JPS61107343A - 写真感光材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/93—Macromolecular substances therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は写真材料に関するもので、特vc@水性表面を
有する支持体上に親水性コロイドかな成る写真層をもう
けた写真材料に関するものである。
有する支持体上に親水性コロイドかな成る写真層をもう
けた写真材料に関するものである。
(従来の技術)
従来より写真用支持体として、その透明性、可撓性等の
秀れている点でポリエチレンテレフタレート、トリ酢酸
セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンラミネート紙等が多(用いられている。
秀れている点でポリエチレンテレフタレート、トリ酢酸
セルロース、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリオ
レフィンラミネート紙等が多(用いられている。
これら高分子物質を支持体に使用する場合、支持体がい
ずれも疎水性の表面を有するため、これら支持体上にゼ
ラチンが主である親水性コロイドからなる写真層を強固
に接着させる事が必要である。このために試みられた従
来技術における、疎水性支持体の表面処理としては、 (1)薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火成処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処埋、オゾン酸化処理
、などの表面活性化処理したのち、直接〒真乳剤を塗布
して接着力を得る方法と、 (2) 一旦これらの表面処理をした後、下塗層を設
けこの上に写真乳剤層金塗布する方法との二法がある。
ずれも疎水性の表面を有するため、これら支持体上にゼ
ラチンが主である親水性コロイドからなる写真層を強固
に接着させる事が必要である。このために試みられた従
来技術における、疎水性支持体の表面処理としては、 (1)薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火成処
理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プ
ラズマ処理、レーザー処理、混酸処埋、オゾン酸化処理
、などの表面活性化処理したのち、直接〒真乳剤を塗布
して接着力を得る方法と、 (2) 一旦これらの表面処理をした後、下塗層を設
けこの上に写真乳剤層金塗布する方法との二法がある。
(例えば、米国特許第2,491,214/号、コ。
76弘、520号、コ、IAtA、7jj号、3゜lμ
3.ダコ/号、3.lA42,331号、3゜弘71.
/り3号、s、tip、zタロ号、英国特許第711,
341号、to4t、ooz号、tり/、弘6り号等)
。これらのうち(2)の方法がより有効であり広く行な
われている。これらの表面処理はいずれも、本来は疎水
性であった支持体表面に、多少共、極性基を作らせる事
、極表面の接着に対してマイナスの要因になる薄層を除
去する1 事、表面の架橋密度を増加させ接着
強度をあげる事などにより表面の接着力を増加させるも
のと思われ、その結果として下塗液中に含有される成分
の極性基との親和力が増加することによるものないし、
接着表面の堅牢度が増加することによるもの等が考えら
れる。
3.ダコ/号、3.lA42,331号、3゜弘71.
/り3号、s、tip、zタロ号、英国特許第711,
341号、to4t、ooz号、tり/、弘6り号等)
。これらのうち(2)の方法がより有効であり広く行な
われている。これらの表面処理はいずれも、本来は疎水
性であった支持体表面に、多少共、極性基を作らせる事
、極表面の接着に対してマイナスの要因になる薄層を除
去する1 事、表面の架橋密度を増加させ接着
強度をあげる事などにより表面の接着力を増加させるも
のと思われ、その結果として下塗液中に含有される成分
の極性基との親和力が増加することによるものないし、
接着表面の堅牢度が増加することによるもの等が考えら
れる。
又、下塗層の塗布の方法としても種々の工夫が行なわれ
ており、第一層として支持体によく接着する層を設け、
その上に第二層として親水性の樹脂層を塗布する所謂、
重量法と疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂層
を一層のみ、塗布する単層法とがある。
ており、第一層として支持体によく接着する層を設け、
その上に第二層として親水性の樹脂層を塗布する所謂、
重量法と疎水性基と親水性基との両方を含有する樹脂層
を一層のみ、塗布する単層法とがある。
これらの方法はいずれもよ(研究されており、例えば、
塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジェン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中
から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始めと
して、ポリエチレンイミン、エポ牛シ樹脂グラフト化ゼ
ラチン、ニトロセルロースなど数多(の樹脂についてそ
の適性が検討されてきた。
塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジェン、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などの中
から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体を始めと
して、ポリエチレンイミン、エポ牛シ樹脂グラフト化ゼ
ラチン、ニトロセルロースなど数多(の樹脂についてそ
の適性が検討されてきた。
特に、疎水性支持体と親水性ハロゲン化銀乳剤との間に
実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗 ′方
法を完全に水系で行なう為に、特に塩化ビニIJデン系
共重合体、ジエン系共重合体の検討が行なわれている。
実用に耐え得る充分な接着力を得る下塗 ′方
法を完全に水系で行なう為に、特に塩化ビニIJデン系
共重合体、ジエン系共重合体の検討が行なわれている。
我々にベースと乳剤層とを接着させる方法としてJジエ
ン系単量体を、その−成分とする共重合体全単独、又は
適当な架橋剤と併用して下塗組成分として有効である事
が見い出して来た。
ン系単量体を、その−成分とする共重合体全単独、又は
適当な架橋剤と併用して下塗組成分として有効である事
が見い出して来た。
(例えば特開昭11−//弘/20号、同!係−タIA
oコj号、同!!−6jり≠り号)下塗されたベース面
に、写真乳剤I―との接着力を得る為にゼラチン又はゼ
ラチン誘導体などの親水性物質を塗布する事が良(知ら
れているつところで、下塗液として主溶媒として水を用
いて塗布する場合、塗布液が長時間放置されると、微生
#eyが繁殖し、腐敗によって、下塗液中に浮遊物を生
じて、・・ジキ、異物付着等の塗布面故障を発生する事
があった。
oコj号、同!!−6jり≠り号)下塗されたベース面
に、写真乳剤I―との接着力を得る為にゼラチン又はゼ
ラチン誘導体などの親水性物質を塗布する事が良(知ら
れているつところで、下塗液として主溶媒として水を用
いて塗布する場合、塗布液が長時間放置されると、微生
#eyが繁殖し、腐敗によって、下塗液中に浮遊物を生
じて、・・ジキ、異物付着等の塗布面故障を発生する事
があった。
一方下塗された支持体に、帯電防止性を有する事が必要
である。その理由は、下塗された支持体に、ハロゲン化
銀写真乳剤層を塗布する前に、ハンドリングにより、ロ
ーラーとの剥離で帯成ヲ生じると乳剤1轟の塗布ムラを
生じたりする事があるからである。あるいは、乳剤層を
塗布した後でも、裏面あるいは端部に下塗ベース面が残
っている場合には、そこからの放電によりいわゆるスタ
チック故障を生じる事があるからである。
である。その理由は、下塗された支持体に、ハロゲン化
銀写真乳剤層を塗布する前に、ハンドリングにより、ロ
ーラーとの剥離で帯成ヲ生じると乳剤1轟の塗布ムラを
生じたりする事があるからである。あるいは、乳剤層を
塗布した後でも、裏面あるいは端部に下塗ベース面が残
っている場合には、そこからの放電によりいわゆるスタ
チック故障を生じる事があるからである。
我々は、上記2点の問題点を同時に解決する為に鋭意検
討した結果、本発明に到達したものである。
討した結果、本発明に到達したものである。
(発明の目的〕
本発明の目的は、第一に下塗液の腐敗を防止する事であ
る。第二に下塗された支持体面に帯電防止性を付与させ
る事である。第三に写真乳剤層になんらの悪影響を与え
る事の蕪い下塗層を提供する事にある。第四にハシ争、
異物等の塗布面故障を生じる事の無い下塗層を提供する
事にある。
る。第二に下塗された支持体面に帯電防止性を付与させ
る事である。第三に写真乳剤層になんらの悪影響を与え
る事の蕪い下塗層を提供する事にある。第四にハシ争、
異物等の塗布面故障を生じる事の無い下塗層を提供する
事にある。
(問題点を解決する為の手段〕
本発明のこれらの目的は疎水性支持体上に水溶性下塗液
及び/あるいは、水分散性下塗液にて、塗設する下塗層
を有する写真感光材料において、その下塗液中に下記物
質のうち少くとも7m類が添加されている事を特徴とす
る写真感光材料にょり達成された。
及び/あるいは、水分散性下塗液にて、塗設する下塗層
を有する写真感光材料において、その下塗液中に下記物
質のうち少くとも7m類が添加されている事を特徴とす
る写真感光材料にょり達成された。
但し上記一般式におけるRU水累原子又はCnH2n+
I (n=t−,2o )以下、本発明に用いられる構
成要件について詳述する。
I (n=t−,2o )以下、本発明に用いられる構
成要件について詳述する。
1・ 本発明に於て、疎水性支持体とは、
例えば、セルロースエステル(特にセルローストリアセ
テート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオ
ネート)、ホリアミド、ポリカーボネート、ポリエステ
ル(特にポリエチレンテレフタレート、ホリー/、4C
−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチ
レン−/、2−ジフェノキシエタン−μ、v′−ジカル
ボキシレート)、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ
エチレン等から成るフィルム及びこれらのフィルムを紙
等他の支持体上に塗布又はラミネートして成る複合フィ
ルムをいう。
例えば、セルロースエステル(特にセルローストリアセ
テート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオ
ネート)、ホリアミド、ポリカーボネート、ポリエステ
ル(特にポリエチレンテレフタレート、ホリー/、4C
−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチ
レン−/、2−ジフェノキシエタン−μ、v′−ジカル
ボキシレート)、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ
エチレン等から成るフィルム及びこれらのフィルムを紙
等他の支持体上に塗布又はラミネートして成る複合フィ
ルムをいう。
中でモ、ポリエチレンテレフタレートフィルムが最も好
ましく用いられ、特にコ軸延伸、熱固定されたポリエチ
レンテレフタレートフィルムが、安定性、強じん性等の
点からも有利に用いられる。
ましく用いられ、特にコ軸延伸、熱固定されたポリエチ
レンテレフタレートフィルムが、安定性、強じん性等の
点からも有利に用いられる。
プラスチックフィルム支持体の厚さに特に制限はないが
、tz−sooμ、特に4co−xoop程度のものが
取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。
、tz−sooμ、特に4co−xoop程度のものが
取扱い易さ、汎用性などの点から有利である。
又、支持体は、透明でもよいし、染料を含んでいてもよ
いし、二酸化チタンの如き顔料を含有するもの、さらに
、二酸化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウ
ム塩等を含有していてもよ%S。
いし、二酸化チタンの如き顔料を含有するもの、さらに
、二酸化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウ
ム塩等を含有していてもよ%S。
本発明において、疎水性支持体上に設けられる下塗液中
には、必らずしも必要ではないが合成あるいに、天然の
高分子物質が通常台まれる。疎水性支持体に設けられる
下塗層に、一層重上何層あっても良(、本発明で使用さ
れる添加剤(1)〜(3)rsそれらの、どの層に添加
されても良く、添加剤(1)〜(3)ケ高分子物質が合
成・精製される段階で添加されても、下塗液として調製
される段階で添加されてもかまわない。
には、必らずしも必要ではないが合成あるいに、天然の
高分子物質が通常台まれる。疎水性支持体に設けられる
下塗層に、一層重上何層あっても良(、本発明で使用さ
れる添加剤(1)〜(3)rsそれらの、どの層に添加
されても良く、添加剤(1)〜(3)ケ高分子物質が合
成・精製される段階で添加されても、下塗液として調製
される段階で添加されてもかまわない。
合成高分子物質としては、ジエン系単量体の共重合体、
塩化ビニリデン系共重合体、アクリル酸エステル系共重
合体、無水マレイン酸の共重合体などが好ましく用いら
れる。合成高分子物質は、水系ラデクスエマルジョン又
は水溶性ポリマーとして用いられ、溶剤が水であるなら
ば、高分子物質の構造は特に限定されない。通常この様
な合成高分子物質は、疎水性支持体に最も近い層に用い
られ、この層の上に直接ノ・ロゲン化銀乳剤層が塗設さ
れるかあるいは、この層に上にゼラチンなどの様な親水
性バインダ一層を設けたのち、ハロゲン化銀乳剤層が設
けられる。
塩化ビニリデン系共重合体、アクリル酸エステル系共重
合体、無水マレイン酸の共重合体などが好ましく用いら
れる。合成高分子物質は、水系ラデクスエマルジョン又
は水溶性ポリマーとして用いられ、溶剤が水であるなら
ば、高分子物質の構造は特に限定されない。通常この様
な合成高分子物質は、疎水性支持体に最も近い層に用い
られ、この層の上に直接ノ・ロゲン化銀乳剤層が塗設さ
れるかあるいは、この層に上にゼラチンなどの様な親水
性バインダ一層を設けたのち、ハロゲン化銀乳剤層が設
けられる。
ジエン系単量体の共重合体とに、ブタジェン、イソプレ
ンなど炭素数弘ないし約tのジエン系単量体を重合体の
一成分とする共重合体をいう。
ンなど炭素数弘ないし約tのジエン系単量体を重合体の
一成分とする共重合体をいう。
共重合の相手としては、例えば、スチレン、アクリロニ
トリル、アクリルエステル、メタアクリルエステル(メ
チル、エチル、メチル、フロビルナト)、ヒニルエーテ
ル(メチル、エチル、クロロエチル、メチルなと) 、
””ルエステル(たとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニルなど)、クリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート、アリルグリジルエーテル、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ビニルピリジン、tert−ブ
チルアミノエチルメタクリレート、アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル、マレイン酸、マレイン酸半エステル、無水イタコン
酸、無水マレイン酸、アリルアルコール、コーヒドロ牛
ジエチルメタクリレート、−一ヒドロキシエチルアクリ
レート、λ−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、コ
ーヒドロキシプロビルアクリレート、多価アルコールの
モノアリルエーテル、 アクリルアミド、メタクリルアミド、マレインアミド、
ヘーメチロールアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミドとそのエーテル、ビニルインシアネート、ア
リルイソシアネートなど炭素数2ないし約rのビニル又
はビニリデン化合物から選ばれる。これらは乳化重合法
により、好都合に製造され、市販品も入手できろっ又、
この共重合体中のジエン成分の@は約3O−40X量チ
、好ましくは32〜IAO重11%がよい。
トリル、アクリルエステル、メタアクリルエステル(メ
チル、エチル、メチル、フロビルナト)、ヒニルエーテ
ル(メチル、エチル、クロロエチル、メチルなと) 、
””ルエステル(たとえば酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニルなど)、クリシジルアクリレート、グリシジルメタ
クリレート、アリルグリジルエーテル、ジメチルアミノ
エチルメタクリレート、ビニルピリジン、tert−ブ
チルアミノエチルメタクリレート、アクリル酸、メタク
リル酸、クロトン酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル、マレイン酸、マレイン酸半エステル、無水イタコン
酸、無水マレイン酸、アリルアルコール、コーヒドロ牛
ジエチルメタクリレート、−一ヒドロキシエチルアクリ
レート、λ−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、コ
ーヒドロキシプロビルアクリレート、多価アルコールの
モノアリルエーテル、 アクリルアミド、メタクリルアミド、マレインアミド、
ヘーメチロールアクリルアミド、N−メチロールメタク
リルアミドとそのエーテル、ビニルインシアネート、ア
リルイソシアネートなど炭素数2ないし約rのビニル又
はビニリデン化合物から選ばれる。これらは乳化重合法
により、好都合に製造され、市販品も入手できろっ又、
この共重合体中のジエン成分の@は約3O−40X量チ
、好ましくは32〜IAO重11%がよい。
又、共重合体中には、アマイド、ヒドロキシ、カルホキ
7などの親水性部位をもつ単量体2o。
7などの親水性部位をもつ単量体2o。
/ないし20重1%程度含ませることができる。
その他に、本発明で用いられる高分子物質としでは、ガ
ラス転移温度が一20°Cから≠00Cの範囲にある様
な共重合体又はホモポリマーかあげられる。この様な共
重合体又はポモポリマーの合成に用いられる単量体の例
として框、例えばアクリル酸アミル類、アクリルアミド
類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、ア
リル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビ
ニル異部環化合物、N−ビニル化合物、スチVン類、ク
ロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィン
類、無水マレイン酸類などがある。
ラス転移温度が一20°Cから≠00Cの範囲にある様
な共重合体又はホモポリマーかあげられる。この様な共
重合体又はポモポリマーの合成に用いられる単量体の例
として框、例えばアクリル酸アミル類、アクリルアミド
類、メタクリル酸エステル類、メタクリルアミド類、ア
リル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビ
ニル異部環化合物、N−ビニル化合物、スチVン類、ク
ロトン酸類、イタコン酸類、オレフィン類、オレフィン
類、無水マレイン酸類などがある。
これらの具体例としては、アクリル酸類、例えば、アク
リル酸、アクリレート(例えばアクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸オクチル
、λ−ブト牛ジエチルアクリレート、クロルエチルアク
リレート、ヒドロギアエチルアクリレート、シアノエチ
ルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、
ジエチレングリコールモノアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、グリシジルアクリレート
、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレー
ト、など): メタクリル酸類、例えば、メタクリル酸、メタアクリレ
ート(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、エチレングリコールモノメ
タクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート
、2.2=ジメチル−3−ヒドロ−#7プロビルメタク
リレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシ
エチルメタクリレート、フェニルメタクリレートなど)
ニ アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、へ−置換ア
クリルアミド(例えば、メチルアクリルアミド、エチル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、t−オクチル
アクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、
ヒドロ午ジフェニルアクリルアミド、ジメチルアクリル
アミド、ジブチルアクリルアミド、など): メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N −
置換メタクリルアミド(例えば、メチルメタクリルアミ
ド、−1−ブチルメタクリルアミド、を−オクチルメタ
クリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロへ午
シ、ルメタクリルアミド、など): アリル化合物、例えばアリルエステル類(例えハ酢酸ア
リル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラフリン
酸アリル、など)、アリルエキシエタノール、アリルブ
チルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルフェ
ニルエーテルナト:ビニルエーテル類、(例えばメチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニ
ルエーテル、オクチルビニルエーテル、エチルヘキシル
ビニルエーテル、メト午ジエチルビニル再−テル、クロ
ルエチルビニルエーテル、コーエチルブチルエーテル、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコ−
、ルビニルエーテルナト):、ビニルエーテル類、例え
ばビニルアセテート、ビニルオロピオネート、ビニルブ
チレート、ビニルイソブチレート、ビニルジメチルプロ
ピオネート、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレー
ト、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、な
ど: ビニル異部環化合物、例えばN−ビニルオ中サシリドン
、ビニルピリジン、N−ビニルイミグゾール、ヘービニ
ルビロリドン、ヘービニル力ルバゾール、ヘービニルエ
チルアセトアミドなどニースチレン類(例、tばスチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン:トリメチルス
チレン、エチルスチレン、イノプロピルスチレン、ブチ
ルスチレン、へ中シルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、アセト
キシメチルスチレン、メトキシスチレン、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香
酸メチルエステルなど):クロトン酸頑、例えば、クロ
トン酸、クロトン酸アミド、クロトン酸エステル(例え
ばクロトン酸ブチル、など) j ビニルケトン類(例えば、メチル
ビニルケトン、フェニルビニルケトン、ナト) オレフィン′1JA(例えば、シンクロペンタジェン、
エチレン、フロピレン、t−iテン、l−ペンテン、l
−ヘキセン、l−ヘプテン、/−オクテン。
リル酸、アクリレート(例えばアクリル酸エチル、アク
リル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸オクチル
、λ−ブト牛ジエチルアクリレート、クロルエチルアク
リレート、ヒドロギアエチルアクリレート、シアノエチ
ルアクリレート、ジメチルアミノエチルアクリレート、
ジエチレングリコールモノアクリレート、トリメチロー
ルプロパンモノアクリレート、グリシジルアクリレート
、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレー
ト、など): メタクリル酸類、例えば、メタクリル酸、メタアクリレ
ート(例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレ
ート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリ
レート、シアノアセトキシエチルメタクリレート、クロ
ルベンジルメタクリレート、エチレングリコールモノメ
タクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレート
、2.2=ジメチル−3−ヒドロ−#7プロビルメタク
リレート、ジエチレングリコールモノメタクリレート、
グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノフェノキシ
エチルメタクリレート、フェニルメタクリレートなど)
ニ アクリルアミド類、例えばアクリルアミド、へ−置換ア
クリルアミド(例えば、メチルアクリルアミド、エチル
アクリルアミド、ブチルアクリルアミド、t−オクチル
アクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、
ヒドロ午ジフェニルアクリルアミド、ジメチルアクリル
アミド、ジブチルアクリルアミド、など): メタクリルアミド類、例えばメタクリルアミド、N −
置換メタクリルアミド(例えば、メチルメタクリルアミ
ド、−1−ブチルメタクリルアミド、を−オクチルメタ
クリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シクロへ午
シ、ルメタクリルアミド、など): アリル化合物、例えばアリルエステル類(例えハ酢酸ア
リル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラフリン
酸アリル、など)、アリルエキシエタノール、アリルブ
チルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルフェ
ニルエーテルナト:ビニルエーテル類、(例えばメチル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニ
ルエーテル、オクチルビニルエーテル、エチルヘキシル
ビニルエーテル、メト午ジエチルビニル再−テル、クロ
ルエチルビニルエーテル、コーエチルブチルエーテル、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコ−
、ルビニルエーテルナト):、ビニルエーテル類、例え
ばビニルアセテート、ビニルオロピオネート、ビニルブ
チレート、ビニルイソブチレート、ビニルジメチルプロ
ピオネート、ビニルエチルブチレート、ビニルバレレー
ト、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、な
ど: ビニル異部環化合物、例えばN−ビニルオ中サシリドン
、ビニルピリジン、N−ビニルイミグゾール、ヘービニ
ルビロリドン、ヘービニル力ルバゾール、ヘービニルエ
チルアセトアミドなどニースチレン類(例、tばスチレ
ン、メチルスチレン、ジメチルスチレン:トリメチルス
チレン、エチルスチレン、イノプロピルスチレン、ブチ
ルスチレン、へ中シルスチレン、シクロヘキシルスチレ
ン、ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、アセト
キシメチルスチレン、メトキシスチレン、クロルスチレ
ン、ジクロルスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香
酸メチルエステルなど):クロトン酸頑、例えば、クロ
トン酸、クロトン酸アミド、クロトン酸エステル(例え
ばクロトン酸ブチル、など) j ビニルケトン類(例えば、メチル
ビニルケトン、フェニルビニルケトン、ナト) オレフィン′1JA(例えば、シンクロペンタジェン、
エチレン、フロピレン、t−iテン、l−ペンテン、l
−ヘキセン、l−ヘプテン、/−オクテン。
など]、イタコン酸類(例えばイタコン酸、無水イタコ
ン酸、イタコン酸メチルン、クロトン酸類(例えばクロ
トン酸、りaトン酸メチルン、ソルビン酸、佳皮酸、ノ
ルピン酸メチル、ソルビン酸グリシジル、シトラコン酸
、クロルアクリル酸、メサコン酸、マレイン酸、7マー
ル酸、エタクリル酸、ハロゲン化オレフィン類(たとえ
ば塩化ビニル、塩化ビニリデン、インプレンなどン、不
飽和ニトリル類(たとえばアクリロニトリル、メタクリ
ロニトリルなど)などがある。共重合体は、2種以上の
単量体よりなる共重合体であっても良い。この様な共重
合体の例としては、スチレン/n−ブチルアクリレート
/アクリル酸共重合体、スチレン/n−ブチルアクリレ
ート/グリシジルアクリレート共重合体などがあるう 水溶性ポリマーとして汀、ゼラチン、フタル化セラチン
、マレイン化ゼラチンなどのアシル化スラチン、カルボ
キンメチルセルロース、とドロキシエチルセルロース等
のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル酸もしく
セアミドなど金ゼラチンにグラフトさせたグ°ラフト化
ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシアル
ギルアクリレート、ポリビニルピロリドン、コポリ−ビ
ニルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロース、
アルブミン、アルギン酸゛ンーダ、ポリサッカライド、
寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリルアミ
ド、ポリエチレンイミンアシル化物、あるいはアクリル
酸、メタクリル酸アクリルアミド、N−置換アクリルア
ミド、N−置換メタクリルアミドなどの単独もしくげ共
重合体、あるいにそれらの部分加水分解物など合成もし
くげ天然の親水性高分子化合物が用いられる。これらの
ものは、単独もしくは混合して使用できろう好ましい親
水性ポリマーとしては、ゼラチンあるいはゼラチン誘導
体である。
ン酸、イタコン酸メチルン、クロトン酸類(例えばクロ
トン酸、りaトン酸メチルン、ソルビン酸、佳皮酸、ノ
ルピン酸メチル、ソルビン酸グリシジル、シトラコン酸
、クロルアクリル酸、メサコン酸、マレイン酸、7マー
ル酸、エタクリル酸、ハロゲン化オレフィン類(たとえ
ば塩化ビニル、塩化ビニリデン、インプレンなどン、不
飽和ニトリル類(たとえばアクリロニトリル、メタクリ
ロニトリルなど)などがある。共重合体は、2種以上の
単量体よりなる共重合体であっても良い。この様な共重
合体の例としては、スチレン/n−ブチルアクリレート
/アクリル酸共重合体、スチレン/n−ブチルアクリレ
ート/グリシジルアクリレート共重合体などがあるう 水溶性ポリマーとして汀、ゼラチン、フタル化セラチン
、マレイン化ゼラチンなどのアシル化スラチン、カルボ
キンメチルセルロース、とドロキシエチルセルロース等
のセルロース誘導体、アクリル酸、メタクリル酸もしく
セアミドなど金ゼラチンにグラフトさせたグ°ラフト化
ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリヒドロキシアル
ギルアクリレート、ポリビニルピロリドン、コポリ−ビ
ニルピロリドン−酢酸ビニル、カゼイン、アガロース、
アルブミン、アルギン酸゛ンーダ、ポリサッカライド、
寒天、でんぷん、グラフトでんぷん、ポリアクリルアミ
ド、ポリエチレンイミンアシル化物、あるいはアクリル
酸、メタクリル酸アクリルアミド、N−置換アクリルア
ミド、N−置換メタクリルアミドなどの単独もしくげ共
重合体、あるいにそれらの部分加水分解物など合成もし
くげ天然の親水性高分子化合物が用いられる。これらの
ものは、単独もしくは混合して使用できろう好ましい親
水性ポリマーとしては、ゼラチンあるいはゼラチン誘導
体である。
本発明で使用される添加剤(1)〜(ala、市販品と
して1.C,I社のプロキセルCRL(1)に相当、ソ
マール工業社のツマサイドRS (2) + (alに
相当、武田薬品社のスラオフ72N(2)に相当、パー
マケムアジア社のトップサイドr 00 (21に相当
などを利用する事も出来る。
して1.C,I社のプロキセルCRL(1)に相当、ソ
マール工業社のツマサイドRS (2) + (alに
相当、武田薬品社のスラオフ72N(2)に相当、パー
マケムアジア社のトップサイドr 00 (21に相当
などを利用する事も出来る。
これらの添加量については特に制限は無いが下塗液中0
.000/%から/゛0%、好ましく汀0゜00/%か
ら/俤の範囲で使用される−0これらは、水、メタノー
ル、エチレンジアミンなどt−溶媒として添加する事が
出来る。
.000/%から/゛0%、好ましく汀0゜00/%か
ら/俤の範囲で使用される−0これらは、水、メタノー
ル、エチレンジアミンなどt−溶媒として添加する事が
出来る。
共重合体あるいはホモポリマーの水分散液あるいは水溶
液を、下塗液とし曵塗布する為には該水分散液を更に水
で稀釈し、必要により、架橋剤、界面活性剤、膨潤剤、
マット剤、他の帯電防止剤、電解質等を添加する事が出
来る。
液を、下塗液とし曵塗布する為には該水分散液を更に水
で稀釈し、必要により、架橋剤、界面活性剤、膨潤剤、
マット剤、他の帯電防止剤、電解質等を添加する事が出
来る。
架橋剤としては例えば、米国特許第3,3コj。
217号、同J、Aft、771号、同J、jtAり、
377号、ベルギー特許第4.1,02,22≦号等に
記載のトリアジン系化合物;米国特許第3.2り/、1
24C号、同J、2J2,744c号、フランス特許第
1.Jφ3.6P弘号、英国特許第1,270.171
号に記載のジアルデヒド系化合物;米国特許第3,0り
/、137号、特公昭lA!P−stzro号等に記載
のエポキシ系化合物;米国特許第J 、4弘J 、 t
Art号等に記載のビニル系化合物;米国特許第3,3
りu 、 02u号に記載のアジリジン系化合物;米国
特許3.j弘り、37r号等に記載のエチンンイミン系
化合物;及びメチロール系化合物があるう これらの化合物のうち、ジクロロトリアジン誘導体とし
てげ例えば次式 で示されるジクロロ−8−)リアジン誘導体がある。
377号、ベルギー特許第4.1,02,22≦号等に
記載のトリアジン系化合物;米国特許第3.2り/、1
24C号、同J、2J2,744c号、フランス特許第
1.Jφ3.6P弘号、英国特許第1,270.171
号に記載のジアルデヒド系化合物;米国特許第3,0り
/、137号、特公昭lA!P−stzro号等に記載
のエポキシ系化合物;米国特許第J 、4弘J 、 t
Art号等に記載のビニル系化合物;米国特許第3,3
りu 、 02u号に記載のアジリジン系化合物;米国
特許3.j弘り、37r号等に記載のエチンンイミン系
化合物;及びメチロール系化合物があるう これらの化合物のうち、ジクロロトリアジン誘導体とし
てげ例えば次式 で示されるジクロロ−8−)リアジン誘導体がある。
膨潤剤としては、特に添加の必要はないが例えばフェノ
ール、レゾルシン等を添加してもよい。
ール、レゾルシン等を添加してもよい。
マット剤としては、二酸化ケイ素、ポリメチルメチルメ
タクリレート、ポリスチレン等が用いられる。
タクリレート、ポリスチレン等が用いられる。
その他の帯電防止剤としては、アニオン又はカチオン界
面活性剤、イオネン系ポリマー、特開昭弘ター3272
号等に記載のマレイン酸系共重合体、コロイダルシリカ
(例えば日産化学■製スノーテックス)等を用いること
が出来る。
面活性剤、イオネン系ポリマー、特開昭弘ター3272
号等に記載のマレイン酸系共重合体、コロイダルシリカ
(例えば日産化学■製スノーテックス)等を用いること
が出来る。
本発明に係る下塗液は、一般によ(知られた塗布方法、
例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カー
テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコード
法、グラビアコート法、或いは、米国特許第一6112
2μ号明細書に記載のホラ’−を使用するエクストルー
ジョンコート法等により塗布することが出来る。必要に
応じて、米国特許第274179/号、同J101r?
u7号、同2yalryr号、及び同3126121号
明細書、尾崎等著「コーティング工学」2j3頁(/P
77年朝倉書店発行ンなどに記載された方法により2層
以上の1−を同時に塗布することが出来る。
例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カー
テンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコード
法、グラビアコート法、或いは、米国特許第一6112
2μ号明細書に記載のホラ’−を使用するエクストルー
ジョンコート法等により塗布することが出来る。必要に
応じて、米国特許第274179/号、同J101r?
u7号、同2yalryr号、及び同3126121号
明細書、尾崎等著「コーティング工学」2j3頁(/P
77年朝倉書店発行ンなどに記載された方法により2層
以上の1−を同時に塗布することが出来る。
次に本発明の用いられる写真層について簡単に触れる。
写真層のバインダー(親水性有機保護コロイドとしては
、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチンな
どのアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルローズ、
ヒドロギシエチルセルロース等のセルロール誘導体、ア
クリル酸、メタクリル酸もしくげアミドなどをゼラチン
にグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアル
コール、ポリヒドロ午ジアルキルアクリレート、ポリビ
ニルピロリドン、コ、t? +7−ビニルピロリドン−
酢酸ビニル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アル
ギン酸ソーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グ
ラフトでんぷん、ポリアクリル、アミド、ポリエチレン
イミンアシル化弐、あるいはアクリル酸、メタクリル酸
アクリルアミド、へ−置換アクリルアミド、へ−置換メ
タクリルアミドなどの単独もしくは共重合体、あるいは
それらの部分加水分解物など合成もしくは天然の親水性
高分子化合物が用いられる。これらのものは、単独もし
くは混合して使用できる。
、ゼラチン、フタル化ゼラチン、マレイン化ゼラチンな
どのアシル化ゼラチン、カルボキシメチルセルローズ、
ヒドロギシエチルセルロース等のセルロール誘導体、ア
クリル酸、メタクリル酸もしくげアミドなどをゼラチン
にグラフトさせたグラフト化ゼラチン、ポリビニルアル
コール、ポリヒドロ午ジアルキルアクリレート、ポリビ
ニルピロリドン、コ、t? +7−ビニルピロリドン−
酢酸ビニル、カゼイン、アガロース、アルブミン、アル
ギン酸ソーダ、ポリサッカライド、寒天、でんぷん、グ
ラフトでんぷん、ポリアクリル、アミド、ポリエチレン
イミンアシル化弐、あるいはアクリル酸、メタクリル酸
アクリルアミド、へ−置換アクリルアミド、へ−置換メ
タクリルアミドなどの単独もしくは共重合体、あるいは
それらの部分加水分解物など合成もしくは天然の親水性
高分子化合物が用いられる。これらのものは、単独もし
くは混合して使用できる。
バインダーを上記の如き親水性高分子化合物とするもの
であれば、その中に何が添加されているかは本発明にお
いては特に重要でないが、これらの親水性バインダーに
は、・・ロゲン化銀あるいは拡散転写写真法で用いられ
る硫化銀等物理現像核、又ジアゾ化合物などの感材t−
はじめ各種の添加剤、カプラー、乳化重合、ラテックス
ポリマーなどが使用されるのが常である。
であれば、その中に何が添加されているかは本発明にお
いては特に重要でないが、これらの親水性バインダーに
は、・・ロゲン化銀あるいは拡散転写写真法で用いられ
る硫化銀等物理現像核、又ジアゾ化合物などの感材t−
はじめ各種の添加剤、カプラー、乳化重合、ラテックス
ポリマーなどが使用されるのが常である。
本発明の感光性層に用いられる種々の素材、例えば・・
ロゲン化銀粒子、化学増感剤、安定剤、分光増感剤、染
料、ポリマーラテックス、界面活性剤、ゼラチン硬膜剤
、カラーカプラー、退色防止剤、帯電防止剤、マット剤
等に関しては特に制限げなく、例えばリサーチディスク
ロージャー(Research Disclosure
)/ 76巻2−2m3/頁(lり7?年72月)の記
載を参考にすることができる一 本発明には必らずしも必要ではないが、コロナ放電処理
等の表面処理を疎水性支持体上及び/又は高分子物質よ
り成る下塗層上及び/又げ2番目の下塗層の上から行っ
ても良(、その場合にぼ、処理前後の層の接着力が向上
する。
ロゲン化銀粒子、化学増感剤、安定剤、分光増感剤、染
料、ポリマーラテックス、界面活性剤、ゼラチン硬膜剤
、カラーカプラー、退色防止剤、帯電防止剤、マット剤
等に関しては特に制限げなく、例えばリサーチディスク
ロージャー(Research Disclosure
)/ 76巻2−2m3/頁(lり7?年72月)の記
載を参考にすることができる一 本発明には必らずしも必要ではないが、コロナ放電処理
等の表面処理を疎水性支持体上及び/又は高分子物質よ
り成る下塗層上及び/又げ2番目の下塗層の上から行っ
ても良(、その場合にぼ、処理前後の層の接着力が向上
する。
以下本発明を実施例により更に具体的に説明するが、こ
れにより本発明の実施の態様が限定されるものでない。
れにより本発明の実施の態様が限定されるものでない。
実施例を記載するに先だって各種の試験方法を説明する
。
。
1゛〔フィルム支持体と乳剤層との接着の評価方法〕乳
刑塗布凌、および処理(現像、定着、水洗)後の接■カ
テストげ3〜≠mrn間隔に縦横6本の切り目をナイフ
でいれ、tX夕個のま丁目を作り、ここにテープを付着
させてはがし、剥離した乳剤層のます目の数をかぞえる
。まず目の数がOのものiAクラス/−Jのものt A
/クラス、3〜≠のものiBクラス、これ以下2Cクラ
スとする。
刑塗布凌、および処理(現像、定着、水洗)後の接■カ
テストげ3〜≠mrn間隔に縦横6本の切り目をナイフ
でいれ、tX夕個のま丁目を作り、ここにテープを付着
させてはがし、剥離した乳剤層のます目の数をかぞえる
。まず目の数がOのものiAクラス/−Jのものt A
/クラス、3〜≠のものiBクラス、これ以下2Cクラ
スとする。
処理液中での接着力テストは、乳剤塗布ベースの末端を
指で強(l1回くり返しこすり、末端より剥離した長さ
が0rILrn金Aクラス、/−2rnrnt A /
クラス、2〜≠mmfBクラス、これ以下全Cクラスと
する。
指で強(l1回くり返しこすり、末端より剥離した長さ
が0rILrn金Aクラス、/−2rnrnt A /
クラス、2〜≠mmfBクラス、これ以下全Cクラスと
する。
処理液として現像液ににLDS−7/l(富士写真フィ
ルム■製)を定着液にiLl:’−3Of(富士写真フ
ィルム■製)を用いて皿現像処理方法によってテストし
た。
ルム■製)を定着液にiLl:’−3Of(富士写真フ
ィルム■製)を用いて皿現像処理方法によってテストし
た。
これらの評価法において、写真材料として使用できるも
のHA−A’クラスである。
のHA−A’クラスである。
下塗液を調製後、−236CrOチRHの培養セル中に
放置し1週間後に微生物の発生の有無と臭気を確認した
。
放置し1週間後に微生物の発生の有無と臭気を確認した
。
(As性の評価方法〕
下塗されたベース表面の表面電気抵抗ヲ23°CAj%
RHにて27時間放置後、同一条件下で測定する。
RHにて27時間放置後、同一条件下で測定する。
実施例 に
軸延伸された厚さ/QOμのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に、コロナ放心処理を行ない、下記の組成
より成る第1の下塗液を塗布量が約A CO/ m 2
となる様にワイヤーパーコーターにより塗布し、/lt
00cにて1分間乾燥した。
トフィルム上に、コロナ放心処理を行ない、下記の組成
より成る第1の下塗液を塗布量が約A CO/ m 2
となる様にワイヤーパーコーターにより塗布し、/lt
00cにて1分間乾燥した。
次に反対面にも、同様にして第1の下塗液を塗布した。
これらの下塗液については、培養セルにて微生物の発生
の有無と臭気を確認した。
の有無と臭気を確認した。
次いでこれらのi/下塗層上に/%ゼラチン溶溶液的約
10CC/rIL となる様にワイヤーバーコーターに
より両面塗布し、l弘o ’Cにて7分間乾燥した。こ
のフィルムについて帯電防止性を表面電気砥坑の測定に
より評価したつ 次に2種類の被覆フィルムの一方の側に下記処方(1)
のハロゲン化銀乳剤層を乾沫厚さ1.0μ塗布銀量z、
og7m2になるように塗布した。さらに該・・ロゲン
化銀乳剤層上に下記処方(2)の保護層を塗布し、この
反対側には下記処方(3)に従ってゼラチンパック層を
乾燥厚さ!μになるように塗布し、r種類の写真感材を
作製した。
10CC/rIL となる様にワイヤーバーコーターに
より両面塗布し、l弘o ’Cにて7分間乾燥した。こ
のフィルムについて帯電防止性を表面電気砥坑の測定に
より評価したつ 次に2種類の被覆フィルムの一方の側に下記処方(1)
のハロゲン化銀乳剤層を乾沫厚さ1.0μ塗布銀量z、
og7m2になるように塗布した。さらに該・・ロゲン
化銀乳剤層上に下記処方(2)の保護層を塗布し、この
反対側には下記処方(3)に従ってゼラチンパック層を
乾燥厚さ!μになるように塗布し、r種類の写真感材を
作製した。
処方−(1) ハロゲン化銀乳剤層処方ゼラチン
1g7m2 塩沃臭化銀 (cg:tOモル% Br:/り、よモル
チ I:0.jモルチ) 塩化金酸 0,11197m2 ポリエチルアクリレートラテックス (米国特許第3j23620号明細 書 実施例−3で用いているのと同 じ) /、1777m2 増感色素 3−アリル−1−(ロー(/−エチル)−
μメチルー2テトラゾリンー r’r+)fンーエチリデン〕ローダニy A m
9/ rn 2 カブリ防止剤 弘−ヒドロキ7−IG−メチル−7゜3
、Ja−7一ントラザインデン 30 my / rn 2 ポリオキシエチレン化合物 ゼラチン硬化剤 2−ヒドロキシ−弘、t−ジクロロ−
8−トIJアジン・ナトリウム F4k 4 ” ’n9/ ” 2 W 面f8 性剤p−ドデシルベンゼンスルホン酸ソー
ダ uoダ/m 処方−(2)保護層処方 ゼラチン /g/rrL2 マット剤 平均粒子径3.0〜a、Oμのポリメチル
メタアクリレート 0.03g7m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸す1
.1Jウエ 。、03i/m2ゼ
ラチン硬化剤 コーヒドロキシーμ、t−ジクロロ−s
−トリアジン・ナトリウム 塩0,0/g7m2 処方−(3)パック層処方 ゼラチン 3− g 7m 2 ゼラチン硬化剤 2−ヒトa牛シー≠、ぶ−ジクロロー
S−トリアジン・ナトリウム 塩0,7177m2 * マット剤 0,03ji/m2 ポリマーラテックス** J−09/100gゼラチン *** 染料 0,397m2 *保護層と同じもの ** ハロゲン化銀乳剤層と同じもの *** 下記の染料(1):(21:(31=/ :
t : iの混合物 SO3K 503K H2 得られたr種類の写真感材について、フィルム支持体と
写真乳剤層との接着の評価を行った。
1g7m2 塩沃臭化銀 (cg:tOモル% Br:/り、よモル
チ I:0.jモルチ) 塩化金酸 0,11197m2 ポリエチルアクリレートラテックス (米国特許第3j23620号明細 書 実施例−3で用いているのと同 じ) /、1777m2 増感色素 3−アリル−1−(ロー(/−エチル)−
μメチルー2テトラゾリンー r’r+)fンーエチリデン〕ローダニy A m
9/ rn 2 カブリ防止剤 弘−ヒドロキ7−IG−メチル−7゜3
、Ja−7一ントラザインデン 30 my / rn 2 ポリオキシエチレン化合物 ゼラチン硬化剤 2−ヒドロキシ−弘、t−ジクロロ−
8−トIJアジン・ナトリウム F4k 4 ” ’n9/ ” 2 W 面f8 性剤p−ドデシルベンゼンスルホン酸ソー
ダ uoダ/m 処方−(2)保護層処方 ゼラチン /g/rrL2 マット剤 平均粒子径3.0〜a、Oμのポリメチル
メタアクリレート 0.03g7m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸す1
.1Jウエ 。、03i/m2ゼ
ラチン硬化剤 コーヒドロキシーμ、t−ジクロロ−s
−トリアジン・ナトリウム 塩0,0/g7m2 処方−(3)パック層処方 ゼラチン 3− g 7m 2 ゼラチン硬化剤 2−ヒトa牛シー≠、ぶ−ジクロロー
S−トリアジン・ナトリウム 塩0,7177m2 * マット剤 0,03ji/m2 ポリマーラテックス** J−09/100gゼラチン *** 染料 0,397m2 *保護層と同じもの ** ハロゲン化銀乳剤層と同じもの *** 下記の染料(1):(21:(31=/ :
t : iの混合物 SO3K 503K H2 得られたr種類の写真感材について、フィルム支持体と
写真乳剤層との接着の評価を行った。
組成1
組成2
組成3
組成4
組成5
組成6
組成7
組成8
評価結果
腐 敗 (表面電気抵抗)
組成】(ブランク) 発 生 j×10 Ω2(
本発明) 発生無し コx i 6123(本発明ン
# 3×1O124(本発明ン ″ JX
/+7125(本発明) l コ×10126(
比 較ン 発 生 弘×1013 7(比 較ン ’ JXIO”8(比 較)
’ −2X1013なおフィルム支持体と乳
剤層及びバック層との接着は乳剤塗布後、処理後、処理
液中とも組成1〜8の場合について、全て、Aクラスで
あった。
本発明) 発生無し コx i 6123(本発明ン
# 3×1O124(本発明ン ″ JX
/+7125(本発明) l コ×10126(
比 較ン 発 生 弘×1013 7(比 較ン ’ JXIO”8(比 較)
’ −2X1013なおフィルム支持体と乳
剤層及びバック層との接着は乳剤塗布後、処理後、処理
液中とも組成1〜8の場合について、全て、Aクラスで
あった。
実施例 2
二軸延伸された厚さ100μのポリエチレンテレフタノ
ートフィルム上に、コロナ放電処理を行ない、実施例1
の組成Iの下塗液を塗布機が約tCC/ m となる
様にワイヤーパーコーターにより塗布し、/110’(
:にて1分間乾燥した。次に反対面にも同様にして第1
の下塗液を塗布した。
ートフィルム上に、コロナ放電処理を行ない、実施例1
の組成Iの下塗液を塗布機が約tCC/ m となる
様にワイヤーパーコーターにより塗布し、/110’(
:にて1分間乾燥した。次に反対面にも同様にして第1
の下塗液を塗布した。
次いで、これらの第1下塗層上に下記組成より成る第2
の下塗液を約1occ/rIL2となる様にワイヤーバ
ーコーターにより両面塗布し、l弘00cにて1分間乾
燥した。この第2の下塗液については、培養セルにて微
生物の発生の有無と臭気を確認した。更にこれらのフィ
ルムについて帯電防止性を評価した。
の下塗液を約1occ/rIL2となる様にワイヤーバ
ーコーターにより両面塗布し、l弘00cにて1分間乾
燥した。この第2の下塗液については、培養セルにて微
生物の発生の有無と臭気を確認した。更にこれらのフィ
ルムについて帯電防止性を評価した。
次いで、実施例1と同様に片面にハロゲン化銀乳剤層と
保護層を、反対面にゼラチンバック層を塗布して、フィ
ルム支持体と写真乳剤層との接着を評価した。
保護層を、反対面にゼラチンバック層を塗布して、フィ
ルム支持体と写真乳剤層との接着を評価した。
組成]
組成2
組成3
組成4
組成5
評価結果
腐敗 As性(表面電気抵抗)
〔ΩJ
組成1(ブランク) 発 生 j×/ 0132(本
発明ン 発生無し コxio” 3(本発明) グx i t) 114(本
発明) l ≦×io”5(本発明) l
コ×io”なお、フィルム支持体と乳剤層及びバ
ック層との接着に乳剤塗布後、処理後、処理液中とも組
成1〜5の場合について、全て、Aクラスであった。
発明ン 発生無し コxio” 3(本発明) グx i t) 114(本
発明) l ≦×io”5(本発明) l
コ×io”なお、フィルム支持体と乳剤層及びバ
ック層との接着に乳剤塗布後、処理後、処理液中とも組
成1〜5の場合について、全て、Aクラスであった。
特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書
昭和jり年12月t2日
2、発′明の名称 写真感光材料
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人性 所 神奈
川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒106東京都港
区西麻布2丁目26番30号4、補正の対象 明細書
の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書を次の通り補正する。
川県南足柄市中沼210番地連絡先 〒106東京都港
区西麻布2丁目26番30号4、補正の対象 明細書
の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書を次の通り補正する。
l)り頁/J行目の
「水系ラテクス」に
「水系ラテックス」
と挿入する。
コ)/[頁it行目の
「アシル化ズラチン」を
「アシル化ゼラチン」
と補正する。
3)−〇頁j行目の
「マット剤」を
「マット剤」
と補正する。
II)22頁/j行目の
「ラテックス」を
「ラテックス」
と補正する。
j)λコ頁λO行目の
「ポリマーラテックス」を
「ポリマーチテックス」
と補正する。
4)、2J頁λ行目の
「マット剤」を
「マット剤」
と補正する。
7)コぴ頁コO行目の
rAs性」を
「帯電防止性」
と補正する。
r> 3.2頁2行目の
メタノール分散液 /CC
」
と補正する。
デ)32頁/≠行目の
[
メタノール分散液 ″」
と補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 疎水性支持体上に水溶性下塗液及び/あるいは、水分散
性下塗液にて、塗設する下塗層を有する写真感光材料に
おいてその下塗液中に下記物質のうち少くとも1種類が
添加されている事を特徴とする写真感光材料 (1)▲数式、化学式、表等があります▼ (2)▲数式、化学式、表等があります▼ (3)▲数式、化学式、表等があります▼ 但し上記一般式におけるRは水素原子又は C_nH_2_n_+_1(n=1〜20)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59229108A JPS61107343A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59229108A JPS61107343A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61107343A true JPS61107343A (ja) | 1986-05-26 |
| JPH0364052B2 JPH0364052B2 (ja) | 1991-10-03 |
Family
ID=16886862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59229108A Granted JPS61107343A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61107343A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63198048A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-16 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 写真用支持体の製造方法 |
| US5008150A (en) * | 1987-10-02 | 1991-04-16 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photographic support with an undercoating layer on a resin coated base sheet |
| JPH03182740A (ja) * | 1989-12-13 | 1991-08-08 | Konica Corp | 処理変動性に対して安定なハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP59229108A patent/JPS61107343A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63198048A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-16 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 写真用支持体の製造方法 |
| US5008150A (en) * | 1987-10-02 | 1991-04-16 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Photographic support with an undercoating layer on a resin coated base sheet |
| JPH03182740A (ja) * | 1989-12-13 | 1991-08-08 | Konica Corp | 処理変動性に対して安定なハロゲン化銀写真感光材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0364052B2 (ja) | 1991-10-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |