JPS6111661B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、反応生成ガスに含まれる物質を用い
て粒子を被覆するための方法および装置に関し、
特に粒子例えば原子力燃料粒子が高温度条件下の
流動床において被覆される方法および装置に関す
る。

例えば、原子炉に使用される種類の原子力燃料
粒子を保護するために熱分解炭素又は金属炭化物
の被覆を用いる事は公知である。燃料粒子は粒度
が小さく即ち500ミクロン程度であつて、ウラニ
ユーム、プルトニユーム、トリユーム又はこれ等
の適当な化合物の如き適当な核分裂物質および
（又は）燃料親物質から形成される。

原子炉内では、この核燃料粒子は、高温度の条
件下にさらされ、長期の運転期間にわたり苛酷な
放射能照射を受ける。長期にわたりこの様な環境
内で持続する効力を確保するため、個々の粒子の
封包内にガス状および金属性の核分裂生成物を保
持するために不透過物質で燃料粒子を被覆する事
は広く知られている。

熱分解炭素および金属炭化物は、核燃料粒子の
ためのこの様な被覆を構成する物質の特殊な事例
である。この被覆は、実質的な成分を有する即ち
アセチレン、プロピレン又はメタンの如き適当な
炭化水素だけからなる反応性ガスの導入により高
温度の被覆処理室内で塗布される。

この様な被覆を施される燃料粒子の例として
は、例えば米国特許第3325363号、同第3298921
号、同第3361638号、同第3649452号に開示されて
いる。

熱分解炭素又は金属炭化物の如き適当な物質で
核燃料粒子を被覆するための望ましい方法は、前
述の種類のガス状炭化水素の高温の分解による所
望の物質の沈積からなる。被覆される粒子が比較
的小さい時は、被覆操作は高温度の被覆室内の流
動床の形態で懸架された粒子を用いて有効に実施
する事ができる。流動床内の粒子の泥膏化又は懸
濁化は、一般に炭化水素ガス、不活性担体ガス、
又はその混合ガスの導入を制御して粒子床の下方
で行われる。最も広く知られる方法では、不活性
の担体ガスをこの目的に使用し、例えばアルゴ
ン、ヘリユーム、窒素又は水素を用いる。

この様な被覆処理室のための望ましい形態とし
ては、被覆室の基部は、多孔質であるかあるいは
粒子床の下方に泥膏作用ガスを導入するための手
段を設けた倒立円錐形部材の形態が望ましい板材
から形成される。

この被覆処理中、細かな核燃料粒子は、ほぼ等
温条件下の流動床内で懸濁しようとする傾向を有
する。反応性ガスは、被覆処理室の高温度により
分解されて、粒子上に沈着する。この様な被覆操
作を実施するための種々の条件は公知であり、こ
れには、被覆処理室内の温度範囲と共に反応生成
ガスと泥膏作用ガスの両者が前記室内に導入され
る速度および圧力、および被覆操作の持続時間等
が含まれる。

従来技術により実施される粒子の流動床に対す
る高温度のガス被覆操作条件は、多くの問題に遭
遇して来た。例えば、高温度の環境内の反応生成
ガスの分解のため、炭素質物質の実質的な沈着即
ち形成が同室の内表面上に進む傾向を有する。炭
素の沈着は、これが粒子の流動床の維持のための
泥膏作用ガスの適正な導入、被覆操作の実施およ
び同室内からの被覆処理された粒子の取出しのた
め反応生成ガスの追加を阻害しようとする傾向の
ため、特に問題となる。

別の問題は、前記室内で１つの操作において被
覆される粒子のバツチ・サイズ、および被覆粒子
がほぼ球状の形態を有する事を保証するための関
連する要件に関する。この要件は、小面即ち平坦
面が被覆処理の間粒子表面上に形成され様とする
傾向があるため、特に重要である。

別の一般的な問題の領域は被覆操作の効率に関
する。効率に影響を及ぼす３つの特に重要な要素
は、１回で被覆される粒子のバツチ・サイズ、後
続の粒子回分量を受入れるための室を準備するた
めに被覆処理室から被覆された粒子を迅速に取出
す問題、および被覆工程間に必要な保守作業量を
含む。この様な保守作業には、主として被覆処理
装置の内部構成要素から被覆物質を取出す事であ
る。

この様な被覆処理室の構造は、粒子と混合され
る前に反応生成ガスの付着を防止しながら、被覆
室に対して泥膏作用ガスおよび反応生成ガスの両
者を供給するため、過去においては比較的複雑で
あつた。被覆作用装置の構造は、更に、前述の如
く迅速かつ効率の良い取出し装置を提供するため
の必要により複雑化されて来た。

本発明に関して特記すべき別の問題の領域は、
流動床の全域にわたり粒子の均等な分布および循
環を維持する事を必要とする事である。これ等の
要素は、被覆処理室内の粒子の全回分量に対して
均一な被覆を形成する上で特に重要である。

反応生成ガスを上端部で開口する垂直方向に延
在するノズルを経て高温の被覆処理室内に導入す
る時は、「オーバーコーテイング」と一般に呼ば
れる炭素質物質の堆積がノズルの開口端部に生じ
る。この現象は、被覆室に流入する反応生成ガス
の流量とこのノズル上の炭素質のオーバーコート
が干渉し、又被覆室内の反応生成ガスの分散形態
と干渉するため、特に問題となる。

本発明に関連する特定の問題の最後のものは、
流動床全域にわたり粒子の均一な分布および循環
を維持する必要がある事である。この必要は、被
覆処理室内の粒子の全回分量に対する均等な被覆
の形成において特に重要である。

従つて、本発明の目的は、前述の問題の１つ以
上を解決しながら流動床に懸架された粒子のガス
被覆処理のための改良された方法および装置の提
供にある。

本発明は、反応生成ガスに含まれる物質を用い
て粒子の被覆処理を行うにあたり、基部と側壁部
とを有する被覆処理室内で被覆すべき粒子の床を
形成し、 被覆処理室の中心部において処理室基部から上
方に延在するノズルにより反応生成ガスの流れを
被覆処理室内に導入し、前記反応生成ガスの流れ
は半径方向外方に指向され、 粒子が被覆処理される時流動床の形態に粒子を
分散させかつ懸濁させるため泥膏作用ガス（“レ
ビテーチングガス”または“浮遊ガス”とも称す
る）の流れを反応生成ガスの下方に導入する事に
よつて、粒子の被覆処理を行う方法において、被
覆処理室の基部の底部の被覆粒子取出し用開口を
ふさいでいる可動性プラグを動かして前記開口を
開放状態にし、この開口を通じて被覆粒子を被覆
処理室から排出させ、そして、前記のノズルが、
前記の底部から上方に延在する形で前記プラグ上
に取付けられたものである事を特徴とする、反応
生成ガスに含まれる物質を用いて粒子の被覆処理
を行う方法に関するものである。

本発明はまた、被覆処理すべき粒子を収容する
ためのほぼ円筒状の被覆処理室と、 前記被覆処理室において倒立円錐状の形成する
下方を向いた頂部を有する倒立円錐状部材と、 「前記倒立円錐状基部の上方に粒子の流動床を
形成するため倒立円錐状基部上方に不活性ガスの
流れを導入するための流通導管と、 前記の粒子床の方に向かつて延在し、その噴出
口が前記倒立円錐頂部の上方に存在する長形ノズ
ルとを備え、この長形ノズルが反応生成ガスを前
記被覆処理室に導入するためのノズルである粒子
被覆装置において、 「可動性プラグを有し、このプラグは、閉鎖時
には前記倒立円錐状部材の頂部の開口を閉鎖して
おり、この可動性プラグを動かすことによつて前
記の開口が開放状態になり、この開口を通じて被
覆粒子を被覆処理室から取出すことができ、そし
て 前記の長形ノズルが、前記の倒立円錐頂部から
上方に延在する形で前記プラグ上に取付けられて
いる事を特徴とする、反応生成ガスに含まれる物
質により粒子を被覆処理のための被覆装置にも関
する。

好ましくは、前記のプラグは前記倒立円錐頂部
から下方に移動し得るものであり、前記開口の最
大幅の部分の寸法は前記ノズルの最大幅の部分の
寸法よりも大であり、これによつてノズルの噴出
口に生じた付着堆積物がノズル自体より大きい寸
法のものであつてもこれを前記開口を通じて排出
できるようにするのがよい。

又、例えばノズルを経て被覆処理室内に１種以
上のガスを導入するための手段を提供するため、
長形のガス・プローブ（すなわちガス供給管）が
前記可動性プラグに固定される事が望ましい。

この可動性プラグを包含する構成は、前記室か
ら被覆粒子を取出すための開口を形成するため、
又保守のためのノズルの如き各種の構成要素の取
出しの便を与えるため、特に望ましいものであ
る。又、前記ノズルは、例えば不活性ガス又は別
の反応生成ガスのいずれかである第２のガス流に
反応生成ガスを衝突させる事により被覆を強化す
る様な形態とする事が望ましいが、これについて
は後で詳細に説明する。特に本発明は、核燃料粒
子の高温度ガス被覆法において使用するためのも
のであり、前記被覆処理室は高温度の炉に対する
反応室を形成する。

本発明については、更に例示として添付図面に
関して説明する。

第１図および第２図において、全体的に照合番
号10で示される被覆処理装置は、基部１４と室内
に反応生成ガスを導入するためのノズル１６とを
有する被覆処理室１２を有する。

望ましいノズルの一形態は第３図に番号１６′
で示される。被覆処理室の基部１４′は、泥膏作
用ガスを被覆作用室内に導入してその内部に粒子
の流動床を形成するための装置を含む倒立円錐状
の部材として形成されている。ノズル１６′は、
第４図に示される従来技術に比較して第５図に示
す如く、炭素の沈着を最少限度に抑制するため円
錐状部材の頂部から上方向に延在する様な形態を
呈する。

第３図の上方向に延長するノズル１６′は、粒
子の流動床が被覆室の基部１４′の上方に実質的
に離間される一区域に比較的小さな密度の粒子相
２０を形成させて被覆室基部１４′に隣接して形
成された比較的大きな密度の粒子相１８を含む勾
配を有する相に形成される被覆処理室内における
使用のためのものである。もち論、この様な条件
は、円錐状の基部を用いない別の被覆処理室の形
態においても実現できる。然し、この形態内部で
は、ノズルは、第６図（従来技術）および第７図
の比較により例示される様に、粒子の被覆特性を
改善するために反対生成ガスを比較的小さな密度
の区域２０に指向させる様にその出口を配置され
ている。

再び第１図および第２図において、詳細に以下
に記述する方法で室１２からの被覆粒子の取出し
を容易にするため底部の取出しプラグ２２が設け
られている。反応生成ガスを被覆処理室内に導入
するためのノズルはプラグ２２上に取付けられる
事が望ましい。

第８図乃至第１２図は、例えば反応生成ガスお
よび泥膏作用ガスを被覆処理室内に導入するため
のガス通路を有し、かつ同室から被覆粒子の取出
しを容易にするため運動可能である事が望ましい
本発明の多くの実施態様を示すものである。

第１３図および第１４図は、上方に延長するノ
ズルが反応生成ガスを前記被覆処理室の床部即ち
基部上に離間された位置関係の前記室内に導入
し、かつ又前記基部と密接する室内に泥膏作用ガ
スを導入するためのものである本発明の更に別の
実施態様を示す。

最後に、第１５図乃至第２２図は、粒子上への
被覆の品質を改善する方法で反応生成ガスを被覆
処理室内に導入即ち指向させるためのノズルの
種々の実施態様を示す。

前述の如く要約された本発明の特徴は、適当な
炭化水素を含む反応生成ガスの分解により高温の
被覆処理室内における核燃料粒子のガス被覆にお
いて特に使用するためのものである。然し、以下
の記述から、本発明が、被覆処理されるべき粒子
が流動床において懸濁させられる他のガス被覆操
作においても使用出来る事は明らかであろう。

本発明の各実施態様については以下に更に詳細
に記述する。第１図および第２図の被覆処理室１
２は、例えば垂直方向の壁面２４を含む原子炉容
器内に形成される。この原子炉容器は高温の炉
（図示せず）内の配置に適している。

被覆処理室の基部１４は、環状の区域２６から
上方の被覆室１２内に泥膏作用ガスの導入を許容
する多孔質即ち孔を設けた材料から形成された倒
立円錐状の部材である。この円錐状部材は30゜乃
至140゜の基本角度内の挾角を有する。全ての添
付図面においては、円錐状部材は60゜の挾角で示
されている。

底部の取出しプラグ２２を収容するため、円錐
部材はその頂部に円錐状の開口２８が形成され、
開口２８は底部取出しプラグ２２の先細状の環状
面３０と係合する。プラグ２２は、第２図に示さ
れる如く先細（テーパ）状面２８と３０間に環状
開口３２を形成するため垂直方向に運動可能であ
る。この様に、被覆処理操作の完了後、プラグ２
２は第２図に示される位置に下ろされて被覆粒子
が被覆処理室１２から出て来れる環状開口３２を
形成する。さもなければ、プラグ２２は円錐状部
材１４と協働して被覆室１２に連続形状の基部を
提供する。

前述の如く、反応生成ガスノズル１６はプラグ
２２上に取付けられるのが望ましい。被覆処理装
置１０を高温度の炉体内に配置させれば、ノズル
１６は、被覆処理装置をこれ以上分解する事なく
ノズルへサービスのため接近できる様にするため
底部取出しプラグ２２と共に被覆処理室１２から
取外しができる。

又プラグ２２上にノズル１６を配置する事も、
反応生成ガスがノズル１６に供給されかつ被覆粒
子が室１２から取出される方法を簡単にする。例
えば、反応生成ガスはプラグ２２の内側を通つて
ノズル１６に供給できる。同時に、開口３２を経
て室１２から出て来る被覆粒子を受取るためプラ
グ２２の周囲および円錐状部材１４の下方に環状
通路を形成できる。

ノズル１６′自体の構造については特に第３図
において、その高さを被覆処理室１２′の直径即
ち公称横寸法に関連して選択する事ができる。室
の基部１４′を前述の如く倒立円錐状部材とすれ
ば、ノズル１６′の高さｈは、被覆処理室１２′の
直径Ｄと円錐状部材１４′の基部の少くとも約1/4
になる様に選択される事が望ましい。

被覆処理室の基部１４のほぼ上方にノズル１６
の出口３８を引上げる事の重要性は、本発明を示
す第５図と比較した第４図の従来技術により更に
明瞭に示されている。第５図においては、同様な
延長されたノズル１６′も又前述の如き長さ即ち
高さを有する。第５図は又、延長されたノズルは
底部の取出しプラグ２２と関連させる必要のない
事を示す。第３図および第５図においては、ノズ
ルは倒立円錐状部材の頂部で小さな開口（それぞ
れ４０および４０′で示す）を貫通している。比
較のため第４図においては、反応生成ガスが部材
１４′の頂部で被覆処理室内に導入される様に平
坦状のノズル４２が基部材１４′の頂部開口内に
配置されている。被覆操作の間、炭素質の沈着物
は４４において従来技術の平坦ノズル４２につい
て示す如く、ノズルの出口３８の周囲に形成され
る傾向を有するが、本発明のノズル１６′におけ
る同様な炭素質の沈着物は第５図の４６で示され
る。第４図においては、更に炭素質物質４８は倒
立円錐状基部材１４′の隣接表面上に沈積しよう
とする。円錐状基部上の炭素質沈着物４８は特に
問題となるが、これは基部材１４′を経て被覆処
理室１２内への泥膏作用ガスの流れと干渉してこ
れを阻害するためである。これは更に粒子の流動
床の形成を破壊しようとする傾向を有し、その結
果基部材１４′の頂部における流動性の喪失と炭
素質の堆積部４４のため被覆不良あるいは更に被
覆されない燃料粒子を生じるおそれがある。

これに対し、第５図から判る様に、ノズル出口
３８′が高くなつているため基部材１４′の表面上
には殆んど炭素質の堆積がない。又、この炭素質
の堆積４６はノズルの出口３８′から容易に剥す
事ができる。ノズル自体は例えば基部材１４′に
比較して比較的安い要素であるため、被覆処理室
から炭素質の堆積の周期的な除去作業を容易にす
るのにこれを「犠牲にする」事が容易である。

基部材１４′の頂部上方のノズル出口３８′の高
さも又第３図に更に明白に示された別の理由によ
り重要である。第３図において、基部材１４′を
経て被覆処理室内に流入する泥膏作用ガスは全体
的に番号５０で示されている。被覆処理室内への
泥膏作用ガスの流れは、被覆処理室内の粒子床を
番号１８と２０で示す比較的大きな密度の相と比
較的小さな密度の相に懸濁させようとする傾向が
ある。延長されたノズル１６′の使用によりその
出口３８′からの反応生成ガスが流動床の小さな
密度相に導入され得る事が判つた。実験によれ
ば、小さな密度相への反応生成ガスの導入は第６
図および第７図により示される如く更に球状の被
覆粒子の形成をもたらす事が判つた。反応生成ガ
スは小さな密度の相内では粒子表面により自由に
接近する事が理論付けられる。従つて、粒子上の
被覆材料の生長に対しては制約が少く、更に均一
な球状の形態が形成できる。

第１図の被覆処理装置に関しては、小さな密度
の相２０内における被覆作用はノズル１６′を介
して供給される反応生成ガスを稀釈される事によ
り更に強化できる事が更に発見された。反応生成
ガスは例えば泥膏作用ガスに用いられると同じ不
活性ガスにより稀釈できる。ノズル１６′からの
ガス流は、不活性ガスを約10乃至80wt％、反応
生成ガスを約20乃至90wt％含むものでよい。

第６図および第７図は、下記の相異点を除いて
同様な条件下で製造された被覆処理された核燃料
粒子の拡大図である。第６図に示される粒子は、
番号１４′で示される如き基部材を有する被覆処
理室内で製造されたものである。第４図において
番号４２で示される型式の平坦型ノズルは第６図
に示された粒子の被覆において使用された。

第７図に示される粒子は、挾角60゜を有する番
号１４′で示された如き基部材、および第５図に
おける１６′で示される延長されたノズルを用い
て同様な条件下で同様な被覆処理室内で製造され
たものである。第７図の粒子の製造に用いられた
実際の被覆処理装置においては、被覆処理室１２
の直径と基部材１４の外径はほぼ12.7cmであつた
が、ノズル１６′の高さは約７cmであつた。

最後に、第４図および第５図において、番号４
８で示される如き炭素質堆積物は又被覆処理室か
ら基部材１４′の頂部を経て被覆された粒子の取
出し作用と干渉しようとする傾向を有する。延長
されたノズル形態は、この様な炭素質の堆積物が
環状通路３２（第２図参照）に隣接して存在して
取出し作業を阻害する事がないと云う別の利点を
提供するものである。

作用においては、被覆されるべき粒子は被覆処
理室内に定置され、泥膏作用ガスは第１図に関し
て前に述べた如き流動床を形成する様導入され
る。核燃料粒子の被覆処理に対しては、被覆処理
室１２は高温度の炉内に配置される。この様な高
温度の炉の運転および使用については当技術にお
いては周知のものと考える。反応生成ガスは次い
で流動床の小さな密度の粒子相２０に導入され、
その結果第７図における如き更に均質な球状の被
覆粒子の形成をもたらす。被覆された粒子は、第
１図および第２図の底部取出しプラグ２２により
被覆処理室から取出される。重力の作用下では粒
子は重力の作用下では被覆処理室１２から流出す
るため、被覆作業の完了後、粒子は高温度で取出
され、冷却のため被覆作業の後室１２内に滞留さ
せる時間は殆んど又は全く不要である。この様
に、被覆処理装置１０は、以後の被覆作業を開始
するため新らしい粒子の回分操作量を直ちに再充
填する事ができる。

同様なノズル１６′について既に述べ第５図に
示した如く、ノズルはプラグ２２を下げる事によ
り容易に清掃又は交換ができる。

第８図に１１０で示された被覆処理装置は、延
長されたノズル１１６を有する基板１１４を有す
る被覆処理室１１２を含んでいる。内部に流動床
を形成するため泥膏作用ガスを被覆処理室内に導
入するための装置が設けられている。基板１１４
は、泥膏作用ガスをノズルの基部に形成された開
口を通して導入させる中実の円錐状に形成される
事が望ましい。この様に、泥膏作用ガスは、反応
生成ガスをノズルに指向させるため以下に述べる
ものと同じプローブを経て被覆処理室に供給でき
る。

第８図と第９図、第１０図と第１１図、および
第１２図にそれぞれ示された３つの実施態様は、
特に被覆処理された粒子を室から取出す作業を容
易にするために設計されている。各実施態様にお
ける被覆装置の多くの構成要素は同様である。第
８図および第９図の被覆処理装置について最初に
記述する。第８図および第９図の実施態様におけ
る同様な構成要素に対応する第１０図および第１
１図の被覆処理装置の構成要素については同じ照
合番号により以下に記述する。第１２図の装置の
同様な構成要素は最初に「２」を付した同じ番号
で示される。

これ等３つの実施態様、例えば第８図および第
９図においては、長形のノズル１１６は、倒立円
錐状の基板１１４の頂部に形成された開口１２２
と係合する拡大された基部１２０上に取付けられ
ている。ノズル１１６とノズル基部１２０は延長
されたガス・プローブ１２４上に取付けられ、前
記プローブは、被覆処理室１１２から被覆された
粒子を取出すための環状開口１２６を形成するた
め基板１１４に対して運動自在である。

円筒状のハウジング要素１２８は、環状開口１
２６から被覆された粒子を受取るため、又この粒
子を側方の取出しシユート１３２に搬送するため
にプローブ１２４の周囲の環状の取出し通路を形
成する。側方の取出しシユートは、貯蔵された粒
子を厳重に安全な状態で保管するため、これも又
選択された形態の適当な手段、例えば１個以上の
冷却された貯蔵ホツパー（図示せず）に熱い状態
の被覆された燃料粒子を送出するために使用でき
る。

被覆処理室１１２内の高温度条件は、番号１３
４で示される炉体のシエルにより部分的に示され
る高温度炉内に被覆処理装置１０を配置する事に
より確保される。被覆処理室１１２は、これも又
炉体内を下方に延在してガス・プローブとハウジ
ング１２８を包囲する円筒状の被覆処理室ライナ
ー１３６（第９図）内に包囲されている。

再び第８図および第９図における各実施態様に
おいては、シール装置１３８はハウジング１２８
の下部と炉の基部構造１４０間に形成される。ノ
ズル１１６は、稀釈坦体ガスを含むか含まない反
応生成ガスを被覆処理室内に導入するための多く
のガス通路を有する型式である事が望ましい。

長形のガス・プローブ１２４とそのノズル１１
６とノズル基部１２０との結合部の構造部は第８
図に最も良く示されている。ガス・プローブ１２
４は、複数のガスをノズル基部１２０とノズル１
１６に導入するための複数個のガス通路を形成す
る中央部分１４２を有する切離し可能な２部分か
らなる構造で形成される。中心のプローブ部分１
４２は、長形の管１５２，１５４および１５６に
より相互に分割される３つの同心状のガス通路１
４６，１４８，１５０で形成されている。管の上
端部は、３つの同心状のガス通路１４６，１４
８，１５０をノズル基部１２０とノズル１１６に
連通させるための開口を有するアダプタ１５８に
接続されている。前述の如く、プローブ１２４も
又泥膏作用ガスを被覆処理室に供給できる。

プローブの外側部１６０は、周囲の高温度から
通路１４６，１４８および１５０を経てノズルへ
に通されるガスを保護するためプローブの全長に
わたり冷却媒を循環するためのシエルとして形成
される。この目的のため、外側のプローブ部分１
６０は、冷媒供給通路１６２と冷媒戻し通路１６
４で形成される。この様に、冷媒は、例えば１６
６で示される入口装置を経て供給通路１６２に導
入でき、冷媒は適当な冷媒出口装置１６８を経て
戻し通路１６４から除去される。ここで再び、外
側のプローブ部分１６０の上端部は、供給通路１
６２と戻し通路１６４間に冷媒の流通を許容する
環状のアダプタ１７０により閉鎖されている。こ
の様に、組立作業中、冷媒を封じるための溶接継
目を含む外側のプローブ部分の表面に接近する事
ができる。従つて、ノズルに供給されるガスとの
冷媒の好ましからざる混合は完全に防ぐ事ができ
る。内側と外側のプローブ部分に対するアダプタ
１５８と１７０は組立と同時に一緒に嵌合する様
になつている。

フード１７２はプローブ１２４の上端部に載置
され、ノズル基部１２０により貫通されてプロー
ブとノズル間のガスの流通を可能にする。更に、
フード１７２は、取出し作業中、環状の開口１２
６から環状の通路１３０へ被覆処理済み粒子を指
向するための下方および外方に延在する円錐状表
面１７４が形成される。フード１７２も又ハウジ
ング１２８の環状部分１７８と重合する環状のフ
ランジ１７６を有する。この特徴のため、被覆済
み粒子がガス・プローブ１２４と接続しない様に
しながら、ノズルの垂直方向運動を容易にする。

別個の入口装置１８０，１８２および１８４
は、色々なガス成分をノズル基部１２０とノズル
１１６に流通するための各ガス通路１４６，１４
８と連通する様に設けられる。

基板１１４、ノズル１１６、フード１７２、ハ
ウジング１２８および側方の取出し用シユートの
如き被覆処理装置の種々の部分は、この様な被覆
処理装置内で遭遇する高温度に耐える適当なセラ
ミツク材料から形成される事が望ましい。

第８図および第９図においては、ハウジング１
２８の周部のスリーブ部分１８６は、１８８で表
示される如き基板１１４と螺合している。ハウジ
ング１２８およびスリーブ部分１８６は、１９０
で示される接合部で一緒に嵌合する２つの軸方向
に分割可能な部分として形成される。

プローブ支持スカート１９１は、ハウジング１
２８から下方向に延在し、ガス導管のプローブ１
２４への相互接続を容易にするため全体的に保護
された区域を形成する。ハウジング１２８と運動
可能なプローブ１２４間のガス漏れは、異なる膨
張状態を第８図および第９図で１９３で示される
可撓性のある金属ベロース・シールにより阻止さ
れる。

作用においては、この装置は室１１２内の被覆
作用を実施するため第８図に示す如く配置されて
いる。室１１２からの被覆処理済み粒子を取出す
ため、長形のプローブ１２４の下端部における引
張り棒１９２を用いて環状の取出し開口１２６を
形成するため、フード１７２と、ノズル基部１２
０と、ノズル１１６に沿つて下方向にプローブ１
２４全体を移動させる。プローブ１２４とハウジ
ング１２８間の軸方向の運動はフード１７２の重
合形態により行われる。

第９図に示す如くガス・プローブ１２４とノズ
ル１１６を下げると、被覆された粒子は室１１２
から環状通路１３０に流れ、側方の取出しシユー
ト１３２から流出す。

被覆処理された粒子が完全に室１１２から取出
された後、ガス・プローブ１２４は再び手張り棒
１９２により次の被覆操作のため第８図の状態に
引上げられる。

第８図および第９図に対する第１０図および第
１１図の実施態様における主な相違は、ガス・プ
ローブが環状の取出し開口１２６′を形成する様
に下げられる方法にある。第１０図および第１１
図においては、ハウジング１２８′の周部の環状
部分１８６′は基板１１４′に対して運動可能であ
る。別の円筒状ライナー１９４は、１９６で示す
如く基板１１４′に螺合され、炉体の基部構造に
向けて下方向に延在している。引出し操作の間、
円筒状のライナー１９４と円錐状の基板１１４′
は、第１０図および第１１図において示される位
置で基部構造１４０′に固定される板１４１に形
成される環状ピン１４１ａにより支持される。ピ
ン１４１ａは、基板１１４′が炉体から外される
時引込む。

この様に、第１０図および第１１図の構造は、
さもなければ被覆装置を分解する必要がある処を
これを要さずにノズル１１６′への接近を容易に
する。例えば、ハウジング１２８′は、基板１１
４′から分離され、炉体の基部構造１４０′の下方
に引下げる事ができ、この時ノズル１１６′は容
易に交換又は修理作業のため接近できる様にな
る。

第１０図および第１１図の実施態様において
は、シール組立体１３８′はハウジング１２８′と
炉体の基部構造１４０′間の軸方向運動を行う様
になつている。この様に、環状の取出し用開口１
２６′を形成するためノズル１１６′、ノズル基部
１２０′およびフード１７２を下げるためには、
ハウジング１２８′全体が、第８図および第９図
の引張り棒１９２について既に述べたものとほぼ
同じ方法で定置されるプローブ支持スカート１９
１′によりプローブ１２４′に沿つて引下げられ
る。

第１０図および第１１図の実施態様について
は、フード１７２′はハウジング１２８′の環状部
分１７８′に固定できる。然し、フード１７２′も
又ハウジング１２８′の環状部分１７８′に対して
重合する可動関係に配置できる。

第１２図の実施態様は、第８図および第９図と
第１０図および第１１図の実施態様の特徴を組合
わせるものである。特に、第１２図の実施態様
は、室２１２から被覆された粒子を取出すための
開口２２６を形成するためプローブ２２４、フー
ド２７２、ノズル基部２２０、およびノズル２１
６を下げるため同様な引張り棒２９２を使用して
いる。従つて、フード２７２に対する環状フラン
ジ２７６は環状ハウジング部２７８上に運動自在
に重合して前記各要素と環状部分２７８を含むハ
ウジング２２８との間に相対的な運動を行う。

第１２図の実施態様も又運動自在なプローブ支
持スカート２９１を使用して炉体からノズル２１
６および被覆処理装置の関連する内部要素を引下
げて、これによりこれ等要素に対する保守作業を
容易にする。第１２図の実施態様は、この様な保
守作業を更に容易にするため第１０図および第１
１図の実施態様とは若干異なる。特に、第１２図
の実施態様は、最少限度の材料即ち要素を保守作
業の間炉体から取外す様に設計されている。この
ため、保守作業の行われる前に必要な冷却操作が
確実に少くて済むと同時に、ノズルや保守作業を
一般に必要とする被覆装置の他の要素に対する接
近性が更に改善されると云う重要な利点が得られ
る。

プローブ２２４、およびフード２７２、ノズル
基部２２０およびノズル２１６を含むプローブ上
に支持される構成要素は、同様な構造を有し、か
つ第８図および第９図の実施態様に関して前に述
べた様にハウジング２２８に対して同様に相互作
用する。従つて、引張り棒２９２は、取出し用通
路２２６を形成するためハウジング２２８に対し
て前記の各構成要素を引下げる様に作用させる事
ができる。引張り棒２９２は又、前記各要素を引
上げて室２１２内で行われるべき被覆処理作用を
許容するため前記開口を閉鎖するため反対方向に
作用させる事もできる。

第１２図の実施態様の範囲内で、周囲のハウジ
ングの僅かに一部と共に被覆処理室２１２と炉体
から完全にプローブ２２４、フード２７２、ノズ
ル基部２２０およびノズル２１６を下げさせ得る
ため多くの変更例が着想される。このためには、
ジヨイント２９０は、ハウジング２２８と基板２
１４に向けて上方に延在する周部の環状部分２８
６との間にスリツプ・ジヨイントとして作用す
る。周部のハウジング部分２８６も又その下端部
に環状のフランジ３０２が形成されている。調整
可能な保持ピン３０４も又通常の引込め位置から
ピンが炉内の環状ハウジング部分２８６を支持す
るためフランジ３０２と係合する延長位置に移動
できる。

第１２図の実施態様の範囲内で、ハウジング２
２８およびプローブ２２４はプローブ上に取付け
られたこれ等構成要素と共に、第１０図および第
１１図の実施態様に対してこれも又前に述べた方
法によりプローブ支持スカート２９１の運動によ
り一緒に引上げる事ができる。

シール組立体２３８も又この様な操作を容易に
するためのものである。特に、シール組立体２３
８は、環状ネヤンネル３０８により定置され保持
される１対の膨張可能なシール・リング３０６を
含んでいる。膨張可能なシール・リング３０６
は、ハウジング２２８の環状表面３０７と封止作
用的に係合関係になる様膨張させられる。シール
３０６は収縮する時チヤンネル３０８と係合関係
を維持するが、要素２７８，２７２，２２０およ
び２１６と共に表面部分３０７を含むハウジング
２２８は炉体から引下げる事ができる。

さもなければ、第１２図の実施態様は、第８図
と第９図、および第１０図と第１１図の各実施態
様について前述したものとほぼ同じ作用上の利点
を有する。特に、第１２図の実施態様は、被覆さ
れた材料が開口２２６から室２１２から取出され
る時、側方の取出し用シユート２３２と協働する
同じ還状の取出し用通路２３０を有する。

第１３図におけるガス被覆処理装置は、基部４
１４を有する被覆処理室４１２と室の床部の中央
部から上方に延在するノズル４１６とを有し、反
応生成ガスを被覆処理室４１２に導入するための
出口４１８を形成する。床４１４および特に室４
１２の内表面部分を形成するその上面４２０の形
態は、すぐ前に述べた如く泥膏作用ガスの導入に
関して重要である。

被覆処理室４１２内の流動床内の粒子の懸濁お
よび循環を促進するための泥膏作用ガスは、上方
に延在するノズル４１６の基部の周囲に配置され
たオリフイス・リング４２４に形成されるオリフ
イス４２２を経て室内に導入される。オリフイス
４２２は、泥膏作用ガスを半径径方向外方および
処理室床部４１４に対する表面４２０とほぼ平行
関係に指向する様に配置されている。更に、オリ
フイス４２２も又半径方向に偏心位置関係に配置
されて、室の床部４１４の表面を更に有効に清掃
するため泥膏作用ガスの払拭作用運動を促進す
る。泥膏作用ガスの払拭運動は、被覆作用の間さ
もなければ室４１２からの粒子が沈積して室の床
部の表面４２０上に堆積し得る表面４２０に隣接
する無効区域を排除する。

オリフイス４２２は室の床部の表面４２０に対
して僅かに上方向にある角度で傾斜させられてい
る。又第１５図においては、オリフイス４２２を
経て被覆処理室内への泥膏作用ガスの導入は、被
覆処理室４１２全体にわたる粒子の分布を容易に
する。この様に、オリフイス・リング４２４の使
用は又、流動床全域にわたり室内の粒子の運動を
保存しようとする傾向を有しながら、室４１２内
全体の粒子の循環作用を促進するため、室４１２
内の粒子の更に均一な被覆作用に寄与する。

ノズル４１６とオリフイス・リング４２４は、
ノズル４１６に反応生成ガスを流通させかつオリ
フイスリング４２４に泥膏作用ガスを流通させる
ための通路を含む運動可能なプローブ４２６上に
取付けられている。同時に、プローブは、被覆処
理室４１２から被覆された粒子を取出すための円
鎖状の室の床面４１４の頂部に環状の開口４２８
を提供するため下方向に引込められる即ち移動で
きるのである。

第１５図において全体的に５１０で示されるガ
ス被覆処理装置は基部５１４を有する被覆処理室
５１２を有する。

本発明のこの実施態様は、特にその上端部に反
応生成ガスを被覆処理室５１２内に導入するため
の出口５１８を有する長形のノズル５１６の形態
に関するものである。ノズル出口の種々の態様
が、半径方向外方に反応生成ガス又は被覆作用ガ
スを指向させてノズル上の反応生成ガスからの被
覆作用物質の沈着を制限し、かつ反応生成ガスの
流動床への滲透を促進すると云う共通の目的で提
供される。

この点に関して、ノズルから出て来る反応生成
ガスは流動床内の粒子に半径方向外方の速度を与
える事が判る。粒子におけるこの外方への速度成
分は、流動床内の粒子の更に均一な循環作用を生
じ、従つて、全ての粒子に対して更に均等な被覆
を与える結果となる。ノズルに隣接する粒子に生
じた外方向速度のため、第１５図に示す如く、粒
子はノズルの先端から半径方向外方に、更に被覆
処理室の壁面に沿つて上方向に、次に半径方向内
方にかつ被覆処理室の軸心部を通つて下方に流れ
様とする。

泥膏作用ガスは、ノズル５１６の基部周囲に円
周方向に離間されたオリフイス５２４を介して被
覆処理室内に導入される。従つて、反応生成ガス
と泥膏作用ガスの両方の流れは被覆処理室内を前
述の如くほぼ同じ形態をとり、流動床全体にわた
り粒子の均等な循環作用を容易にしてこのため粒
子の更に均等な被覆作用を可能にする事が判るで
あろう。第１５図の泥膏作用ガス用オリフイス５
２４も又、被覆処理室内に流入する泥膏作用ガス
に対し周方向即ち渦状の速度成分を与えるために
螺旋形状を有する事が望ましい。

被覆性状および被覆効率を更に強化するための
ノズル出口の別の変更例を第１６図乃至第２２図
に示す。本文においては被覆効率は、特に実際に
粒子上に沈積する反応生成ガス即ち被覆作用ガス
からの全被覆物質の一部と考れられる。一般に
は、これ等性状は、もし被覆作用ガスがノズル出
口５１８を出た後流動床上に迅速に分散させられ
るならば向上しよう。

この様に、第１６図乃至第２２図のノズルの変
更例は反応生成ガスの更に迅速な分散作用を促進
する様意図されるものである。全般的に第１６図
について留意すべき事は、ノズルに対する出口開
口が望ましくは出口通路を半径方向に偏心させる
事により反応生成ガスに回転作用成分を与える様
に配置されている事である。第１８図において
は、対をなす出口開口は反応生成ガスの流動床に
おける分散作用を促進させるために相互に反応生
成ガスの噴流を相互に衝突させる。第２１図にお
いては、反応生成ガスの出口は第２のガスのため
の出口開口と結合されて、第１８図に関して前に
述べた同じ目的を達成する。第２１図のノズル構
成に使用される第２のガスは、例えば不活性ガス
又は多成分の被覆作用ガスの１つ以上の別の成分
のいずれであつてもよい。

第１６図および第１７図においては、ノズル５
５０の上端部は軸方向通路５５２を形成する様に
示されている。ノズル５５０の上端部５５４は、
ノズル５１６について前に述べたと同じ方法で閉
鎖されている。複数個の周方向に離間された出口
開口即ち通路５５６はノズル５１６の上端部に形
成されている。この通路５５６は、ノズル５５０
から半径方向に流出する反応生成ガスに対し渦流
効果を与えるために半径方向に偏心されている。

第１８図乃至第２０図の実施態様においては、
軸方向の通路５７２と閉鎖された上端部５７４を
有する更に別のノズルの実施例が５７０で示され
る。ノズル５７０は、同様にノズル５５０につい
て前述した方法で半径方向に偏心された複数個の
離間された開口即ち通路５７６を有する。然し、
ノズル５５０においては、隣接する対をなす対向
位置の通路５７６は、この様な対の通路から半径
方向外方に指向される反応生成ガスの噴流が相互
に衝突しようとする様に反対の周方向に偏心され
ている。この効果は、流動床内の反応生成ガスの
分散作用を促進する事が判つた。

第２１図および第２２図は別のノズル６００を
示し、この場合反応生成ガスの噴流が第１８図乃
至第２０図に関して前述したと同じ方法でガスの
流動床内への更に迅速な分散作用を得るために第
２のガスの噴流と衝突させられる。第２１図にお
いては、ノズル６００は反応生成ガスを出口開口
即ち通路６０４に指向させるための軸方向の通路
６０２を含んでいる。ノズル６００も又、その全
長にわたつて通路６０２と同心状に延在する第２
の通路６０６を有する。この環状の通路６０６
は、第２の組の出口通路６０８と連通している。
各通路６０８は前述の通路６０４の１つ以上と隣
接位置に配置され、通路６０４と６０８の各組
は、更にノズルから半径方向外方の一地点におい
て供給通路６０２と６０６からのガスの衝突作用
を惹起する様に配置されている。前に述べた様
に、通路６０２と６０６の一方は反応生成ガス即
ち被覆作用ガスを供給し、他方は同じ被覆作用ガ
スか、被覆作用ガスの追加成分か、あるいは前述
の泥膏作用ガスと同様な不活性ガスさえも供給で
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明における型式のガス被覆処理室
の軸方向の断面図、第２図は被覆粒子の取出しの
ため被覆処理室の一部を再配置させた第１図と類
似図、第３図は被覆処理室内の粒子の流動床の稀
釈された粒子相域内に反応生成ガスを導入するた
めのノズルの望ましい一実施態様を示す本発明に
よる被覆処理室の図、第４図および第５図はそれ
ぞれ従来技術および本発明によるノズル構造を示
し、更に被覆処理室内の望ましからざる炭素質の
付着即ち沈積を示す図、第６図および第７図は、
それぞれ第４図に示す従来技術のノズル構造およ
び第５図に例示する本発明のノズル構造の使用か
ら生じる被覆粒子の形態を示す拡大図、第８図は
本発明によるガス被覆処理装置の更に別の実施態
様の一部を示す部分断面図、第９図は被覆処理室
から粒子を取出す様にその構成要素を配置させた
第８図のガス被覆処理装置の断面図、第１０図お
よび第１１図は本発明の更に別の実施態様を示
し、第１０図は被覆処理に適す閉鎖形態の装置を
示し第１１図は被覆処理室から被覆粒子を取出す
ための位置の同装置を示す図、第１２図は装置の
構成要素が前記室から被覆粒子の取出し位置にお
かれた本発明の更に別の実施態様を示す図、第１
３図は本発明によるガス被覆処理装置の更に別の
実施態様を示す軸方向断面図、第１４図は第１３
図の線１４−１４に関する断面を示す断面図、第
１５図は泥膏作用ガスをノズルの基部の周囲に半
径方向外方に導入する事により更に強化された室
内の粒子流を示すガス被覆処理室を示す図、第１
６図は本発明による延長されたノズルの別の実施
態様の軸方向の部分断面図、第１７図は第１６図
の線１７−１７に関する軸方向断面図、第１８図
は本発明により構成されたノズルの更に別の実施
態様を示す軸方向の部分断面図、第１９図は第１
８図の線１９−１９に関するノズルの断面図、第
２０図は第１８図のノズルの外形図、第２１図は
本発明により構成されたノズルの更に別の実施態
様の軸方向の部分断面図、および第２２図は第２
１図の線２２−２２に関する断面図である。 １０……被覆処理装置、１２……被覆処理室、
１４……基部（円錐部材）、１６……ノズル、１
８……高密度相、２０……低密度相、２２……底
部取出し用プラグ、２４……垂直壁面、２６……
環状区域、２８……円錐開口、３０……先細環状
面、３２……環状開口、３８……出口、４４，４
６……炭素質物質堆積、１１２……被覆処理室、
１１４……基板、１１６……長形ノズル、１２０
……拡大基部、１２２……開口、１２４……ガ
ス・プローブ、１２６……環状開口、１２８……
ハウジング要素、１３２……シユート、１３４…
…炉体シエル、１３６……被覆処理室ライナー、
１３８……シール装置、１４２……プローブ部、
１４６，１４８，１５０……ガス通路、１５２，
１５４，１５６……長形管、１６０……外側部、
１６２……冷媒供給通路、１６４……冷媒戻し通
路、１６６……入口装置、１６８……出口装置、
１７０……環状アダプタ、１７２……フード、１
７４……円錐面、１７６……環状フランジ、１７
８……環状部、１８０，１８２，１８４……入口
装置、１８６……スリーブ部、１９０……ジヨイ
ント、１９１……プローブ支持スカート、１９２
……引張り棒。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 反応生成ガスに含まれる物質を用いて粒子の
   被覆処理を行うにあたり、基部と側壁部とを有す
   る被覆処理室内で被覆すべき粒子の床を形成し、 被覆処理室の中心部において処理室基部から上
   方に延在するノズルにより反応生成ガスの流れを
   被覆処理室内に導入し、前記反応生成ガスの流れ
   は半径方向外方に指向され、 粒子が被覆処理される時流動床の形態に粒子を
   分散させ且つ懸濁させるため泥膏作用ガスの流れ
   を反応生成ガスの下方に導入する事によつて粒子
   の被覆処理を行う方法において、被覆処理室の基
   部の底部の被覆粒子取出し用開口をふさいでいる
   可動性プラグを動かして前記開口を開放状態に
   し、この開口を通じて被覆粒子を被覆処理室から
   排出させ、そして前記のノズルが、前記の底部か
   ら上方に延在する形で前記プラグ上に取付けられ
   たものである事を特徴とする、反応生成ガスに含
   まれる物質を用いて粒子の被覆処理を行う方法。 ２ 被覆処理室の下部において半径方向外方に、
   前記室の側壁部に沿つて上方向に、流動床の頂部
   で半径方向内方に、更に前記室の軸心部において
   下方向に粒子が流動するように粒子の循環作用を
   流動床内部で促進するため、泥膏作用−ガスの流
   れを処理室内で半径方向外方かつ被覆処理室基部
   に対してほぼ平行に流動させる事を特徴とする特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 更に、第２のガス流を集束させて前記反応生
   成ガス流と衝突させる様導入する事を特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ 前記第２のガス流は不活性ガスからなるもの
   である事を特徴とする特許請求の範囲第３項記載
   の方法。 ５ 前記第２のガス流は反応生成ガスからなるも
   のである事を特徴とする特許請求の範囲第３項記
   載の方法。 ６ 被覆処理すべき粒子を収容するためのほぼ円
   筒状の被覆処理室と、 前記被覆処理室において倒立円錐状の基部を形
   成する下方を向いた頂部を有する倒立円錐状部材
   と、 前記倒立円錐状基部の上方に粒子の流動床を形
   成するため倒立円錐状基部上方に不活性ガスの流
   れを導入するための流通導管と、 前記の粒子床の方に向かつて延在し、その噴出
   口が前記倒立円錐頂部の上方に存在する長形ノズ
   ルとを備え、この長形ノズルが反応生成ガスを前
   記被覆処理室に導入するためのノズルである粒子
   被覆処理装置において、可動性プラグを有し、こ
   のプラグは、閉鎖時には前記倒立円錐状部材の頂
   部の開口を閉鎖しており、この可動性プラグを動
   かすことによつて前記の開口が開放状態になり、
   この開口を通じて被覆粒子を被覆処理室から取出
   すことができ、そして 前記の長形ノズルが、前記の倒立円錐頂部から
   上方に延在する形で前記プラグ上に取付けられて
   いる事を特徴とする、反応生成ガスに含まれる物
   質により粒子を被覆処理するための被覆装置。 ７ 前記のプラグが前記倒立円錐頂部から下方に
   移動し得るものであり、前記開口の最大幅の部分
   の寸法は前記ノズルの最大幅の部分の寸法よりも
   大であり、これによつてノズルの噴出口に生じた
   付着堆積物がノズル自体より大きい寸法のもので
   あつてもこれを前記開口を通じて排出できるよう
   に構成した事を特徴とする特許請求の範囲第６項
   に記載の装置。 ８ 前記円筒状の被覆処理室が高温炉のための反
   応室を構成し、前記ノズルが倒立円錐状基部の頂
   部から上方に、被覆処理室の直径の少なくとも４
   分の１の高さに延在しており、核燃料粒子の高温
   ガスによる被覆処理のために適した装置であるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の装
   置。 ９ 長形のガスプローブが前記の可動性の倒立円
   錐頂部を構成プラグに固定され、かつ反応生成ガ
   スをノズルと、ガス通路を囲繞する冷媒循環シエ
   ルとに流通させるためのガス通路を設け、環状の
   被覆粒子取出し開口と連通するため前記プローブ
   の一部の周囲に環状通路を形成するハウジングと
   を設け、さらにまた環状通路の下部と連通する側
   方の取出し用シユートを設けた事を特徴とする特
   許請求の範囲第６項記載の装置。 １０ 前記ノズルの下部が、泥膏作用ガスを被覆
   処理室内に流通させるための複数個の出口オリフ
   イス有する環状の部材により囲繞され、前記出口
   オリフイスは泥膏作用ガスを、倒立円錐状基部の
   内表面とほぼ平行の流通路内を流動させる様に配
   置される事を特徴とする特許請求の範囲第６項記
   載の装置。 １１ 前記出口オリフイスが半径方向に偏心され
   てキヤリヤーガスを被覆処理室内に渦状運動を伴
   つて流入させるように構成した事を特徴とする特
   許請求の範囲第１０項記載の装置。 １２ 前記ノズルはその上端部が閉鎖され、その
   上端部に隣接するノズルの環状部分は反応生成ガ
   スを被覆処理室内に向けて半径方向に導入するた
   めの複数個の外方に指向され周方向に離間された
   出口通路を有する事を特徴とする特許請求の範囲
   第６項記載の装置。 １３ 前記の周方向に離間された出口通路は上方
   向および外方に或る角度を有する方向に向いたも
   のである事を特徴とする特許請求の範囲第１２項
   記載の装置。 １４ 前記の周方向に離間された出口通路は、反
   応生成ガスを渦状運動を伴つて被覆処理室内に導
   入し得る様に半径方向に偏心されている事を特徴
   とする特許請求の範囲第１３項記載の装置。 １５ 隣接する対をなす前記出口通路は、反応生
   成ガスの噴流を生成させるため半径方向外方に集
   束されている事を特徴とする特許請求の範囲第１
   ２項記載の装置。 １６ １つ以上の通路が前記の複数個の出口通路
   の１つ以上に対して半径方向外方に集束しそして
   周方向に離間された第２の組の出口通路を更に設
   け、前記長形のノズルは、前記第２の組の出口通
   路に対し第２のガスを流通させるための流通導管
   路を有し、そのため前記の反応生成ガス及び第２
   のガスの噴流が前記被覆処理室内にノズルから半
   径方向外方に衝突するように構成した事を特徴と
   する特許請求の範囲第１２項記載の装置。 １７ 前記第２のガスが不活性ガスであることを
   特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の装置。 １８ 前記第２のガスが反応生成ガスであること
   を特徴とする特許請求の範囲第１６項記載の装
   置。