JPS61107343A - 写真感光材料 - Google Patents

写真感光材料

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JPS61107343A
JPS61107343A JP59229108A JP22910884A JPS61107343A JP S61107343 A JPS61107343 A JP S61107343A JP 59229108 A JP59229108 A JP 59229108A JP 22910884 A JP22910884 A JP 22910884A JP S61107343 A JPS61107343 A JP S61107343A
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gelatin
compd
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Tamotsu Suzuki
保 鈴木
Sumio Nishikawa
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    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/91Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
    • G03C1/93Macromolecular substances therefor

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  • Materials Engineering (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は写真材料に関するもので、特vc@水性表面を
有する支持体上に親水性コロイドかな成る写真層をもう
けた写真材料に関するものである。
(従来の技術) 従来より写真用支持体として、その透明性、可撓性等の
秀れている点でポリエチレンテレフタレート、トリ酢酸
セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンラミネート紙等が多(用いられている。
これら高分子物質を支持体に使用する場合、支持体がい
ずれも疎水性の表面を有するため、これら支持体上にゼ
ラチンが主である親水性コロイドからなる写真層を強固
に接着させる事が必要である。このために試みられた従
来技術における、疎水性支持体の表面処理としては、 (1)薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火成処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処埋、オゾン酸化処理
、などの表面活性化処理したのち、直接〒真乳剤を塗布
して接着力を得る方法と、 (2)  一旦これらの表面処理をした後、下塗層を設
けこの上に写真乳剤層金塗布する方法との二法がある。
(例えば、米国特許第2,491,214/号、コ。
76弘、520号、コ、IAtA、7jj号、3゜lμ
3.ダコ/号、3.lA42,331号、3゜弘71.
/り3号、s、tip、zタロ号、英国特許第711,
341号、to4t、ooz号、tり/、弘6り号等)
。これらのうち(2)の方法がより有効であり広く行な
われている。これらの表面処理はいずれも、本来は疎水
性であった支持体表面に、多少共、極性基を作らせる事
、極表面の接着に対してマイナスの要因になる薄層を除
去する1     事、表面の架橋密度を増加させ接着
強度をあげる事などにより表面の接着力を増加させるも
のと思われ、その結果として下塗液中に含有される成分
の極性基との親和力が増加することによるものないし、
接着表面の堅牢度が増加することによるもの等が考えら
れる。
又、下塗層の塗布の方法としても種々の工夫が行なわれ
ており、第一層として支持体によく接着する層を設け、
その上に第二層として親水性の樹脂層を塗布する所謂、
重量法と疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂層
を一層のみ、塗布する単層法とがある。
これらの方法はいずれもよ(研究されており、例えば、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジェン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中
から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始めと
して、ポリエチレンイミン、エポ牛シ樹脂グラフト化ゼ
ラチン、ニトロセルロースなど数多(の樹脂についてそ
の適性が検討されてきた。
特に、疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤との間に
実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗     ′方
法を完全に水系で行なう為に、特に塩化ビニIJデン系
共重合体、ジエン系共重合体の検討が行なわれている。
我々にベースと乳剤層とを接着させる方法としてJジエ
ン系単量体を、その−成分とする共重合体全単独、又は
適当な架橋剤と併用して下塗組成分として有効である事
が見い出して来た。
(例えば特開昭11−//弘/20号、同!係−タIA
oコj号、同!!−6jり≠り号)下塗されたベース面
に、写真乳剤I―との接着力を得る為にゼラチン又はゼ
ラチン誘導体などの親水性物質を塗布する事が良(知ら
れているつところで、下塗液として主溶媒として水を用
いて塗布する場合、塗布液が長時間放置されると、微生
#eyが繁殖し、腐敗によって、下塗液中に浮遊物を生
じて、・・ジキ、異物付着等の塗布面故障を発生する事
があった。
一方下塗された支持体に、帯電防止性を有する事が必要
である。その理由は、下塗された支持体に、ハロゲン化
銀写真乳剤層を塗布する前に、ハンドリングにより、ロ
ーラーとの剥離で帯成ヲ生じると乳剤1轟の塗布ムラを
生じたりする事があるからである。あるいは、乳剤層を
塗布した後でも、裏面あるいは端部に下塗ベース面が残
っている場合には、そこからの放電によりいわゆるスタ
チック故障を生じる事があるからである。
我々は、上記2点の問題点を同時に解決する為に鋭意検
討した結果、本発明に到達したものである。
(発明の目的〕 本発明の目的は、第一に下塗液の腐敗を防止する事であ
る。第二に下塗された支持体面に帯電防止性を付与させ
る事である。第三に写真乳剤層になんらの悪影響を与え
る事の蕪い下塗層を提供する事にある。第四にハシ争、
異物等の塗布面故障を生じる事の無い下塗層を提供する
事にある。
(問題点を解決する為の手段〕 本発明のこれらの目的は疎水性支持体上に水溶性下塗液
及び/あるいは、水分散性下塗液にて、塗設する下塗層
を有する写真感光材料において、その下塗液中に下記物
質のうち少くとも7m類が添加されている事を特徴とす
る写真感光材料にょり達成された。
但し上記一般式におけるRU水累原子又はCnH2n+
I (n=t−,2o )以下、本発明に用いられる構
成要件について詳述する。
1・       本発明に於て、疎水性支持体とは、
例えば、セルロースエステル(特にセルローストリアセ
テート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオ
ネート)、ホリアミド、ポリカーボネート、ポリエステ
ル(特にポリエチレンテレフタレート、ホリー/、4C
−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチ
レン−/、2−ジフェノキシエタン−μ、v′−ジカル
ボキシレート)、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ
エチレン等から成るフィルム及びこれらのフィルムを紙
等他の支持体上に塗布又はラミネートして成る複合フィ
ルムをいう。
中でモ、ポリエチレンテレフタレートフィルムが最も好
ましく用いられ、特にコ軸延伸、熱固定されたポリエチ
レンテレフタレートフィルムが、安定性、強じん性等の
点からも有利に用いられる。
プラスチックフィルム支持体の厚さに特に制限はないが
、tz−sooμ、特に4co−xoop程度のものが
取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。
又、支持体は、透明でもよいし、染料を含んでいてもよ
いし、二酸化チタンの如き顔料を含有するもの、さらに
、二酸化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウ
ム塩等を含有していてもよ%S。
本発明において、疎水性支持体上に設けられる下塗液中
には、必らずしも必要ではないが合成あるいに、天然の
高分子物質が通常台まれる。疎水性支持体に設けられる
下塗層に、一層重上何層あっても良(、本発明で使用さ
れる添加剤(1)〜(3)rsそれらの、どの層に添加
されても良く、添加剤(1)〜(3)ケ高分子物質が合
成・精製される段階で添加されても、下塗液として調製
される段階で添加されてもかまわない。
合成高分子物質としては、ジエン系単量体の共重合体、
塩化ビニリデン系共重合体、アクリル酸エステル系共重
合体、無水マレイン酸の共重合体などが好ましく用いら
れる。合成高分子物質は、水系ラデクスエマルジョン又
は水溶性ポリマーとして用いられ、溶剤が水であるなら
ば、高分子物質の構造は特に限定されない。通常この様
な合成高分子物質は、疎水性支持体に最も近い層に用い
られ、この層の上に直接ノ・ロゲン化銀乳剤層が塗設さ
れるかあるいは、この層に上にゼラチンなどの様な親水
性バインダ一層を設けたのち、ハロゲン化銀乳剤層が設
けられる。
ジエン系単量体の共重合体とに、ブタジェン、イソプレ
ンなど炭素数弘ないし約tのジエン系単量体を重合体の
一成分とする共重合体をいう。
共重合の相手としては、例えば、スチレン、アクリロニ
トリル、アクリルエステル、メタアクリルエステル(メ
チル、エチル、メチル、フロビルナト)、ヒニルエーテ
ル(メチル、エチル、クロロエチル、メチルなと) 、
””ルエステル(たとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニルなど)、クリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート、アリルグリジルエーテル、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ビニルピリジン、tert−ブ
チルアミノエチルメタクリレート、アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル、マレイン酸、マレイン酸半エステル、無水イタコン
酸、無水マレイン酸、アリルアルコール、コーヒドロ牛
ジエチルメタクリレート、−一ヒドロキシエチルアクリ
レート、λ−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、コ
ーヒドロキシプロビルアクリレート、多価アルコールの
モノアリルエーテル、 アクリルアミド、メタクリルアミド、マレインアミド、
ヘーメチロールアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミドとそのエーテル、ビニルインシアネート、ア
リルイソシアネートなど炭素数2ないし約rのビニル又
はビニリデン化合物から選ばれる。これらは乳化重合法
により、好都合に製造され、市販品も入手できろっ又、
この共重合体中のジエン成分の@は約3O−40X量チ
、好ましくは32〜IAO重11%がよい。
又、共重合体中には、アマイド、ヒドロキシ、カルホキ
7などの親水性部位をもつ単量体2o。
/ないし20重1%程度含ませることができる。
その他に、本発明で用いられる高分子物質としでは、ガ
ラス転移温度が一20°Cから≠00Cの範囲にある様
な共重合体又はホモポリマーかあげられる。この様な共
重合体又はポモポリマーの合成に用いられる単量体の例
として框、例えばアクリル酸アミル類、アクリルアミド
類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、ア
リル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビ
ニル異部環化合物、N−ビニル化合物、スチVン類、ク
ロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィン
類、無水マレイン酸類などがある。
これらの具体例としては、アクリル酸類、例えば、アク
リル酸、アクリレート(例えばアクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸オクチル
、λ−ブト牛ジエチルアクリレート、クロルエチルアク
リレート、ヒドロギアエチルアクリレート、シアノエチ
ルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、
ジエチレングリコールモノアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、グリシジルアクリレート
、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレー
ト、など): メタクリル酸類、例えば、メタクリル酸、メタアクリレ
ート(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、エチレングリコールモノメ
タクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート
、2.2=ジメチル−3−ヒドロ−#7プロビルメタク
リレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシ
エチルメタクリレート、フェニルメタクリレートなど)
ニ アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、へ−置換ア
クリルアミド(例えば、メチルアクリルアミド、エチル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、t−オクチル
アクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、
ヒドロ午ジフェニルアクリルアミド、ジメチルアクリル
アミド、ジブチルアクリルアミド、など): メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N −
置換メタクリルアミド(例えば、メチルメタクリルアミ
ド、−1−ブチルメタクリルアミド、を−オクチルメタ
クリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロへ午
シ、ルメタクリルアミド、など): アリル化合物、例えばアリルエステル類(例えハ酢酸ア
リル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラフリン
酸アリル、など)、アリルエキシエタノール、アリルブ
チルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルフェ
ニルエーテルナト:ビニルエーテル類、(例えばメチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニ
ルエーテル、オクチルビニルエーテル、エチルヘキシル
ビニルエーテル、メト午ジエチルビニル再−テル、クロ
ルエチルビニルエーテル、コーエチルブチルエーテル、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコ−
、ルビニルエーテルナト):、ビニルエーテル類、例え
ばビニルアセテート、ビニルオロピオネート、ビニルブ
チレート、ビニルイソブチレート、ビニルジメチルプロ
ピオネート、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレー
ト、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、な
ど: ビニル異部環化合物、例えばN−ビニルオ中サシリドン
、ビニルピリジン、N−ビニルイミグゾール、ヘービニ
ルビロリドン、ヘービニル力ルバゾール、ヘービニルエ
チルアセトアミドなどニースチレン類(例、tばスチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン:トリメチルス
チレン、エチルスチレン、イノプロピルスチレン、ブチ
ルスチレン、へ中シルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、アセト
キシメチルスチレン、メトキシスチレン、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香
酸メチルエステルなど):クロトン酸頑、例えば、クロ
トン酸、クロトン酸アミド、クロトン酸エステル(例え
ばクロトン酸ブチル、など) j         ビニルケトン類(例えば、メチル
ビニルケトン、フェニルビニルケトン、ナト) オレフィン′1JA(例えば、シンクロペンタジェン、
エチレン、フロピレン、t−iテン、l−ペンテン、l
−ヘキセン、l−ヘプテン、/−オクテン。
など]、イタコン酸類(例えばイタコン酸、無水イタコ
ン酸、イタコン酸メチルン、クロトン酸類(例えばクロ
トン酸、りaトン酸メチルン、ソルビン酸、佳皮酸、ノ
ルピン酸メチル、ソルビン酸グリシジル、シトラコン酸
、クロルアクリル酸、メサコン酸、マレイン酸、7マー
ル酸、エタクリル酸、ハロゲン化オレフィン類(たとえ
ば塩化ビニル、塩化ビニリデン、インプレンなどン、不
飽和ニトリル類(たとえばアクリロニトリル、メタクリ
ロニトリルなど)などがある。共重合体は、2種以上の
単量体よりなる共重合体であっても良い。この様な共重
合体の例としては、スチレン/n−ブチルアクリレート
/アクリル酸共重合体、スチレン/n−ブチルアクリレ
ート/グリシジルアクリレート共重合体などがあるう 水溶性ポリマーとして汀、ゼラチン、フタル化セラチン
、マレイン化ゼラチンなどのアシル化スラチン、カルボ
キンメチルセルロース、とドロキシエチルセルロース等
のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル酸もしく
セアミドなど金ゼラチンにグラフトさせたグ°ラフト化
ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシアル
ギルアクリレート、ポリビニルピロリドン、コポリ−ビ
ニルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロース、
アルブミン、アルギン酸゛ンーダ、ポリサッカライド、
寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリルアミ
ド、ポリエチレンイミンアシル化物、あるいはアクリル
酸、メタクリル酸アクリルアミド、N−置換アクリルア
ミド、N−置換メタクリルアミドなどの単独もしくげ共
重合体、あるいにそれらの部分加水分解物など合成もし
くげ天然の親水性高分子化合物が用いられる。これらの
ものは、単独もしくは混合して使用できろう好ましい親
水性ポリマーとしては、ゼラチンあるいはゼラチン誘導
体である。
本発明で使用される添加剤(1)〜(ala、市販品と
して1.C,I社のプロキセルCRL(1)に相当、ソ
マール工業社のツマサイドRS (2) + (alに
相当、武田薬品社のスラオフ72N(2)に相当、パー
マケムアジア社のトップサイドr 00 (21に相当
などを利用する事も出来る。
これらの添加量については特に制限は無いが下塗液中0
.000/%から/゛0%、好ましく汀0゜00/%か
ら/俤の範囲で使用される−0これらは、水、メタノー
ル、エチレンジアミンなどt−溶媒として添加する事が
出来る。
共重合体あるいはホモポリマーの水分散液あるいは水溶
液を、下塗液とし曵塗布する為には該水分散液を更に水
で稀釈し、必要により、架橋剤、界面活性剤、膨潤剤、
マット剤、他の帯電防止剤、電解質等を添加する事が出
来る。
架橋剤としては例えば、米国特許第3,3コj。
217号、同J、Aft、771号、同J、jtAり、
377号、ベルギー特許第4.1,02,22≦号等に
記載のトリアジン系化合物;米国特許第3.2り/、1
24C号、同J、2J2,744c号、フランス特許第
1.Jφ3.6P弘号、英国特許第1,270.171
号に記載のジアルデヒド系化合物;米国特許第3,0り
/、137号、特公昭lA!P−stzro号等に記載
のエポキシ系化合物;米国特許第J 、4弘J 、 t
Art号等に記載のビニル系化合物;米国特許第3,3
りu 、 02u号に記載のアジリジン系化合物;米国
特許3.j弘り、37r号等に記載のエチンンイミン系
化合物;及びメチロール系化合物があるう これらの化合物のうち、ジクロロトリアジン誘導体とし
てげ例えば次式 で示されるジクロロ−8−)リアジン誘導体がある。
膨潤剤としては、特に添加の必要はないが例えばフェノ
ール、レゾルシン等を添加してもよい。
マット剤としては、二酸化ケイ素、ポリメチルメチルメ
タクリレート、ポリスチレン等が用いられる。
その他の帯電防止剤としては、アニオン又はカチオン界
面活性剤、イオネン系ポリマー、特開昭弘ター3272
号等に記載のマレイン酸系共重合体、コロイダルシリカ
(例えば日産化学■製スノーテックス)等を用いること
が出来る。
本発明に係る下塗液は、一般によ(知られた塗布方法、
例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カー
テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコード
法、グラビアコート法、或いは、米国特許第一6112
2μ号明細書に記載のホラ’−を使用するエクストルー
ジョンコート法等により塗布することが出来る。必要に
応じて、米国特許第274179/号、同J101r?
u7号、同2yalryr号、及び同3126121号
明細書、尾崎等著「コーティング工学」2j3頁(/P
77年朝倉書店発行ンなどに記載された方法により2層
以上の1−を同時に塗布することが出来る。
次に本発明の用いられる写真層について簡単に触れる。
写真層のバインダー(親水性有機保護コロイドとしては
、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチンな
どのアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルローズ、
ヒドロギシエチルセルロース等のセルロール誘導体、ア
クリル酸、メタクリル酸もしくげアミドなどをゼラチン
にグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアル
コール、ポリヒドロ午ジアルキルアクリレート、ポリビ
ニルピロリドン、コ、t? +7−ビニルピロリドン−
酢酸ビニル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アル
ギン酸ソーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グ
ラフトでんぷん、ポリアクリル、アミド、ポリエチレン
イミンアシル化弐、あるいはアクリル酸、メタクリル酸
アクリルアミド、へ−置換アクリルアミド、へ−置換メ
タクリルアミドなどの単独もしくは共重合体、あるいは
それらの部分加水分解物など合成もしくは天然の親水性
高分子化合物が用いられる。これらのものは、単独もし
くは混合して使用できる。
バインダーを上記の如き親水性高分子化合物とするもの
であれば、その中に何が添加されているかは本発明にお
いては特に重要でないが、これらの親水性バインダーに
は、・・ロゲン化銀あるいは拡散転写写真法で用いられ
る硫化銀等物理現像核、又ジアゾ化合物などの感材t−
はじめ各種の添加剤、カプラー、乳化重合、ラテックス
ポリマーなどが使用されるのが常である。
本発明の感光性層に用いられる種々の素材、例えば・・
ロゲン化銀粒子、化学増感剤、安定剤、分光増感剤、染
料、ポリマーラテックス、界面活性剤、ゼラチン硬膜剤
、カラーカプラー、退色防止剤、帯電防止剤、マット剤
等に関しては特に制限げなく、例えばリサーチディスク
ロージャー(Research Disclosure
)/ 76巻2−2m3/頁(lり7?年72月)の記
載を参考にすることができる一 本発明には必らずしも必要ではないが、コロナ放電処理
等の表面処理を疎水性支持体上及び/又は高分子物質よ
り成る下塗層上及び/又げ2番目の下塗層の上から行っ
ても良(、その場合にぼ、処理前後の層の接着力が向上
する。
以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、こ
れにより本発明の実施の態様が限定されるものでない。
実施例を記載するに先だって各種の試験方法を説明する
1゛〔フィルム支持体と乳剤層との接着の評価方法〕乳
刑塗布凌、および処理(現像、定着、水洗)後の接■カ
テストげ3〜≠mrn間隔に縦横6本の切り目をナイフ
でいれ、tX夕個のま丁目を作り、ここにテープを付着
させてはがし、剥離した乳剤層のます目の数をかぞえる
。まず目の数がOのものiAクラス/−Jのものt A
/クラス、3〜≠のものiBクラス、これ以下2Cクラ
スとする。
処理液中での接着力テストは、乳剤塗布ベースの末端を
指で強(l1回くり返しこすり、末端より剥離した長さ
が0rILrn金Aクラス、/−2rnrnt A /
クラス、2〜≠mmfBクラス、これ以下全Cクラスと
する。
処理液として現像液ににLDS−7/l(富士写真フィ
ルム■製)を定着液にiLl:’−3Of(富士写真フ
ィルム■製)を用いて皿現像処理方法によってテストし
た。
これらの評価法において、写真材料として使用できるも
のHA−A’クラスである。
〔下塗液の腐敗性のテスト方法〕
下塗液を調製後、−236CrOチRHの培養セル中に
放置し1週間後に微生物の発生の有無と臭気を確認した
(As性の評価方法〕 下塗されたベース表面の表面電気抵抗ヲ23°CAj%
RHにて27時間放置後、同一条件下で測定する。
実施例 に 軸延伸された厚さ/QOμのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に、コロナ放心処理を行ない、下記の組成
より成る第1の下塗液を塗布量が約A CO/ m 2
となる様にワイヤーパーコーターにより塗布し、/lt
00cにて1分間乾燥した。
次に反対面にも、同様にして第1の下塗液を塗布した。
これらの下塗液については、培養セルにて微生物の発生
の有無と臭気を確認した。
次いでこれらのi/下塗層上に/%ゼラチン溶溶液的約
10CC/rIL となる様にワイヤーバーコーターに
より両面塗布し、l弘o ’Cにて7分間乾燥した。こ
のフィルムについて帯電防止性を表面電気砥坑の測定に
より評価したつ 次に2種類の被覆フィルムの一方の側に下記処方(1)
のハロゲン化銀乳剤層を乾沫厚さ1.0μ塗布銀量z、
og7m2になるように塗布した。さらに該・・ロゲン
化銀乳剤層上に下記処方(2)の保護層を塗布し、この
反対側には下記処方(3)に従ってゼラチンパック層を
乾燥厚さ!μになるように塗布し、r種類の写真感材を
作製した。
処方−(1)  ハロゲン化銀乳剤層処方ゼラチン  
1g7m2 塩沃臭化銀 (cg:tOモル% Br:/り、よモル
チ I:0.jモルチ) 塩化金酸  0,11197m2 ポリエチルアクリレートラテックス (米国特許第3j23620号明細 書 実施例−3で用いているのと同 じ)  /、1777m2 増感色素  3−アリル−1−(ロー(/−エチル)−
μメチルー2テトラゾリンー r’r+)fンーエチリデン〕ローダニy   A m
9/ rn 2 カブリ防止剤 弘−ヒドロキ7−IG−メチル−7゜3
、Ja−7一ントラザインデン 30 my / rn 2 ポリオキシエチレン化合物 ゼラチン硬化剤 2−ヒドロキシ−弘、t−ジクロロ−
8−トIJアジン・ナトリウム F4k  4 ” ’n9/ ” 2 W 面f8 性剤p−ドデシルベンゼンスルホン酸ソー
ダ uoダ/m 処方−(2)保護層処方 ゼラチン  /g/rrL2 マット剤  平均粒子径3.0〜a、Oμのポリメチル
メタアクリレート 0.03g7m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸す1  
          .1Jウエ 。、03i/m2ゼ
ラチン硬化剤 コーヒドロキシーμ、t−ジクロロ−s
−トリアジン・ナトリウム 塩0,0/g7m2 処方−(3)パック層処方 ゼラチン  3− g 7m 2 ゼラチン硬化剤 2−ヒトa牛シー≠、ぶ−ジクロロー
S−トリアジン・ナトリウム 塩0,7177m2 * マット剤  0,03ji/m2 ポリマーラテックス** J−09/100gゼラチン *** 染料 0,397m2 *保護層と同じもの ** ハロゲン化銀乳剤層と同じもの *** 下記の染料(1):(21:(31=/ : 
t : iの混合物 SO3K    503K H2 得られたr種類の写真感材について、フィルム支持体と
写真乳剤層との接着の評価を行った。
組成1 組成2 組成3 組成4 組成5 組成6 組成7 組成8 評価結果 腐 敗  (表面電気抵抗) 組成】(ブランク) 発 生  j×10   Ω2(
本発明) 発生無し コx i 6123(本発明ン 
 #   3×1O124(本発明ン  ″   JX
/+7125(本発明)  l   コ×10126(
比 較ン 発 生 弘×1013 7(比 較ン  ’    JXIO”8(比 較) 
  ’    −2X1013なおフィルム支持体と乳
剤層及びバック層との接着は乳剤塗布後、処理後、処理
液中とも組成1〜8の場合について、全て、Aクラスで
あった。
実施例 2 二軸延伸された厚さ100μのポリエチレンテレフタノ
ートフィルム上に、コロナ放電処理を行ない、実施例1
の組成Iの下塗液を塗布機が約tCC/ m  となる
様にワイヤーパーコーターにより塗布し、/110’(
:にて1分間乾燥した。次に反対面にも同様にして第1
の下塗液を塗布した。
次いで、これらの第1下塗層上に下記組成より成る第2
の下塗液を約1occ/rIL2となる様にワイヤーバ
ーコーターにより両面塗布し、l弘00cにて1分間乾
燥した。この第2の下塗液については、培養セルにて微
生物の発生の有無と臭気を確認した。更にこれらのフィ
ルムについて帯電防止性を評価した。
次いで、実施例1と同様に片面にハロゲン化銀乳剤層と
保護層を、反対面にゼラチンバック層を塗布して、フィ
ルム支持体と写真乳剤層との接着を評価した。
組成] 組成2 組成3 組成4 組成5 評価結果 腐敗 As性(表面電気抵抗) 〔ΩJ 組成1(ブランク) 発  生 j×/ 0132(本
発明ン 発生無し コxio” 3(本発明)      グx i t) 114(本
発明)   l   ≦×io”5(本発明)   l
   コ×io”なお、フィルム支持体と乳剤層及びバ
ック層との接着に乳剤塗布後、処理後、処理液中とも組
成1〜5の場合について、全て、Aクラスであった。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 昭和jり年12月t2日 2、発′明の名称  写真感光材料 3、補正をする者 事件との関係       特許出願人性 所  神奈
川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒106東京都港
区西麻布2丁目26番30号4、補正の対象  明細書
の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書を次の通り補正する。
l)り頁/J行目の 「水系ラテクス」に 「水系ラテックス」 と挿入する。
コ)/[頁it行目の 「アシル化ズラチン」を 「アシル化ゼラチン」 と補正する。
3)−〇頁j行目の 「マット剤」を 「マット剤」 と補正する。
II)22頁/j行目の 「ラテックス」を 「ラテックス」 と補正する。
j)λコ頁λO行目の 「ポリマーラテックス」を 「ポリマーチテックス」 と補正する。
4)、2J頁λ行目の 「マット剤」を 「マット剤」 と補正する。
7)コぴ頁コO行目の rAs性」を 「帯電防止性」 と補正する。
r> 3.2頁2行目の メタノール分散液 /CC 」 と補正する。
デ)32頁/≠行目の [ メタノール分散液 ″」 と補正する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 疎水性支持体上に水溶性下塗液及び/あるいは、水分散
    性下塗液にて、塗設する下塗層を有する写真感光材料に
    おいてその下塗液中に下記物質のうち少くとも1種類が
    添加されている事を特徴とする写真感光材料 (1)▲数式、化学式、表等があります▼ (2)▲数式、化学式、表等があります▼ (3)▲数式、化学式、表等があります▼ 但し上記一般式におけるRは水素原子又は C_nH_2_n_+_1(n=1〜20)
JP59229108A 1984-10-31 1984-10-31 写真感光材料 Granted JPS61107343A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63198048A (ja) * 1987-02-13 1988-08-16 Mitsubishi Paper Mills Ltd 写真用支持体の製造方法
US5008150A (en) * 1987-10-02 1991-04-16 Mitsubishi Paper Mills Limited Photographic support with an undercoating layer on a resin coated base sheet
JPH03182740A (ja) * 1989-12-13 1991-08-08 Konica Corp 処理変動性に対して安定なハロゲン化銀写真感光材料

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63198048A (ja) * 1987-02-13 1988-08-16 Mitsubishi Paper Mills Ltd 写真用支持体の製造方法
US5008150A (en) * 1987-10-02 1991-04-16 Mitsubishi Paper Mills Limited Photographic support with an undercoating layer on a resin coated base sheet
JPH03182740A (ja) * 1989-12-13 1991-08-08 Konica Corp 処理変動性に対して安定なハロゲン化銀写真感光材料

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