JPS61124388A - リジン生産性微生物の培養方法及びそれに使用する培養資材 - Google Patents

リジン生産性微生物の培養方法及びそれに使用する培養資材

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JPS61124388A
JPS61124388A JP24327884A JP24327884A JPS61124388A JP S61124388 A JPS61124388 A JP S61124388A JP 24327884 A JP24327884 A JP 24327884A JP 24327884 A JP24327884 A JP 24327884A JP S61124388 A JPS61124388 A JP S61124388A
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JP
Japan
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light
lysine
culturing
wavelength range
irradiation
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Pending
Application number
JP24327884A
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Inventor
Yoshihisa Suzuki
義久 鈴木
Mitsuo Igami
伊神 光男
Isamu Harasawa
原沢 勇
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Nippon Carbide Industries Co Inc
Original Assignee
Nippon Carbide Industries Co Inc
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Publication date
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  • Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発Fl;J#′iブレビバクテリウム(Brevib
acterium )属に属するリジン生産性微生物の
培養方法に関し、さらに詳しくは、該リジン生産性微生
物を特定の波長領域の光線の照射下に培養することによ
って該リジンの生産性を向上させるリジン生産性微生物
の培養方法及びそれに使用する培養資材に関する。
本発明者は各種有用植物の生育、有用植物に対する病害
糸状菌類の繁殖の防除、藻類植物の培養等において、光
質条件が如何に影響するか全研究してbる過程において
、全く偶然的に、ブレビバクテリウム属に属するリジン
生産性微生物を少くとも280nmおよびそれ以上の光
線を含有する特定の光線の積極的照射下に培養すると、
リジンの生産性が大いに向上することを見い出し本発明
を完成するに至った。
かくして、本発明に従えば、ブレビバクテリウム属に属
するリジン生産性微生物を培養し、リジンを生産する方
法において、該培養を少なくとも280nmおよびそれ
以上の波長域の光線を実質的に含有する光線の照射下に
行なうことを特徴とするリジン生産性微生物の培養方法
及び人工光及び/又は自然光照射下の光質雰囲気を調節
するリジン生産性微生物培養資材であって、少なくとも
280 nm及びそれ以上の波長域の光を照射すること
を特徴とするリジン生産性微生物培養用資材が提供され
る。
本明細書において「ブレビバクテリウム(Brevi 
−bacterium )属に属するリジン生産性微生
物」とは、リジンを菌体内において又は代謝生産物とし
て生産する能力を有するブレビバクテリウム属に属する
微生物をいい、リジンを少量副生ずる能力を有する微生
物は包含しない。
本発明の方法は、本発明者らの経験及び後述する実施例
の結果から明らかなように、一般的に言って、どのよう
な種類のブレビバクテリウム属に属するリジン生産性微
生物に対しても適用することができ、それKよって大な
シ小なシリジンの生産性の向上効果を期待することがで
きる。
本発明の方法を適用することができる代表的なブレビバ
クテリウム(Brevibacterium )属に属
する微生物としては、例えば、ブレビバクテリウム・フ
ラバム(Br、flavum ) 、ブレビバクテリウ
ム・ラクトファーメンタム(Br−1actoferm
entum )、ブレビバクテリウムφアンモニアゲネ
ス(Br。
anmoniagenes )、ブレビバクテリウム・
デイノ(リカタム(Br、divaricatum )
、ブレピノくクテリウム・ヘルボルム(Br、helv
olum )、ブレビバクテリウムeケトグルタミカム
(Br、ketoglutamicum )、ブレビバ
クテリウム・リネンス(Br、 1inens ) 、
及びブレビバクテリウム番チオゲニl’ リス(Br。
thiogenitalis )等が挙げられ、さらに
詳しく例示すれば次のような性質を有する菌株を挙げる
ことができる。なお下記の例示において、0内に示した
ATCC番号は、American Type Cu1
ture Co11ectionの寄託番号である。
(1)ブレビバクテリウム・フラバム(Br−flav
um )値)栄養要求性変異株 スレオニン要求性 グルタミン酸要求性 ホモセリン要求性(ATCC21474)ホモセリン要
求性+アラニン要求性 スレオニン要求性+メチオニン要求性 (b)感受性変異株 スレオニン感受性(ATCC21128,21129)
スレオニン感受性+メチオニン感受性 (c)代謝調節変異株 AEC耐性(ATCC21475) (d)組み合せ株 AEC耐性+AHV耐性+スレオニン要求性ペニシリン
Gr+スレオニン耐性+スレオニン要求性 N−−yウロイルロイシン耐性+ホモセリン要求性+ア
ラニン要求性 ABC耐性+酢酸要求性 ホモセリン要求性+アラニン要求性+フロロピルビン醗
感受性 (2)ブレビバクテリウム・ラクトファーメンタム(B
r、 lactofermentum )(a)栄養要
求性変異株 スレオニン要求性 (b)感受性変異株 (c)代謝調節変異株 AEC耐性 AHV耐性 AEC耐性+2−チアゾールアラニン耐性AEC耐性+
スレオ−β−ヒドロギシーDL−ロイシン耐性 CBL耐性 r−メチルリジン耐性 CBL耐性+AEC耐性 AEC耐性+α−アミノラウリルラクタム耐性 (d)組み合せ株 AEC耐性+アラニン要求性 AECEC耐性ソバリン要 求性C耐性+アラニン要求性+ロイシン要求性 AEC耐性+ニコチン酸要求性 AEC耐性+ニコチン酸アミド要求性 AEC耐性+ヒボキサンチン要求性 AEC耐性+スレオ−β−ヒドロキシ−DL−ロイシン
耐性+アラニン要求性 AEC耐性+アザロイシン耐性+アラニン要求性 AEC耐性+CCL耐性+2−チアゾールアラニン耐性
+アラニン要求性 AEC耐性+CCL耐性+アザロイシン耐性十アラニン
要求性 AEC耐性+CCL耐性+アラニン要求性ABC耐性+
CCL耐性+アラニン要求性+67−■)−カルボキシ
−3′−チア−7/−アザ−2,3−シクロヘプテノー
ナ7タレン−1,4−キノン感受性 AEC耐性+CCL耐性+アラニン要求性+5.8−ジ
オキノ−6−アミノ−7−クロロキノリン感受性 AEC耐性+CBL耐性+アラニン要求性AEC耐性+
r−メチルリジン耐性+アラニン要求性 AEC耐性+セリン要求性+ロイシン要求性AEC耐性
+r−メチルリジン耐性+マロン酸耐性+アラニン要求
性 ・ AEC耐性+r−メチルリジン耐性+ケトマロン駿
耐性+アラニン要求性 AEC耐性+CCL耐性+アラニン要求性十フロロピル
ビン酸感受性 AEC耐性+CCL耐性+アラニン要求性十酢酸要求性 AEC耐性+CCL耐性+アラニン要求性十N−ラウロ
イルロイシン耐性 AEC耐性+CCL耐性+r−メチルリジン耐性+アラ
二ノ要求性 AEC耐a+α−クロロカグロラクタム耐性+r−メチ
ルリジン耐性+β−フルオ ロピルビン駿感受性+アラニン要求性 (3)ブレビバクテリウム・アンモニアゲネス(Br。
anmoniagenes ) (a)栄養要求性変異株 スレオニン要求性(ATCC19350)フェニールア
ラニン要求性(ATCC19351)ヒスチジン要求性
(ATCC19352)メチオニン要求性(ATCC1
9353)システィン要求性(ATCC19354)ロ
イシン要求性(ATCC19355)インロイシン要求
性(ATCC19356)ホモセリン要求性 (4)ブレビバクテリウム・ディパリカタム(Br。
divaricatum ) ATCC21792 (5)ブレビバクテリウム・ヘルポルム(Br、 he
lvolum)ATCC19390 (6)ブレビバクテリウム・ケトグルタミカム(Br、
 ketoglutam icum)(a)栄養要求性
変異株 メチオニン要求性+スレオニン要求性 (ATCC21004) (7)ブレビバクテリウム・リネンス(Br、 1in
ens )ATCC19391 (8)ブレビバクテリウム・チオゲニタリス(Br。
thiogenitalis ) 等が挙げられ、就中ブレビバクテリウム・フラバム及び
ブレビバクテリウム・ラクトファーメンタムが好ましい
〔略号〕
AEC:5−(2−アミノエチル)−り一システイン AHV :α−アミノ−β−ヒドロキシ吉草酸CBL 
:N”−カルボベンゾキシリジンccL:α−クロロカ
プロラクタム 例示中−・・・・・要求性とあるは・・・・・・要求性
法のことである。
従来、リジンの発酵法による工業的生産は、通常、終始
暗黒のタンク内で行なわれており、光線の照射を実質的
に回避した条件下に行なわれている。本発明は、かかる
従来のリジンの発酵的生産法とは対照的に、上記特定の
光線を含有する光線を積極的に照射しながら微生物の培
養を行なうものであシ、この点、本発明の方法は従来の
発酵法とは本質的に相違するものである。
上記特定光線の照射はリジン生産工程でいう、前培養お
よび、本培養いづれの場合も適用されるが1本培養に行
うことによりその効果が大となる。
照射しうる光線は、少なくとも280 nmおよびそれ
以上の波長域の光線を実質的に含有する限り、特に制限
はなく、上記特定波長域光を実質的に含有する光線であ
れば、人工光線のみならず、自然光線も使用することが
できる。
しかして、人工光線及び/又は自然光線を用いる場合に
は、必要に応じ光フィルターを用い、少なくとも280
nmおよびそれ以上の波長域の光線を実質的に含有する
光線の照射光量が100,000μη−以下、好ましく
は30.000 ay/cpj以下、更に好ましくは1
0,000〜1μw/ejに抑制された人工光線の照射
下に培養することが好ましい。
本発明の方法に従い、微生物の培養系に照射される前記
光線の強度は、厳密に制限されるものではなく、培養す
べき微生物の種類やその他の培養条件等により異なり、
個々の場合における最適の照射条件は当業者であれば小
規模の実験を行なうことにより容易に決定しうるが、一
般には、400nm〜700nmの範囲の波長の可視光
線領域の光量が1oo、oonμ訪−以下、好ましくは
50,000〜1p眉、さらに好ましくはio、ooo
〜5μW囚、特に好ましくは5,000〜100μw/
dの範囲内にv4N)された光線を照射するのが有利で
ある。また、380nm〜400nmの波長の紫外線領
域の光線はあまり強くない方が好ましく、通常該波長範
囲の紫外線の強度は一般にso、oooμW/(Vl以
下、好ましくは40.000μw/c賛以下、さらに好
ましくはio、ooo  〜1μηり特に好ましくは5
,000〜1μW肩とするのが望ましい。
また、本発明の方法に従い、微生物の培養系に対して前
記特定の光線を積極的に照射する具体的方法としては、
例えば、実質的に外光線から密閉された系内(タンク内
)において、少なくとも280 nmおよびそれ以上の
波長域の光線を実質的に含有する光線、好ましくは、3
80nm以下の紫外線を実質的に含有せず、且つ、40
0〜600nmの波長域光、特に好ましくは、380n
m以下の紫外線を実質的に含有せず、且つ、400〜5
00nmの波長域光を実質的に含有する人工光線(この
場合、人工光線源それ自体がかかる光質特性の光を発す
るものであってもよく、或いは人工光線源を適当なフィ
ルターで覆うことKより照射される光が上記のような光
質特性をもつようにしてもよい)を照射する方法二太陽
又は自然光線の照射下に、少なくとも280nmおよび
それ以上の波長域の光線を実質的に含有する光線、好ま
しくは、380 nm以下の紫外線を実質的に含有せず
、且つ400〜700nmの波長域光、更に好ましくは
380 nm以下の紫外線を実質的に含有せず、且つ、
400〜600nmの波長域光、更に好ましくは、38
0 nm以下の紫外線を実質的に含有せず、且つ、40
0〜500nmの波長域光を実質的に含有する光を透過
する、透明な無色乃至有色の有機質又は無機質の被覆材
(例えば、紫外線吸収剤を配合した合成樹脂フィルム)
により被覆した条件下に培養を行なう方法;並びに上記
両方法の組合わせ等が考えられる。
なお、該光線の照射の仕方としては、例えば、直接照射
を行う方法、鏡・プリズム等を介して行つ方法、光7ア
イパー(ケーブル)等を利用して行う方法、その他、そ
れらを組み合せた方法等、種々の方法が考えられ、必要
に応じて適宜選択することができる。
本発明の方法に従かい上記特定波長域光を実質的に含有
する光線のリジン生産性微生物に対する照射開始時期は
、該微生物培養系内に於いて、該微生物の、対数増殖期
が好ましい。該微生物は、培養系内に植菌されると、直
ちに急激なる増殖は行なわず、誘導期を経過した後に、
急速に増殖全行う対数増殖期となる。対数増殖期以降の
、該微生物は、系内の栄養源の枯渇に伴ない定常期金経
て、減数、死滅する。本発明によれば、上記特定波長域
光を実質的に含有する光線の照射開始は、対数増殖期、
好ましくは、対数増殖期の前期さらに好ましくは、中期
である。また、上記特定の波長域光を実質的に含有する
光線を照射する期間としては、前期の照射開始時点より
発酵が終了する時点まで、ある込は発酵がある過程に達
する時点まで等あげられるが、好ましくは発酵が終了す
る時点までである。
なお、照射形式としては、続けて照射を行う連続照射法
、照射と暗黒とを交互にくり返す間欠照射法、およびこ
れらの組み合せ法等があり、適宜選択することが出来る
本発明でいうr 280nmおよびそれ以上の波長域の
光線を実質的に含有する」とは照射する全光線量のうち
、280nm未溝の波長域の紫外線が完全に存在しない
ことのみならず、該紫外線が本発明の培養に悪影響を及
ぼさない程度の範囲で僅かに含有していても支障はない
ことを意味する。
また、本発明でいうr 380nmおよびそれ以下の紫
外線を実質的に含有せず」とは、照射する全光線量のう
ち、380nm以下の波長域の紫外線が完全に存在しな
いことのみならず、該紫外線が本発明に悪影響を及ぼさ
ない程度の範囲で少量、含有していても支障ないことを
意味する。
更Kまた、本発明でいう。rX−Ynmの波長′域の光
を実質的に含有する」とは、照射する全光線量のうち、
X”Ynmの波長域光が100チの場合のみならず、5
0%以上、好ましくは、70係以上更に好ましくは90
チ以上である。
本発明の方法に従うリジン生産性微生物の培養は、上記
特定の光線の照射下に行なうという条件を除けば、従来
から行なわれている条件と全く同様の条件下に行なうこ
とができる。例えば、リジン生産性微生物を適当な栄養
培地中で液体培養又は固体培養することKより行うこと
ができる。その際の培地の栄養源、窒素源及び無機塩類
等は、使用する微生物や培養手段に応じて適宜変更選択
されるが、微生物の培養に通常用いられるものが広く使
用される。炭素源としては、同化可能な炭素化合物であ
ればよく、例えばブドウ糖、ショ糖、乳糖、麦芽糖、澱
粉、デキストリン、糖蜜、液糖、グリセリン炭化水素、
エチルアルコールなどが使用される。また、窒素源とし
ては、使用可能な窒素化合物であればよく、例えばコー
ン・スチープ・リカー、大豆粉、大豆タンパク加水分解
物、綿実油、小麦グルテン、ペプトン、肉エキス、酵母
エキス、酵母、カゼイン加水分解物、アンモニウム塩、
硝酸塩、などが使用される。無機塩としては例えば、リ
ン酸塩、マグネシウム、カルシウム、カリウム、ナトリ
ウム、亜鉛、鉄、マンガンなどの塩類が必要に応じて各
種ビタミン類やアミノ酸類も使用される。
培養温度および培養時間は、使用する微生物によっても
多少異なるものであって、その微生物が充分発育し得る
範囲内で適宜変更することができるが一般的には、約2
5〜37℃程度で培養することがよい。
更に具体的な培養条件は、個々の微生物によって異なる
が、例えば、特許公報オ51−5073号、同51−2
1078号、同51−24593号、同53−4359
1号、同54−19469号、同54−19470号、
同54−34836号、同55−51547号、同55
−1040号、同56−1914号、同56−1915
号及び同56−1.0036号等開示された培養条件を
用いて行うことができる。
しかして、本発明によれば、上記光線の透過特性を有す
るリジン生産性微生物の培養用の被覆材が提供される。
本発明の資材としては、上記の光線透過特性を有するも
のであれば、その材質等は特に制限されるものではなく
、どのようなタイプの被覆材でも使用することができる
。そしてかかる資材は通常無機質又は有機質のフィルム
、板、その他の成形体から成ることができる。しかして
、例えば無機質フィルム又は板としては、典型的には染
料又は顔料(例:エメラルドグリーン)を配合したガラ
ス板、下記に示す紫外線吸収剤を含有する合成樹脂膜を
塗布又は積層したガラス板およびガラスフィルター等が
挙げられ、また、有機質フィルム又は板としては、特に
紫外線吸収剤を塗布又は含有せしめた合成樹脂フィルム
又は板が好適である。
この成形に使用しうる樹脂としては、後述する熱可塑性
樹脂の他、例えば、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エ
ポキシ樹脂、シリコーン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹
脂、アリルフタレート樹脂等の熱硬化性樹脂もまた用い
ることができる。
本発明に使用し得る透明フィルム又は板は、例えば通常
のフィルム形成性熱可塑性樹脂に適当な紫外線吸収剤を
配合し、フィルム又は板に成形することにより興造する
ことができる。
使用し得るフィルム成形性熱可塑性合成樹脂としては、
例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニIJデン、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエステル
、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリ
レート、ポリアクリレート、ポリ酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、含フツ素樹脂、セルロース系樹脂、AB
Sw脂等、又はこれら重合体を主体(好ましくは50重
量%以上)とする共重合体もしくはブレンド物が包含さ
れ、特に耐光性、強度、光線透過性の理由からポリ塩化
ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル
、含フツソ系樹脂、セルロース系樹脂及びポリカーボネ
ートが好適である。
本発明に使用し得る人工光源として、上記した特定波長
域の光線を放射する光源で−あれば、いづれものでも使
用できる。そして、かかる光源としては例えば、螢光灯
、水銀灯、陽光ランプ、一般電球、投光用電球、特殊電
球(東芝ランプカタログより、東芝電材株式会社)等が
ある。更に具体的には、螢光灯〔に)内は、商品名を示
す。〕として、日照灯(FL 405W−E/M、東芝
)、プラントルクス(FL40B/NL、東芝)、フィ
ッシュルクス(F L 405BRF/NL 、東芝)
、青色(FL40B/NL、東芝)、青白色(FL40
BW/NL、東芝)、白色(FL40SD/NL、東芝
)、昼光色(FL40SD/NL、東芝)、デラックス
(’Fl、40SW−DL−X/NL、東芝)、温白色
(FL40SW/NL、FL40SW−A/NL、東芝
)、葉たばこ用6100’K(FL405RD−8DL
 610 noに、東芝)、写真撮影用(F’L40 
SD −SDL −CP /NL、東芝)、高演色性螢
光灯(FL 205W−EDL−50に、東芝)及び捕
虫用螢光灯(FL20SBA−37に、東芝)等があり
、このうち、青色および青白色灯が好ましい。
以上述べた本発明の方法に従えば、発酵法によるリジン
の生産において、特定の光質条件下に微生物を培養する
ことにより、リジンの生産が大いに促進され、医薬、食
品等の分野に資する所極めて甚大である。
次に実施例を挙げて、本発明をさらに説明する。
実施例1〜2、比較例1 肉エキス102、ペプトン10?、酵母エキス5?、N
aC45f!及び蒸留水1tから成る水溶液100m/
(PH7,2)を500−三角フラスコに分注し、加圧
滅菌後、あらかじめブイヨンスラントに植継いでおいた
リジン生産性微生物ブレビバクテリウム・フラブム(B
revibacterium flavumA’f’C
C21128)を1白金耳液種し、培養温度30℃、振
とり回転数200回/分、暗黒条件下で20時間培養し
た。
予め、表−1から成る水溶液を調製しておき、その水溶
液20−をバリオガラス製の50〇−坂ロフラスコに分
注し、110℃、10分間滅菌後、上記前培養浮遊液2
−を接種し、培養温度32.5℃、振とう回転数200
回/分、暗黒条件下で、本培養を行った。
東培養液1を当たりの組成量 本培養開始より7時間口に、菌体の増殖が対数増殖期の
中期に達していること゛を生菌数により確認したので、
表−2、図−1に示した各種波長域光を発光する光源を
各々設置しである2基の振とう培養機(培養温度32.
5℃、振とり回転数200回/分)K、各光照射区に各
々5本ずつ培養フラスコを移し、培養を継続した。なお
、残った5本の培養7ラスコについてはそのまま暗黒培
養を続けた。培養時間は培養開始より72時間とし、各
種光質照射区では連続照射培養を行いその結果を表−3
に示した。リジン生産量は、各党照射区の培養フラスコ
(5本)で各々得られた平均値である。
その培養結果を表−3に示した。
表  −3 実施例3〜4、比較例2 実施例1.2で用いたリジン生産性微生物をブレビバク
テリウム・ラクトファーメンタム(Brevibact
erium lactofermentum AJ  
3432[−P1711)K替え、さらに表−4及び表
−5に示した前培地及び本培地を使って、実施例1.2
と同一の方法で前培養及び本培養を行った。但し、培養
温度は30℃、培養時間は72時間とし、培養結果を表
−6に示した。
表−4 表  −6 実施例5〜6、比較例−3 実施例1.2で用いたリジン生産性微生物をブレビバク
テリウム・フラブム(Brevibacteriumf
lavum ATCC21511に替え、表−4及び表
−7に示した前培地及び本培地を使って、実施例1.2
と同一の方法で前培養及び本培養を行った。培養温度は
3(Ic、培養時間は110時間とし、その培養結果を
表−8に示した。
表  −7 表−8 実施例7〜8、比較例−4 実施例1.2で用いたリジン生産性微生物をブレビバク
テリウム・ラクトファーメンタム(Brevibact
erium lactofermentum AJ  
11256FERM P−4526)に替え、表−4及
び表−5に示した前培地及び本培地を使って、実施例1
.2と同一の方法で前培養及び本培養を行った。
培養温度は30℃、培養時間Fi72時間とした。
その培養結果を表−9に示した。
表  −9 実施例−9〜10.比較例−5 実施例1.2で用いたリジン生産性微生物をブレビバク
テリウム・フラブム(Brevibacteriumf
lavurn S−5ATCC21127)に替え、表
−10及び表−11に示した前培地及び本培地を使つ℃
、実施例1.2と同一の方法で前培養及び本培養を行っ
た。培養時間は120時間とし念。
その培養結果を表−12に示した。
表−10 表  −11 表  −12
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例で使用した照射光の波長別比エネルギー
曲線である。 特許出願人   日本カーバイド工業株式会社第1図 % 1皮長 (nm)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ブレビバクテリウム(Brevibacteriu
    m)属に属するリジン生産性微生物を培養し、リジンを
    生産する方法において、該培養を少なくとも280nm
    およびそれ以上の波長域の光線を実質的に含有する光線
    の照射下に行なうことを特徴とするリジン生産性微生物
    の培養方法。 2、該培養を少なくとも380nm以下の紫外線を実質
    的に含有せず、且つ400nm以上の波長域光を実質的
    に含有する光線の照射下に行なう特許請求の範囲第1項
    記載の方法。 3、該培養を少なくとも380nm以下の紫外線を実質
    的に含有せず、且つ400〜700nmの波長減光を実
    質的に含有する光線の照射下に行なう特許請求の範囲第
    1項記載の方法。 4、該培養を少くとも380nm以下の紫外線を実質的
    に含有せず、且つ400〜600nmの波長域光を実質
    的に含有する光線の照射下に行なう特許請求の範囲第1
    項記載の方法。 5、該培養を少くとも380nm以下の紫外線を実質的
    に含有せず、且つ400〜500nmの波長域光を実質
    的に含有する光線の照射下に行なう特許請求の範囲第1
    項記載の方法。 6、該光線の照射強度が100,000〜1μw/cm
    ^2の範囲である特許請求の範囲第1〜5項記載の方法
    。 7、該光線の照射開始時期が該培養系内の該微生物の対
    数増殖期である特許請求の範囲第1〜6項記載の方法。 8、該光線が、人工光線及び/又は自然光線である特許
    請求の範囲第1〜7項記載の方法。 9、人工光及び/又は自然光照射下の光質雰囲気を調節
    するブレビバクテリウム(Brevibacteriu
    m)属に属するリジン生産性微生物培養用資材であつて
    、少なぐとも280nm及びそれ以上の波長域の光を照
    射することを特徴とするリジン生産性微生物培養用資材
    。 10、該、照射波長域が、少なくとも380nm以下の
    紫外線を実質的に含有せず、且つ400〜700nmの
    波長域光を実質的に含有する光線である特許請求の範囲
    第9項記載のリジン生産性微生物培養用資材。 11、該照射する波長域が、少なくとも380nm以下
    の紫外線を実質的に含有せず、且つ400〜500nm
    の波長域光を実質的に含有する光線である特許請求の範
    囲第10項記載のリジン生産性微生物培養用資材。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59213387A (ja) * 1983-05-18 1984-12-03 Nippon Carbide Ind Co Ltd アミノ酸生産性微生物の培養方法
JPS6094094A (ja) * 1983-10-31 1985-05-27 Nippon Carbide Ind Co Ltd リジン生産性微生物の培養方法
JPS60130390A (ja) * 1983-12-20 1985-07-11 Nippon Carbide Ind Co Ltd アミノ酸生産性微生物の培養方法

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