実施例の如き
ジェット噴流洗浄を行ない、次に超音波洗浄を行なう。
やみに長いとかえって微粉末が多くなので、ジェット噴
流の速度や量、ノズルの位置などとの関係から最適な時
間を設定すべきであることを見出した。同時にまた、陽
極ターゲットからのガス出しのための真空加熱処理との
関係で、この真空加熱処理を洗浄工程の前に実施するこ
とが望ましいことを見出した。すなわち第３図に工程図
を示すように、陽極ターゲットを単体で真空加熱処理し
てガス出しを行ない、その後ジェット噴流洗浄する。な
おこの洗浄工程は、好ましくはまず前述の実施例の如き
ジェット噴流洗浄を行ない、次に超音波洗浄を行なう。
その後この陽極ターゲットを乾燥して回転陽極構体とし
て組立てる。
て組立てる。
この実施例によれば、洗浄ｒ程後の陽極ターゲットに残
る微粉末の量を、平均的に０．２ｍｇ以下に低減するこ
とができた。この実施例の効果は、以上洗浄処理工程を
経た陽極ターゲットを再び真空加熱処理すると、微粉末
量が逆に約１．３ｓ＋ｇに増大してしまうことから確認
することができた。これは真空加熱処理によりグラフフ
ィト表面部の粒子結合がゆるんでグラフフィト粉末がか
えうて多く発生するためである考えられる。
る微粉末の量を、平均的に０．２ｍｇ以下に低減するこ
とができた。この実施例の効果は、以上洗浄処理工程を
経た陽極ターゲットを再び真空加熱処理すると、微粉末
量が逆に約１．３ｓ＋ｇに増大してしまうことから確認
することができた。これは真空加熱処理によりグラフフ
ィト表面部の粒子結合がゆるんでグラフフィト粉末がか
えうて多く発生するためである考えられる。
したがってまた、最初に述べた実施例のようにジェット
噴流による洗浄を行なった後真空加熱処理する場合は、
その後に例えば超音波洗浄を実施して真空加熱処理によ
りあらたに発生しやすくなったグラファイト・ブロック
の表面の微粉末を除去することが望ましい。
噴流による洗浄を行なった後真空加熱処理する場合は、
その後に例えば超音波洗浄を実施して真空加熱処理によ
りあらたに発生しやすくなったグラファイト・ブロック
の表面の微粉末を除去することが望ましい。
なお本発明は、陽極ターゲットの構造として上述の実施
例のものに限られず、例えばＳｉＣとグラファイト材と
の複合物をターゲットの一部に備え、重金属からなるＭ
子ビーム射突面すなわちＸＩ！焦点軌道面を備える構造
のものなど、ターゲットの少なくとも一部にグラファイ
ト材を備えるＸｔａ管の製造方法に適用できる。
例のものに限られず、例えばＳｉＣとグラファイト材と
の複合物をターゲットの一部に備え、重金属からなるＭ
子ビーム射突面すなわちＸＩ！焦点軌道面を備える構造
のものなど、ターゲットの少なくとも一部にグラファイ
ト材を備えるＸｔａ管の製造方法に適用できる。
本発明は、以上のようにＸ線管真空容器内に組込む前に
、グラファイト材をもつ陽極ターゲットをジェット噴流
洗浄により洗浄することによって、グラファイト材表面
の微粉末をより一層確実に除去でき、Ｘ線管の管内放電
を抑制することができる。またとくにグラファイト材に
スリットが形成された構造のターゲットではこのスリッ
トの奥の部分にＳ留しやすい微粉末をも確実に除去でき
る。こうして管内Ｘ１６Ａ管の信頼性を高めることがで
きる。
、グラファイト材をもつ陽極ターゲットをジェット噴流
洗浄により洗浄することによって、グラファイト材表面
の微粉末をより一層確実に除去でき、Ｘ線管の管内放電
を抑制することができる。またとくにグラファイト材に
スリットが形成された構造のターゲットではこのスリッ
トの奥の部分にＳ留しやすい微粉末をも確実に除去でき
る。こうして管内Ｘ１６Ａ管の信頼性を高めることがで
きる。
第１図は本発明の一実施例のターゲット洗浄工程を示す
斜視図、第２図はその縦断面図、第３図は本発明の他の
実施例を説明する工程図、第４図はＸ線管のを示す概略
図、第５図は従来の処理工程図である。 （１９）・・・グラファイト・ブロック、（１７）−・
・陽極ターゲット、（２０）・・・スリット、（２１）
・・・ジェットノズル。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名）第
１ 図 第２図 第 ３ 図 第 ４ 図 第５図
斜視図、第２図はその縦断面図、第３図は本発明の他の
実施例を説明する工程図、第４図はＸ線管のを示す概略
図、第５図は従来の処理工程図である。 （１９）・・・グラファイト・ブロック、（１７）−・
・陽極ターゲット、（２０）・・・スリット、（２１）
・・・ジェットノズル。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 （ほか１名）第
１ 図 第２図 第 ３ 図 第 ４ 図 第５図
Claims (3)
- （１）一部にグラファイト材からなるブロックを備える
回転陽極ターゲットを真空容器内に組込む前に、 前記陽極ターゲットを真空加熱処理する工 程と、この真空加熱処理工程の前又は後に該陽極ターゲ
ットを洗浄する洗浄工程とを経るＸ線管の製造方法にお
いて、 上記陽極ターゲットの洗浄工程は、該ター ゲットに洗浄剤をジェット噴流により吹き付けて洗浄す
るジェット噴流洗浄を含むことを特徴とするＸ線管の製
造方法。 - （２）陽極ターゲットを真空加熱処理する工程を経た後
に、ジェット噴流洗浄工程を経ることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のＸ線管の製造方法。 - （３）洗浄工程は、ジェット噴流洗浄と、その後に超音
波による洗浄との組合せからなる特許請求の範囲第１項
記載のＸ線管の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24625584A JPS61126732A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | Ｘ線管の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24625584A JPS61126732A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | Ｘ線管の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61126732A true JPS61126732A (ja) | 1986-06-14 |
Family
ID=17145800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24625584A Pending JPS61126732A (ja) | 1984-11-22 | 1984-11-22 | Ｘ線管の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61126732A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001357807A (ja) * | 1999-12-29 | 2001-12-26 | General Electric Co <Ge> | Ｘ線管において異種金属を接合するための結合部材を有するコンプライアント継手 |
-
1984
- 1984-11-22 JP JP24625584A patent/JPS61126732A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001357807A (ja) * | 1999-12-29 | 2001-12-26 | General Electric Co <Ge> | Ｘ線管において異種金属を接合するための結合部材を有するコンプライアント継手 |
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