JPS61120486A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

Info

Publication number
JPS61120486A
JPS61120486A JP24041884A JP24041884A JPS61120486A JP S61120486 A JPS61120486 A JP S61120486A JP 24041884 A JP24041884 A JP 24041884A JP 24041884 A JP24041884 A JP 24041884A JP S61120486 A JPS61120486 A JP S61120486A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
optical system
semiconductor
laser
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24041884A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshitami Hara
利民 原
Akira Shimizu
明 清水
Yoshinobu Sekiguchi
芳信 関口
Seiichi Miyazawa
宮沢 誠一
Hideaki Nojiri
英章 野尻
Isao Hakamata
袴田 勲
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP24041884A priority Critical patent/JPS61120486A/en
Priority to FR858516920A priority patent/FR2582154B1/en
Priority to GB08528248A priority patent/GB2169134B/en
Publication of JPS61120486A publication Critical patent/JPS61120486A/en
Priority to US07/312,311 priority patent/US4971415A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent errors in position alignment and to remove restrictions on integration density and an optical system, by arranging a semiconductor light emitting body formed in a monolithic structure so that the output directions of individual light beams are different. CONSTITUTION:On a GaAs substrate 11, a semiconductor light emitting element having a double heterostructure is formed. Thereafter, a fan pattern is formed by a photomask, and injecting regions 13a-13e are formed. Each otuput end surface and a resonance plane are shifted by angles theta1 and theta2 with respect to a main axis. Light emitting directions 12a-12e are different one another. At this time, the resonance planes are formed so that light is emitted from a point Po on the opposite side with respect to the output side. Thus, the excellent image forming state is obtained by a simple optical system, and erros in position alignment and restrictions on integration density and the optical system can be removed.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は複数個の半導体発光体がモノリシックに形成さ
れた半導体装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor device in which a plurality of semiconductor light emitting bodies are monolithically formed.

〔従来の技術および問題点〕[Conventional technology and problems]

従来、例えば特開昭59−12’6に開示されているよ
うに、半導体レーザまたは発光ダイオード(LED)を
複数個用いて光走査装置を設計する場合、第7図に示す
ように発光体からの光の出射方向が一点Poで交゛わる
ように光源を配置し、複数の走査スポットを良好な結像
状態を保ち々がら被走査面(不図示)に対して走査でき
るよう工夫されていた。
Conventionally, when designing an optical scanning device using a plurality of semiconductor lasers or light emitting diodes (LEDs), as disclosed in JP-A-59-12'6, for example, the light emitting body is The light sources were arranged so that the emission directions of the lights crossed at one point Po, so that multiple scanning spots could be scanned against the surface to be scanned (not shown) while maintaining good imaging conditions. .

第7図はその典型的な従来例を示したものであり、光源
と偏向器の間の光学系を偏向走査面と垂直な方向から見
た図である。71a、71bは半導体レーザーであり、
各レーザーはマウント72の上にその光束発生面がマウ
ント7zの端面と平行になるように配されている。半導
体レーザー71a。
FIG. 7 shows a typical conventional example, and is a diagram of the optical system between the light source and the deflector, viewed from a direction perpendicular to the deflection scanning plane. 71a and 71b are semiconductor lasers,
Each laser is arranged on the mount 72 so that its light beam generating surface is parallel to the end surface of the mount 7z. Semiconductor laser 71a.

71b  が設けられているマウント72の端面72a
、72bは、各レーザー71a、 71bからの発散光
束の中心光線ha、hbが同一の点Poを通過して来た
かの如く設定される。換言すれば、半導体レーザー(7
1a、 71b)が設けられる位置で、端面72a と
 72b  に各々法線をたてると、各々の法線がPo
を通過するように、端面72aと72bは設定されてい
る。更に、偏向走査面と平行な方向から見れば、各々の
半導体レーザーの中心光線ha、hbのPo点を通過す
る位置が、偏向走査面と直交する方向にわずかに変位す
るように、マウント72上に設けられる半導体レーザー
の位置は設定される。上記20点と偏向器の偏向反射面
73の所定の近傍の点Pとは、結像し/スフ4により光
学的共役な関係に保たれている。
End face 72a of mount 72 where 71b is provided
, 72b are set as if the central rays ha, hb of the diverging beams from the respective lasers 71a, 71b had passed through the same point Po. In other words, semiconductor laser (7
1a, 71b), and draw normal lines to the end faces 72a and 72b, each normal line becomes Po
The end faces 72a and 72b are set such that the end faces 72a and 72b pass through. Further, when viewed from a direction parallel to the deflection scanning plane, the position on the mount 72 is such that the position where the center beams ha and hb of each semiconductor laser pass through point Po is slightly displaced in the direction perpendicular to the deflection scanning plane. The position of the semiconductor laser provided in is set. The above 20 points and a point P in a predetermined vicinity of the deflection/reflection surface 73 of the deflector are maintained in an optically conjugate relationship by the imaging/splash 4.

このように、複数個の半導体発光体(例えば半導体レー
ザー)をそれぞれの光の出射方向が異なるように配置す
るためには、上記例に示したようにマウント上に位置合
せをしてハイブリッドに構成する必要があった。以下便
宜上、複数個の半導体発光体としてアレーレーザーとい
う言葉を使用するが、原理的にはLEDアレーのような
発光体にも当てはまる。
In this way, in order to arrange multiple semiconductor light emitters (for example, semiconductor lasers) so that their respective light emission directions are different, they must be aligned on the mount and configured into a hybrid structure, as shown in the example above. I needed to. For convenience, the term "array laser" will be used below to refer to a plurality of semiconductor light emitters, but in principle it also applies to light emitters such as LED arrays.

また、モノリフツクに形成されたアレーレーザーを使用
する場合には、アレーレーザーの前面に何らかの光学系
を設置する必要がある。特開昭58−211735に開
示されている例としては、プリズムがアレーレーザーの
前面に配置されている。
Furthermore, when using an array laser formed on a monolift, it is necessary to install some kind of optical system in front of the array laser. In an example disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 58-211735, a prism is placed in front of an array laser.

これを第8図に示す。This is shown in FIG.

第8図は半導体アレーレーザが5つの発光部を有する場
合のプリズムの断面を示すものである。
FIG. 8 shows a cross section of a prism when a semiconductor array laser has five light emitting parts.

81は5つの発光部(81a、 81b、 81C,8
1d。
81 has five light emitting parts (81a, 81b, 81C, 8
1d.

81e)を有する半導体アレーレーザーであり、82は
プリズムである。発光部81aから〆の光束の中心光線
haは傾斜面82aにより屈折されあたかもPOを通過
して来たかのように曲げられる。同じ<81bからの中
心光線hbは傾斜面82bにより、81dからの中心光
線hdは傾斜面82dにより、81eからの中心光線h
eは傾斜面828により、それぞれあたかもPoを通過
して来たかのように曲げられる。なお、81Cからの中
心光線haは平面82Cを垂直に通過して行き、この中
心光線hcの延長線上にPoが存在する。このように各
発光部に対応して傾斜角を定めた傾斜平面が設けられ、
プリズム82を出射後の各光束の中心光線は、あたかも
POから出射したかのよってその方向を制御されている
。このPOは前述したように偏向反射面の近傍の所望の
位置P(不図示)と光学系を介して共役に保たれる。
81e), and 82 is a prism. The central ray ha of the final luminous flux from the light emitting section 81a is refracted by the inclined surface 82a and bent as if it had passed through the PO. The central ray hb from the same
e is bent by the inclined surface 828 as if it had passed through Po. Note that the central ray ha from 81C passes through the plane 82C perpendicularly, and Po exists on the extension of this central ray hc. In this way, an inclined plane with a defined inclination angle corresponding to each light emitting part is provided,
The direction of the central ray of each light beam after exiting the prism 82 is controlled as if it were exiting from the PO. As described above, this PO is kept conjugate with a desired position P (not shown) near the deflection/reflection surface via the optical system.

この場合の問題点はプリズム82の微細加工精度及び方
法、プリズム82とアレーレーザー81との位置合せ及
び接合方法などであり、アレーレーザーのピッチが小さ
くなる程難しくなる。実際、100μm以下ではほぼ不
可能である。
Problems in this case include the precision and method of microfabrication of the prism 82, the alignment and bonding method between the prism 82 and the array laser 81, and the smaller the pitch of the array laser, the more difficult it becomes. In fact, it is almost impossible if the thickness is less than 100 μm.

一方、第9図は光学系即ちリレー光学系98で同様の効
果を持たせようとしたもので、アレーレーザー91a、
 91bから出射した光を平行化して結像させるコリメ
ータレンズ92とシリ/トリカルレンズ95との間にリ
レー系93を介在させてポリゴン面94に結像した例で
あり、良好な結像状態で被走査面(不図示)上に結像さ
れる。
On the other hand, FIG. 9 shows an attempt to achieve the same effect with an optical system, that is, a relay optical system 98, with an array laser 91a,
This is an example in which a relay system 93 is interposed between a collimator lens 92 that collimates the light emitted from 91b and forms an image, and an image is formed on a polygon surface 94, and the image is formed on a polygon surface 94. An image is formed on a surface to be scanned (not shown).

この場合の問題点は光路長であり、リレー系自体で約2
0cm長くなってしまう。
The problem in this case is the optical path length, and the relay system itself is approximately 2
It becomes 0cm longer.

本発明の目的は、ハイブリッドに半導体発光体を配置す
ることに起因する位置合せ誤差や集積密度の制限を排除
すると共に、光出射方向が一定でかつモノリシックに形
成されたアレーレーザを使用する場合のような付加光学
系の煩雑さを避けることを可能にする半導体装置を提供
することにある。
It is an object of the present invention to eliminate alignment errors and limitations on integration density caused by arranging semiconductor light emitters in a hybrid, and also to eliminate alignment errors and limitations in integration density caused by arranging semiconductor light emitters in a hybrid, as well as to avoid problems such as when using a monolithically formed array laser with a constant light emission direction. An object of the present invention is to provide a semiconductor device that makes it possible to avoid the complexity of an additional optical system.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明による半導体装置は、上記目的を達成す、lめK
、複数個の半導体発光体がモノリシックに形成されてい
る半導体装置において、上述の半導体発光体のそれぞれ
からの光の出射方向が異なるようにこれら半導体発光体
が形成されている。
A semiconductor device according to the present invention achieves the above object.
In a semiconductor device in which a plurality of semiconductor light emitters are monolithically formed, these semiconductor light emitters are formed such that the directions of light emitted from each of the semiconductor light emitters are different.

なお、以下の記載において用いられる「それぞれの発光
体からの光の出射方向が異なる」という表現は同一方向
に出射するものが1組もないという意味ではなく、広義
には出射方向の異なるものが1組以上存在するという意
味である。
In addition, the expression "the direction of light emitted from each light emitting body is different" used in the following description does not mean that there is no set of light emitting bodies that emit light in the same direction, but in a broad sense, it means that there are two light emitting bodies that emit light in different directions. This means that there is one or more pairs.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す構成図である。FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.

G a A s基板11’上に例えばダブルへテロ構造
のような半導体発光要素を作成した後、フォトマスクに
より図示されるような扇形のパターンを形成する。それ
ぞれの光出射端面は互いにθ1.θ2ずつずれて形成さ
れる。ファブリベロー共振面全形成する対向する面も同
様にθ工、θ2ずれて形成されるため、共振方向がθ1
.θ2ずつずれて、光出射方向12a〜12eもそれに
ともなって異ってくる。
After forming a semiconductor light-emitting element, such as a double heterostructure, on the GaAs substrate 11', a fan-shaped pattern as illustrated is formed using a photomask. The respective light emitting end faces are at an angle of θ1. They are formed shifted by θ2. The opposing surfaces that form the entire Fabry Bellow resonance surface are similarly formed with a deviation of θ by θ2, so the resonance direction is θ1.
.. The light emission directions 12a to 12e are shifted by θ2, and accordingly, the light emission directions 12a to 12e are also different.

この場合、出射側と反対側の一点Po付近から出射した
かの如く互いの共振面を形成することにより、前述のプ
リズム82(第8図)やリレー光学系93(第9図)な
どの付加的な構成要素が不要とがる。そして、簡単な走
査光学系を利用した装置で良好な結像状態が得られるよ
うな光源が実現可能となる。なお、図中13a〜138
は電流注入領域を示す。
In this case, by forming mutual resonance surfaces as if the light were emitted from the vicinity of a point Po on the opposite side to the light emitting side, addition of the prism 82 (Fig. 8), the relay optical system 93 (Fig. 9), etc. No additional components are required. Then, it becomes possible to realize a light source that can obtain a good imaging state with an apparatus using a simple scanning optical system. In addition, 13a to 138 in the figure
indicates the current injection region.

アレーレーザー間の間隔lや互いの出射方向のずれθ(
θ1.θ2)は一般的には一定値を用いるのが装置設計
上便利である。即ちθl=θ2 となるが、必ずしも一
定値をとる必要はない。そして、lとθの関係は用いる
光学系、特に第9図のコリメータレンズ92の焦点距離
に依存する。即ち、コリメータレンズとPoの距離をL
 (Po)とすれハ、L(PO)に比べてコリメータレ
ンズとアレーレーザーとの距離が小さい時にはおよそL
 (Pa)×θ=lの関係となる。なお、θはラジアン
で表わす。例えば、L (Po)が13龍、/=100
μmの時はθは約1度となる。
The distance l between the array lasers and the deviation θ in their emission directions (
θ1. It is generally convenient for device design to use a constant value for θ2). That is, θl=θ2, but it does not necessarily have to be a constant value. The relationship between l and θ depends on the optical system used, especially the focal length of the collimator lens 92 shown in FIG. 9. That is, the distance between the collimator lens and Po is L
(Po) is approximately L when the distance between the collimator lens and the array laser is small compared to L (PO).
The relationship is (Pa)×θ=l. Note that θ is expressed in radians. For example, L (Po) is 13 dragons, /=100
When it is μm, θ is approximately 1 degree.

第2図は本発明の変形例を示し、第3図は第2図のA−
A′線からみた断面図である。なお、第1図の場合もほ
ぼ同様な断面構造を有しており、以下、これらの図面を
参照して製造プロセスを説明する。
Fig. 2 shows a modification of the present invention, and Fig. 3 shows A-A in Fig. 2.
It is a sectional view seen from the A' line. Note that the case of FIG. 1 also has a substantially similar cross-sectional structure, and the manufacturing process will be described below with reference to these drawings.

まず、n型G a A s基板31のウェハ上に分子線
エピタキシ法によりn型GaAs 32 + n型A 
I!G aA633、ノンドープGaAs 34 、 
P型A I G’a A s35、P型GaAs 36
を成長した後、第1図あるいは第2図に示されたような
扇形マスクを形成し、リアクティブイオンエッチ法によ
りArおよびcJ2  混合ガス雰囲気で垂直加工し、
n型A I G aAsia層の途中まで堀り下げた。
First, n-type GaAs 32 + n-type A is deposited on a wafer of n-type GaAs substrate 31 by molecular beam epitaxy.
I! GaA633, non-doped GaAs 34,
P-type A I G'a A s35, P-type GaAs 36
After growing, a fan-shaped mask as shown in FIG. 1 or 2 is formed, and vertical processing is performed in an Ar and cJ2 mixed gas atmosphere by reactive ion etching.
The n-type AI GaAsia layer was excavated halfway down.

フォトマスクパターンは第1図あるいは第2図に示すよ
うな扇形を縦横にくり返して形成される。
The photomask pattern is formed by repeating fan shapes in the vertical and horizontal directions as shown in FIG. 1 or 2.

次に、8i0zスパツタ膜を全面に被覆し、1aa〜1
3eの部分、あるいは23a−23cの部分をエツチン
グで取除き、CrおよびAuの積層電極37でカバーし
た。電極37は13a〜13eの部分あるいは2aa〜
23cの部分を独立に駆動できるように同じくフォトリ
ンゲラフィブロセスで分離した。
Next, the entire surface was covered with an 8i0z sputter film, and 1aa to 1
The portion 3e or the portions 23a-23c were removed by etching and covered with a laminated electrode 37 of Cr and Au. The electrode 37 is the part 13a to 13e or the part 2aa to
The 23c portion was also separated using Photoringella fibrosis so that it could be driven independently.

裏面はAuおよびGeの合金電極38を形成した。An alloy electrode 38 of Au and Ge was formed on the back surface.

熱拡散によりオーミックを実現した後、第1図あるいは
第2図に示すように各単位毎にへき開又は切断により分
離した。そして、個々の電極はワイヤボンディングで取
出した。
After achieving ohmic properties by thermal diffusion, each unit was separated by cleaving or cutting as shown in FIG. 1 or 2. Then, individual electrodes were taken out by wire bonding.

第2図の場合は、ドライエッチによる堀下げを四方につ
いて行い中央部にオーミック電極を形成した例である。
In the case of FIG. 2, an ohmic electrode is formed in the center by dry etching on all sides.

この場合、L(I’o)=lQm、1=50μm1θ=
0.5度で良好な結像状態を得た。
In this case, L(I'o)=lQm, 1=50μm1θ=
Good imaging conditions were obtained at 0.5 degrees.

第4図fal 、 (blは本発明の別の実施例を示し
、それぞれD B R(Distributed Br
agg Reflection )レーザーを用いた場
合の断面図、平面図である。
FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view and a plan view when a laser is used.

DBRレーザーを使う場合は、アレーレーザーを放射状
に配置することにより、放射状に拡がるレーザー光が得
られる。
When using a DBR laser, by arranging array lasers radially, laser light that spreads radially can be obtained.

作成方法は通常のDBRレーザー作成と同じであり、複
数のレーザーを放射状に配置する点が異なるだけである
。まず、基板41上に順次クラッド層42.活性層43
.クラッド層44を作成する。
The manufacturing method is the same as the normal DBR laser manufacturing method, and the only difference is that multiple lasers are arranged radially. First, a cladding layer 42. active layer 43
.. A cladding layer 44 is created.

次に、プラグ反射(DBR)部に対応するクラッド層4
4を厚さ数百nmまでエツチング除去し、この上に、干
渉露光により周期数百nmの回折格子45を放射状(第
4図(bl参照)に複数作成する。
Next, the cladding layer 4 corresponding to the plug reflection (DBR) part
4 is removed by etching to a thickness of several hundred nm, and a plurality of diffraction gratings 45 with a period of several hundred nm are formed radially (see FIG. 4 (bl)) on this by interference exposure.

最後に、活性部に対応するクラッド層44の上面に電流
注入用の電極46を、回折格子45が形成されている方
向に沿って形成する。各部の長さは、DBR部が数百μ
m〜数μm、活性部が数百μm、DBRおよび導波部が
数百μmである。
Finally, an electrode 46 for current injection is formed on the upper surface of the cladding layer 44 corresponding to the active region along the direction in which the diffraction grating 45 is formed. The length of each part is several hundred microns for the DBR part.
m to several μm, the active part is several hundred μm, and the DBR and waveguide portion are several hundred μm.

なお、D F B (Distributed Fee
d Back )レーザーを使用した場合もほぼ同様に
、アレーレーザーを放射状に配置することによって目的
を達することができる。
In addition, D F B (Distributed Fee
When using a d Back ) laser, the objective can be achieved in almost the same way by arranging the array lasers radially.

これまでの説明は、1次元的な配列で一点Poを通るよ
うな場合について述べたが、発光体が2次元的に配列さ
れた場合についても各々の光出射方向を一点Poを通る
ように配列することにより、同様に目的を達することが
できる。その−例を第5図に示す。
The explanation so far has been about the case where the light emitting bodies are arranged in a one-dimensional manner and pass through one point Po, but even when the light emitters are arranged two-dimensionally, they are arranged so that each light emission direction passes through one point Po. By doing so, you can achieve the same goal. An example thereof is shown in FIG.

1に5図は2次元的なアレーレーザーによる本発明の別
の変形例を示す斜視図で、第6図は第5図に示す個々の
レーザ一部分、すなわち発光部の構成断面図である。
1 and 5 are perspective views showing another modification of the present invention using a two-dimensional array laser, and FIG. 6 is a sectional view of a portion of each laser shown in FIG. 5, that is, a light emitting section.

以下、作成方法について述べる。まず、n型G a A
 s基板61上に反射多層(n型A I G a A 
s  とn型G a A sの積層)62を形成し、さ
らにn型A / G a Aθ 、n型G a A s
を形成した後ドライエッチにより突起部63を形成した
。つづいてZnの拡散によりP型頭域64を設けてPn
接合を形成した。そして、電流注入用の電極65を形成
した後、ラッピングで約70μmまで薄くした。なお、
66は出射端面を示す。次に、裏面にn型オーミック電
極67を形成し、結晶全体としては第5図に示すように
湾曲させた。その結果、出射方向の異なるレーザーが実
現された。
The creation method will be described below. First, n-type G a A
A reflective multilayer (n-type A I G a A
s and n-type Ga As) 62 is formed, and further n-type A/Ga Aθ, n-type Ga As
After forming, a protrusion 63 was formed by dry etching. Next, a P-type head region 64 is provided by diffusion of Zn, and Pn
A junction was formed. After forming an electrode 65 for current injection, the electrode was thinned to about 70 μm by lapping. In addition,
66 indicates an output end face. Next, an n-type ohmic electrode 67 was formed on the back surface, and the entire crystal was curved as shown in FIG. As a result, lasers with different emission directions were realized.

なお、本発明の出射方向の異なるアレーレーザーは、第
9図に示したような機械的走査による偏向光学系のみな
らず、光の偏向手段として表面弾性波(SAW)による
回折作用を用いたような系(不図示)に対しても有用で
ある。
The array laser of the present invention with different emission directions uses not only a deflection optical system based on mechanical scanning as shown in FIG. It is also useful for systems (not shown).

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は以上述べたように、複数個の半導体発光体をモ
ノリゾツクに形成する際それぞれの光の出射方向が異な
るように設置するという簡単な工夫で多数の点からの発
光を平行化することを実現し、走査光学系を用いて媒体
上に結像走査するような光学装置(例えばレーザービー
ムプリ/りなど)の光源として極めて有効となる効果を
有しており、また、共振方向、従って出射方向の異なる
アレーレーザーを使用するとこの効果は更に顕著である
As described above, the present invention makes it possible to collimate light emitted from many points by simply installing a plurality of semiconductor light emitting bodies so that their light emission directions are different when forming them into a monolithic structure. This has the effect of making it extremely effective as a light source for optical devices that use a scanning optical system to form and scan an image on a medium (such as a laser beam pre-reflector). This effect is even more pronounced when array lasers with different directions are used.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明による半導体装置における発光体部分の
構成を示す一実施例、第2図は変形例、第3図は第2図
のA−A’線からみた断面図、第4図(al、(b)は
DBRレーザーを用いた場合の実施例を示し、それぞれ
断面図、平面図、第5図は2次元的なアレーレーザーに
よる別の変形例を示す斜視図、第6図は第5図に示す個
々のレーザ一部分の構成断面図、第7図はレーザーがハ
イブリッドに配置された従来例、第8図は出射方向一定
のアレーレーザーとプリズムを合体して出射方向を異な
らせた従来例、第9図は出射方向一定のアレーレーザー
を光学系で補正しようとした場合の従来例、である。 12a〜12’ s 22a〜22C・・・光出射方向
31〜36.41〜44.61〜64・・・半導体発光
体特許出願人   キャノン株式会社 ン1 第  2  図
FIG. 1 shows an embodiment of the structure of a light emitting body in a semiconductor device according to the present invention, FIG. 2 shows a modified example, FIG. 3 is a sectional view taken along the line AA' in FIG. 2, and FIG. al and (b) show an example using a DBR laser, and FIG. 5 is a cross-sectional view and a plan view, respectively, a perspective view showing another modified example using a two-dimensional array laser, and FIG. Figure 5 is a cross-sectional view of the configuration of a portion of each laser, Figure 7 is a conventional example in which lasers are arranged in a hybrid manner, and Figure 8 is a conventional example in which an array laser with a fixed emission direction and a prism are combined to have different emission directions. For example, Fig. 9 shows a conventional example in which an array laser whose emission direction is constant is corrected by an optical system.12a-12's 22a-22C...Light emission direction 31-36.41-44. 61-64... Semiconductor light emitter patent applicant Canon Co., Ltd. Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】  複数個の半導体発光体がモノリシックに形成されてい
る半導体装置において、 前記半導体発光体のそれぞれからの光の出射方向が異な
るように該半導体発光体が形成されていることを特徴と
する半導体装置。
[Claims] In a semiconductor device in which a plurality of semiconductor light emitters are monolithically formed, the semiconductor light emitters are formed such that the directions of light emitted from each of the semiconductor light emitters are different. Characteristic semiconductor devices.
JP24041884A 1984-11-16 1984-11-16 Semiconductor device Pending JPS61120486A (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24041884A JPS61120486A (en) 1984-11-16 1984-11-16 Semiconductor device
FR858516920A FR2582154B1 (en) 1984-11-16 1985-11-15 MULTI-BEAM TRANSMISSION DEVICE COMPRISING SEMICONDUCTOR ELEMENTS, PARTICULARLY LASER DIODES
GB08528248A GB2169134B (en) 1984-11-16 1985-11-15 Multibeam emitting device
US07/312,311 US4971415A (en) 1984-11-16 1989-02-17 Multibeam emitting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24041884A JPS61120486A (en) 1984-11-16 1984-11-16 Semiconductor device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61120486A true JPS61120486A (en) 1986-06-07

Family

ID=17059178

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24041884A Pending JPS61120486A (en) 1984-11-16 1984-11-16 Semiconductor device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61120486A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032971A (en) * 2004-07-19 2006-02-02 Trumpf Laser Gmbh & Co Kg Diode laser assembly and beam forming unit for same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5530870A (en) * 1978-08-28 1980-03-04 Fujitsu Ltd Multiwave-length semiconductor laser

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5530870A (en) * 1978-08-28 1980-03-04 Fujitsu Ltd Multiwave-length semiconductor laser

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032971A (en) * 2004-07-19 2006-02-02 Trumpf Laser Gmbh & Co Kg Diode laser assembly and beam forming unit for same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5357536A (en) Method and apparatus for the positioning of laser diodes
US4971415A (en) Multibeam emitting device
US5317170A (en) High density, independently addressable, surface emitting semiconductor laser/light emitting diode arrays without a substrate
CA2036957C (en) Semiconductor laser diode arrangement
US4530574A (en) Beam collimation and focusing of multi-emitter or broad emitter lasers
US20050180482A1 (en) Very low cost surface emitting laser diode arrays
CA1208466A (en) Beam collimation and focusing of multi-emitter or broad emitter lasers
US4799229A (en) Semiconductor laser array
JPS61120486A (en) Semiconductor device
US20080198890A1 (en) Vertically emitting laser and method of making the same
JPS61127190A (en) Semiconductor device
KR19990030012A (en) Laser element having laser array and manufacturing method thereof
JP2741195B2 (en) Optical scanning optical system using laser diode array
JPS62269382A (en) Semiconductor device
JPS61121380A (en) Semiconductor device
JPS62269385A (en) Semiconductor laser device
JPH06101609B2 (en) Method for manufacturing semiconductor laser device
JPH05236216A (en) Light source equipment in optical scanner
JPS62269376A (en) Semiconductor device
JPS62269902A (en) Optical element
JPS62269381A (en) Manufacture of semiconductor laser device
JPS62268175A (en) Semiconductor laser device
JPS62269386A (en) Manufacture of semiconductor laser device
JPS62269375A (en) Semiconductor device
JPS62269384A (en) Semiconductor laser device