JPS62268175A - Semiconductor laser device - Google Patents

Semiconductor laser device

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JPS62268175A
JPS62268175A JP11205486A JP11205486A JPS62268175A JP S62268175 A JPS62268175 A JP S62268175A JP 11205486 A JP11205486 A JP 11205486A JP 11205486 A JP11205486 A JP 11205486A JP S62268175 A JPS62268175 A JP S62268175A
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JP
Japan
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laser
semiconductor
light
layer
etching
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Pending
Application number
JP11205486A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsutoshi Hasegawa
光利 長谷川
Toshitami Hara
利民 原
Hideaki Nojiri
英章 野尻
Yoshinobu Sekiguchi
芳信 関口
Seiichi Miyazawa
宮沢 誠一
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

PURPOSE:To eliminate an error on positioning and the limitation of integration density by making each optical outgoing direction differ at a point of time when beams from a semiconductor laser are emitted from resonance surfaces, forming one of each resonance surface by cleavage and shaping the other by etching. CONSTITUTION:An N-type GaAs layer 4, an N-type AlGaAs layer 7, a non- doped GaAs layer 8, a P-type AlGaAs layer 9 and a P-type GaAs layer 10 are grown on an N-type GaAs substrate 5 in succession, the whole surface is coated with an silicon nitride plasma CVD film, and current injection regions 11a-11c and photodetector 2a-2c sections are removed through etching, and covered with Cr and Au laminated electrodes 11, 12. The electrodes 11, 12 isolate each laser 1a-1c or the photodetector 2a-2c sections so as to be able to independently drive them. An alloy electrode 13 consisting of Au and Ge is shaped onto the back, the surface is processed vertically in a Cl2 gas atmosphere, and a groove 14 and resonator surfaces 15 are formed, and isolated by cleavage or cutting at every unit. Accordingly, semiconductor emitters and the photodetectors are easily integrated, thus stabilizing an optical output.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は複数個の半導体発光体がモノリシックに形成さ
れた半導体装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor device in which a plurality of semiconductor light emitting bodies are monolithically formed.

〔従来の技術および問題点) 従来、例えば特開昭59−126に開示されているよう
に、半導体レーザまたは発光ダイオード(LED)を複
数個用いて光走査装置を設計する場合、第7図に示すよ
うに発光体からの光の出射方向が一点POで交わるよう
に光源を配蓋し、複数の走査スポットを良好な結像状態
を保ちながら被走査面(不図示)に対して走査できるよ
う工夫されていた。
[Prior Art and Problems] Conventionally, when designing an optical scanning device using a plurality of semiconductor lasers or light emitting diodes (LEDs), as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-126, the conventional technique is as shown in FIG. As shown in the figure, the light sources are arranged so that the directions of light emitted from the light emitters intersect at one point PO, so that multiple scanning spots can be scanned on the surface to be scanned (not shown) while maintaining good imaging conditions. It was well thought out.

第5図はその典型的な従来例を示したものであり、光源
と偏向器の間の光学系を偏向走査面と垂直な方向から見
た図である。71a、71bは半導体レーザであり、各
レーザはマウント72の上にその光束発生面かマウント
72の端面と平行になるように配されている。半導体レ
ーザ71a。
FIG. 5 shows a typical conventional example, and is a diagram of the optical system between the light source and the deflector, viewed from a direction perpendicular to the deflection scanning plane. Reference numerals 71a and 71b are semiconductor lasers, and each laser is arranged on the mount 72 so that its light beam generating surface is parallel to the end surface of the mount 72. Semiconductor laser 71a.

71bが設けられているマウント72の端面72a、7
2bは、各レーザ71a、71bからの全敗光束の中心
光線ha、hbが同一の点P0を通過して来たかの如く
設定される。換言すれば、半導体レーザ(71a、  
7 l b)が設けられる位置で、端面72aと?2b
に各々法線をたてると、各々の法線がPoを通過するよ
うに、端面72aと72bは設定されている。更に、偏
向走査面と平行な方向から見れば、各々の半導体装置ザ
の中心光線ha、hbの20点を通過する位置が、偏向
走査面と直交する方向にわずかに変位するように、マウ
ント72上に設けられる半導体レーザの位置は設定され
る。上記20点と偏向器の偏向反射面78の所定の近傍
の点Pとは、結像レンズ74により光学的共線な関係に
保たれている。
End surfaces 72a, 7 of the mount 72 where the mount 71b is provided
2b is set as if the central rays ha and hb of the totally lost luminous fluxes from each laser 71a and 71b had passed through the same point P0. In other words, the semiconductor laser (71a,
7 l b) at the position where the end face 72a and ? 2b
The end faces 72a and 72b are set so that each normal line passes through Po. Furthermore, when viewed from a direction parallel to the deflection scanning plane, the mount 72 is arranged so that the position where the 20 points of the central rays ha and hb of each semiconductor device pass through is slightly displaced in the direction perpendicular to the deflection scanning plane. The position of the semiconductor laser provided above is set. The above 20 points and a point P in a predetermined vicinity of the deflection reflection surface 78 of the deflector are maintained in an optically collinear relationship by the imaging lens 74.

このように、複数個の半導体発光体(例えば半導体レー
ザ)をそれぞれの光の出射方向が異なるように配置する
ためには、上記例に示したようにマウント上に位置合せ
をしてハイブリットに構成する必要かあった。以下便宜
上、複数個の半導体発光体としてアレーレーザという言
葉を使用するが、原理的にはLEDアレーのような発光
体にも当てはまる。
In this way, in order to arrange multiple semiconductor light emitters (for example, semiconductor lasers) so that their respective light emission directions are different, they must be aligned on the mount and configured into a hybrid structure, as shown in the example above. There was a need to do that. For convenience, the term "array laser" will be used below to refer to a plurality of semiconductor light emitters, but in principle it also applies to light emitters such as LED arrays.

また、モノリシックに形成されたアレーレーザを使用す
る場合には、アレーレーザの前面に何らかの光学系を設
置する必要がある。特開昭58−211785に開示さ
れている例としては、プリズムかアレーレーザの前面に
配置されている。これを第6図に示す。
Furthermore, when using a monolithically formed array laser, it is necessary to install some kind of optical system in front of the array laser. In an example disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 58-211785, a prism is placed in front of an array laser. This is shown in FIG.

第6図は半導体アレーレーザが5つの発光部を有する場
合のプリズムの断面を示すものである。
FIG. 6 shows a cross section of a prism when a semiconductor array laser has five light emitting parts.

81は5つの発光部(81a、81b、81c。81 is five light emitting parts (81a, 81b, 81c).

81d、81eを有する半導体アレーレーザであり、8
2はプリズムである。発光部81aからの光束の中心光
線haは傾斜面82aにより屈折されあたかもPoを通
過して来たかのように曲げられる。同じく81bからの
中心光線hbは傾斜面82bにより、81dからの中心
光線hdは傾斜面82dにより、81eからの中心光線
heは傾斜面82eにより、それぞれあたかもPoを通
過して来たかのように曲げられる。なお、81cからの
中心光線hcは平面82cを垂直に通過して行き、この
中心光線hcの延長線上にPoが存在する。このように
各発光部に対応して傾斜角を定めた傾斜平面が設けられ
、プリズム82を出射後の各光束の中心光線は、あたか
もPoか°ら出射したかのようにその方向を制御されて
いる。このPoは前述したように偏向反射面の近傍の所
望の位置P(不図示)と光学系を介して共役に保たれる
It is a semiconductor array laser having 81d and 81e, and 81d and 81e.
2 is a prism. The central ray ha of the luminous flux from the light emitting part 81a is refracted by the inclined surface 82a and bent as if it had passed through Po. Similarly, the central ray hb from 81b is bent by the inclined surface 82b, the central ray hd from 81d is bent by the inclined surface 82d, and the central ray he from 81e is bent by the inclined surface 82e, as if they had passed through Po. . Note that the central ray hc from 81c passes through the plane 82c perpendicularly, and Po exists on an extension of this central ray hc. In this way, an inclined plane with a defined angle of inclination is provided corresponding to each light emitting part, and the direction of the central ray of each luminous flux after exiting the prism 82 is controlled as if it had exited from Po. ing. As described above, this Po is kept conjugate with a desired position P (not shown) near the deflection/reflection surface via the optical system.

この場合の問題点はプリズム82の微細加工精度及び方
法、プリズム82とアレーレーザ81との位置合せ及び
接合方法などであり、アレーレーザのピッチが小さくな
る程難しくなる。実際、100μm以下てはほぼ不可能
である。
Problems in this case include the precision and method of microfabrication of the prism 82, the alignment and bonding method between the prism 82 and the array laser 81, and the smaller the pitch of the array laser, the more difficult it becomes. In fact, it is almost impossible to have a thickness of 100 μm or less.

一方、第7図は光学系即ちリレー光学系98で同様の効
果を持たせようとしたもので、アレーレーザ91a、9
1bから出射した光を平行化して結像させるコリメータ
レンズ92とシリンドリカルレンズ95との間にリレー
系98を介在させてポリゴン面94に結像した例であり
、良好な結像状態て被走査面(不図示)上に結像される
On the other hand, FIG. 7 shows an attempt to have a similar effect with an optical system, that is, a relay optical system 98, with array lasers 91a, 9
This is an example in which a relay system 98 is interposed between a collimator lens 92 and a cylindrical lens 95 that collimate and image the light emitted from 1b, and an image is formed on a polygon surface 94. (not shown).

この場合の問題点は光路長であり、リレー系自体で約2
0cm長(なってしまう。
The problem in this case is the optical path length, and the relay system itself is approximately 2
0cm long (becomes.

本発明の目的は、ハイブリットに半導体発光体を配置す
ることに起因する位置合せ誤差や集積密度の制限を排除
すると共に、光出射方向か一定でかつモノリシックに形
成されたアレーレーザを使用する場合のような付加光学
系の煩雑さを避けることを可能にする半導体装置を提供
することにある。
It is an object of the present invention to eliminate alignment errors and limitations on integration density caused by arranging semiconductor light emitters in a hybrid manner, and to eliminate alignment errors and limitations in integration density caused by arranging semiconductor light emitters in a hybrid manner. An object of the present invention is to provide a semiconductor device that makes it possible to avoid the complexity of an additional optical system.

本発明による半導体レーザ装置は、上記目的を達成する
ために、複数個の半導体発光体かモノリシックに形成さ
れている半導体装置において、上述の半導体発光体のそ
れぞれからの光の出射方向か異なるようにこれら半導体
発光体が形成されている。
In order to achieve the above object, a semiconductor laser device according to the present invention provides a semiconductor device in which a plurality of semiconductor light emitters are monolithically formed, in which the directions of light emitted from each of the semiconductor light emitters are different. These semiconductor light emitters are formed.

さらにこれら半導体レーザの共振器は、一方が劈開法、
一方がエツチングにより形成されている。そして、この
エツチングにより形成された共振器面側に光検出器か形
成されている。
Furthermore, the resonators of these semiconductor lasers are manufactured using the cleavage method on one side.
One side is formed by etching. A photodetector is formed on the side of the resonator surface formed by this etching.

なお、以下の記載において用いられる「それぞれの発光
体からの光の出射方向が異なる」という表現は同一方向
に出射するものか1組もないという意味ではなく、広義
には出射方向の異なるものか1組以上存在するという意
味である。
In addition, the expression "the direction of light emitted from each light emitting body is different" used in the following description does not mean that they emit light in the same direction or that there is no set of light emitting bodies, but in a broad sense, it does not mean that the light emitting bodies emit light in different directions. This means that there is one or more pairs.

(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参りしながら説明
する。
(Embodiments) Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図、第3図は本発明による半導体レーザの一実施例
の構成を示し、それぞれ平面図、正面断面図、側面断面
図である。図中、1および2はそれぞれアレーレーザ、
光検出素子アレーを示し、各レーザIa、lb、Icと
各光検出素子2a。
FIGS. 1 and 3 show the structure of an embodiment of a semiconductor laser according to the present invention, and are a plan view, a front sectional view, and a side sectional view, respectively. In the figure, 1 and 2 are array lasers, respectively.
A photodetection element array is shown, each laser Ia, lb, Ic and each photodetection element 2a.

2b、2cは同一の基板上にモノリシックに形成され、
かつ第1図に示すようにレーザla。
2b and 2c are monolithically formed on the same substrate,
and a laser la as shown in FIG.

lb、、1cのそれぞれと光検出素子2a、2b。lb, , 1c, and photodetecting elements 2a and 2b.

2Cのそれぞれとを正確に対峙させである。すなわち、
レーザ出力をモニターするための光検出素子とレーザと
が1対1に対応している。8は活性層であり、光を生み
出す部分である。すなわち、電極11および13間に電
流を流すことによって活性層8で発生した光か、15お
よび16の面で共振しレーザ光として取り出される。7
と9は通常クラット層と呼ばれ、活性層8で発生した光
を活性層8の近傍にとし込める働きをしている。
This is to accurately confront each of the 2Cs. That is,
There is a one-to-one correspondence between a photodetector element for monitoring laser output and a laser. 8 is an active layer, which is a part that generates light. That is, the light generated in the active layer 8 by passing a current between the electrodes 11 and 13 resonates on the surfaces 15 and 16 and is extracted as laser light. 7
and 9 are usually called crat layers, and have the function of concentrating the light generated in the active layer 8 into the vicinity of the active layer 8.

各レーザからの出射光17.18のうち出射光17は溝
14を通って、各光検出素子に入り、電極12および1
3間に印加された電圧(通常、電極11および13間の
印加電圧とは逆極性の電圧を印加する)により光電流と
して外部に取り出される。その出力の程度に応じて電極
11および13間に印加する電圧を調整することにより
、適正な光出力を得ることができる。
The emitted light 17 out of the emitted light 17 and 18 from each laser passes through the groove 14 and enters each photodetecting element, and the electrode 12 and 1
3 (usually a voltage of opposite polarity to the voltage applied between electrodes 11 and 13) is extracted to the outside as a photocurrent. Appropriate light output can be obtained by adjusting the voltage applied between electrodes 11 and 13 depending on the level of output.

また、各レーザIa、lb、lcのレーザ間のクロスト
ークを防止するために、遮光部4a。
Further, in order to prevent crosstalk between the lasers Ia, lb, and lc, a light shielding portion 4a is provided.

4bが、各レーザIa、lb、Icのそれぞれの間およ
び各光検出素子2a、2b、2Cのそれぞれの間の領域
で、かつ上述の溝14の領域に設けられている。従って
、例えば遮光部4aにより、レーザ1bからの光は光検
出素子2aに入ることはない。
4b is provided in the region between each of the lasers Ia, lb, and Ic and between each of the photodetecting elements 2a, 2b, and 2C, and in the region of the groove 14 described above. Therefore, for example, the light from the laser 1b does not enter the photodetector element 2a due to the light shielding part 4a.

この場合、出射側と反対側の一点P。付近から出射した
かの如く共振面を形成することにより、前述のプリズム
82(第8図)やリレー光学系98(;F;、9図)な
どの付加的な構成要素が不要となる。そして、簡単な走
査光学系を利用した装置で良好な結像状態が得られるよ
うな光源が実現可能となる。なお、図中11a〜11c
は電流注入領域を示す。
In this case, one point P on the side opposite to the emission side. By forming a resonant surface as if the light were emitted from nearby, additional components such as the prism 82 (FIG. 8) and the relay optical system 98 (FIG. 9) become unnecessary. Then, it becomes possible to realize a light source that can obtain a good imaging state with an apparatus using a simple scanning optical system. In addition, 11a to 11c in the figure
indicates the current injection region.

アレーレーザ間の間隔λや互いの出射方向のすれθ(θ
1.θ2)は−数的には一定値を用いるのがW a設計
上便利である。即ちθ1−02となるか、必ずしも一定
値をとる必要はない。そして、℃とθの関係は用いる光
学系、特に第9図のコリメータレンズ92の焦点距離に
依存する。
The spacing λ between array lasers and the deviation θ (θ
1. It is convenient to use a constant value for θ2) in terms of W a design. That is, it becomes θ1-02, or does not necessarily have to be a constant value. The relationship between °C and θ depends on the optical system used, especially the focal length of the collimator lens 92 shown in FIG. 9.

次に、未実施例による半導体レーザの作成方法について
、第1図〜第3図を参照しながら説明する。
Next, a method for manufacturing a semiconductor laser according to an unexampled example will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

まず、幕板5としてn型GaAsを用いた。First, n-type GaAs was used as the curtain plate 5.

このn型GaAs基(反5上に、n型(Siドープ)G
aAs層6を約2 μm 、 G’Nいてn型AuGa
As層(クラット層)7を2μm、ノンドープGaAs
層(活性層)8を0.1μm、p型(Beトープ)An
GaAs層(クラッド層)9を2μm、p型GaAs層
10を02μm、順次、分子線エピタキシ法により成長
させた後、窒化シリコンプラズマCVD膜を全面にン皮
覆し、フォトリングラフィフ”ロセスにより11a、j
lb、11c、2a、2b、2cの部分をエツチングで
取り除き、C「および、へりの積層電極I+、12でカ
バーした。電才蛋11.12はla、lb、lcあるい
は2a、2b、2cの部分を独立に駆動できるように、
同しくフォトリソグラフィプロセスで分離した。裏面は
AuおよびGeの合金電極13を形成した後、C12カ
ス7囲気て反応性イオンビームエツチング法ニより垂直
加工し、溝14、共振器面15を形成した。
On this n-type GaAs group (anti-5, n-type (Si doped) G
The aAs layer 6 has a thickness of about 2 μm and is made of G'N and n-type AuGa.
As layer (crat layer) 7 is 2 μm, non-doped GaAs
Layer (active layer) 8 is 0.1 μm, p-type (Be-tope) An
After growing a GaAs layer (cladding layer) 9 of 2 μm and a p-type GaAs layer 10 of 0.2 μm by molecular beam epitaxy, the entire surface was covered with a silicon nitride plasma CVD film, and a layer 11a was grown using a photophosphorographic process. ,j
The portions lb, 11c, 2a, 2b, and 2c were removed by etching and covered with laminated electrodes I+ and 12 at the edges. so that parts can be driven independently.
It was also separated using a photolithography process. After forming an alloy electrode 13 of Au and Ge on the back surface, a groove 14 and a resonator surface 15 were formed by vertical processing using a reactive ion beam etching method using a C12 slag 7.

熱拡散によりオーミックを実現した後、第1図に示すよ
うに各単位毎に何間又は切断により分l′1Hfi l
After realizing ohmic by thermal diffusion, as shown in Fig. 1, each unit is divided into several parts or by cutting.
.

た。そして、侶々の電極はワイヤポンディングで取り出
した。
Ta. Then, the electrodes were removed using wire bonding.

第4図は、各レーザ41a、’41b、41cのレーザ
出力に対し1つの光検出器2を配置した本発明の変形例
で・ある。正面断面図、側面断面図は第2図、第3図と
同しである。
FIG. 4 shows a modification of the present invention in which one photodetector 2 is arranged for the laser output of each laser 41a, '41b, 41c. The front sectional view and side sectional view are the same as FIGS. 2 and 3.

本発明はGaAsを例にとって述へたか、InGaAs
P等の他のII+・■族化合物半導体のみならず、半導
体レーザと光検出素子とがモノリシックに複数組集積さ
れたような半導体装置に対しても有効であることは言う
までもない。
The present invention has been described using GaAs as an example, or InGaAs.
Needless to say, the present invention is effective not only for other II+/■ group compound semiconductors such as P, but also for semiconductor devices in which a plurality of sets of semiconductor lasers and photodetecting elements are monolithically integrated.

また、本発明は、遮光部のない射出半導体レーザで光検
出素子とがモノリシックに複数組集積されたような半導
体装置も含んでいる。また、本発明は溝部(エツチング
領域)14が各レーザla、lb、lcにも形成され、
遮光部がそれぞれ分離して形成されているような半導体
装置も含んでいる。
The present invention also includes a semiconductor device in which a plurality of sets of an emitting semiconductor laser without a light shielding part and a photodetecting element are monolithically integrated. Further, in the present invention, a groove portion (etching region) 14 is also formed in each of the lasers la, lb, and lc.
It also includes semiconductor devices in which light shielding parts are formed separately.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は以上述べたように、複数個の半導体発光体をモ
ノリシックに形成する際それぞれの光の出射方向が異な
るように設置するというN単な工夫で多数の点からの発
光を平行化することを実現し、走査光学系を用いて媒体
上に結像走査するような光学装置(例えばレーザビーム
プリンタなど)の光源として極めて有効となる効果を有
しており、また、共振方向、従って出射方向の異なるア
レーレーザを使用するとこの効果は更に顕著である。
As described above, the present invention is capable of collimating light emitted from a large number of points by simply installing a plurality of semiconductor light emitting bodies so that the respective light emission directions are different when monolithically forming them. This has the effect of making it extremely effective as a light source for optical devices (such as laser beam printers) that use a scanning optical system to form and scan an image on a medium. This effect is even more pronounced when using array lasers with different values.

また、共振器面の一方を劈開法により形成することによ
り、発光効率が高く、均質な出力を各々の出射方向が異
なる様に再現性よく取り出す事を可能にした。
In addition, by forming one of the resonator surfaces by the cleavage method, it is possible to obtain high luminous efficiency and a homogeneous output with good reproducibility in different emission directions.

更に、共振器面の一方をエツチング法により形成するこ
とにより、半導体発光体と光検出器との集積化を容易に
し、光検出器で圧力をフィードバックされることによる
光出力の安定化を可能にした。
Furthermore, by forming one of the resonator surfaces using an etching method, it is easy to integrate the semiconductor light emitter and the photodetector, and it is possible to stabilize the light output by receiving pressure feedback from the photodetector. did.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図〜第3図は本発明による半導体レーザの一実施例
の構成を示し、それぞれ平面図、第1図のA−X線から
みた正面断面図、第1図のB−B’線からみた側面断面
図で、第4図は本発明の変形例を示す平面図、第5図は
レーザがハイブリットに配置された従来例を示す図、第
6図は出射方向一定のアレーレーザとプリズムを合体し
て出射方向を異ならせた従来例を示す図、第7図は出射
方向一定のアレーレーザを光学系で補正しようとした場
合の従来例を示す図である。
1 to 3 show the configuration of an embodiment of a semiconductor laser according to the present invention, and are respectively a plan view, a front sectional view taken along line A-X in FIG. 1, and a cross-sectional view taken along line BB' in FIG. Figure 4 is a plan view showing a modified example of the present invention, Figure 5 is a diagram showing a conventional example in which lasers are arranged in a hybrid manner, and Figure 6 is a combination of an array laser with a fixed emission direction and a prism. FIG. 7 is a diagram showing a conventional example in which an array laser whose emission direction is constant is corrected by an optical system.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 複数個の半導体レーザがモノリシックに形成された半導
体レーザ装置において、前記半導体レーザのそれぞれか
らの光が該共振面から射出された時点でそれぞれの光出
射方向が異なっており、かつ、前記各々の半導体レーザ
の共振面のうち、一方が劈開により形成され、他方がエ
ッチングによって形成されたことを特徴とする半導体レ
ーザ装置。
In a semiconductor laser device in which a plurality of semiconductor lasers are monolithically formed, when the light from each of the semiconductor lasers is emitted from the resonant surface, the respective light emission directions are different; A semiconductor laser device characterized in that one of the resonant surfaces of the laser is formed by cleavage and the other is formed by etching.
JP11205486A 1986-05-16 1986-05-16 Semiconductor laser device Pending JPS62268175A (en)

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JP (1) JPS62268175A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4590660B2 (en) * 1999-08-26 2010-12-01 日本ビクター株式会社 Optical pickup device

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JP4590660B2 (en) * 1999-08-26 2010-12-01 日本ビクター株式会社 Optical pickup device

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