JPS61106581A - Novel cephem compound and preparation thereof - Google Patents

Novel cephem compound and preparation thereof

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Publication number
JPS61106581A
JPS61106581A JP60162339A JP16233985A JPS61106581A JP S61106581 A JPS61106581 A JP S61106581A JP 60162339 A JP60162339 A JP 60162339A JP 16233985 A JP16233985 A JP 16233985A JP S61106581 A JPS61106581 A JP S61106581A
Authority
JP
Japan
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formula
group
compound
ester
acid
Prior art date
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Pending
Application number
JP60162339A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Teruaki Matsuo
松尾 照明
Jiro Goto
後藤 二郎
Hideaki Yamanaka
秀昭 山中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS61106581A publication Critical patent/JPS61106581A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

NEW MATERIAL:A compound shown by the formula I (R<3> is amino, or protected amino; X and Y are H, or halogen; R<1> is tetrazolopyridazinylthio, and R<2> is carboxy, or protected carboxy, or R<1> is 1-dihydropyridinio, etc. and R<2> is COO<->) or its salt. EXAMPLE:7[(Z)-2-Chloromethylene-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamido]-3-[1 -(6,7-di hydro-5H-1-pyridinio)methyl]-3-cephem-4-carboxylate. USE:A preventive and remedy for microbism. PREPARATION:A compound shown by the formula II or a reactive derivative at its carboxy group or its salt is reacted with a compound shown by the formula III or a reactive derivative at its amino group or its salt to give a compound shown by the formula I. The reaction is usually carried out in the presence of an organic base or an inorganic base in a solvent.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規セフェム化合物およびその塩類に関する
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention relates to novel cephem compounds and salts thereof.

きらに詳細には、この発明は抗菌活性を有する新規セフ
ェム化合物およびその塩類、その製造法、それを有効成
分とする細菌感染症予防治療剤に関する。
More specifically, the present invention relates to a novel cephem compound having antibacterial activity and its salts, a method for producing the same, and a prophylactic and therapeutic agent for bacterial infections containing the same as an active ingredient.

すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して強い抗菌活性を有する新規セフェム化合物およびそ
の塩類を提供することである。
That is, one object of the present invention is to provide a novel cephem compound and its salts that have strong antibacterial activity against many pathogenic bacteria.

この発明のもう一つの目的は、新規セフェム化合物およ
びその塩類の製造法を提供することである。
Another object of this invention is to provide a method for producing novel cephem compounds and their salts.

この発明のさらにもう一つの目的は、有効成分として前
記新規セフェム化合物およびその塩類を含有する細菌感
染症予防治療剤を提供することである。
Yet another object of the present invention is to provide a preventive and therapeutic agent for bacterial infections containing the novel cephem compounds and their salts as active ingredients.

この発明が属する技術分野において、例えば下記化合物
が会知である。
For example, the following compounds are well known in the technical field to which this invention pertains.

c式中、R1は芳香族基; 2は式: (式中、R2は水素、塩形成カチオンまたはカルボン酸
の保護基; R3は水素または求核性化合物の残基を意味する)で示
される基を意味し; Xlおよびx2は両方同時に水素を表わし得ないという
条件下に、X およびX2はそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を意味する](ヨーロッパ特許公開第004
8954号)。
c in the formula, R1 is an aromatic group; 2 is represented by the formula: (wherein R2 is hydrogen, a salt-forming cation or a protecting group for a carboxylic acid; R3 means hydrogen or a residue of a nucleophilic compound) means a group; X and X2 each mean a hydrogen atom or a halogen atom, provided that Xl and x2 cannot both represent hydrogen at the same time] (European Patent Publication No. 004)
No. 8954).

目的とする新規セフェム化合物は新化合物であり、次の
一般式(1)で示すことができる。
The target novel cephem compound is a new compound and can be represented by the following general formula (1).

(式中、R3はアミン基または保護されたアミノ基; XおよびYはそれぞれ水素またはハロゲンを意味し; R1はテトラシロピリダジニルチオ基を意味しかつ、R
2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を意味
するか;または R1は1−ジヒドロピリンジニオ基または適当な置換基
を有する1−ピリジニオ基を意味しかつ、Rは−C0o
Oを意味する)。
(wherein, R3 is an amine group or a protected amino group; X and Y each represent hydrogen or a halogen; R1 represents a tetracylopyridazinylthio group, and R
2 means a carboxy group or a protected carboxy group; or R1 means a 1-dihydropyridinio group or a 1-pyridinio group with a suitable substituent, and R is -C0o
(means O).

この発明の新規セフェム化合物(I)は下記反応式で示
きれる種々の製造法で製造することができる。
The novel cephem compound (I) of this invention can be produced by various production methods shown in the following reaction formula.

裂】lL上 またはそのカルボキシ  またはそのアミノ基に基にお
ける反応性誘導  おける反応性誘導体ま体またはその
塩     たはその塩 (lλ またはその塩 またはその塩 またはその塩 (式中、R1、R2、R3、XおよびYはそれぞれ前と
同じ意味であり、R3は保護されたアミノ基を意味する
)。
A reactive derivative or a salt thereof (lλ or a salt thereof or a salt thereof (in the formula, R1, R2, R3 , X and Y each have the same meaning as before and R3 means a protected amino group).

目的化合物(I)、(Ia)および(Ib)ならびに出
発原料(■)については、2異性体、E異性体およびそ
れらの混合物が存在するが、それらはいずれもこの発明
の目的化合物および出発原料化合物の範囲に包含される
ものとする。
Regarding the target compounds (I), (Ia) and (Ib) and the starting material (■), 2 isomers, E isomers and mixtures thereof exist, all of which can be used as the target compound and starting material of this invention. shall be included within the scope of compounds.

目的化合物(I)の好適な塩類は医薬として許容される
慣用の無毒性塩類であり、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩および例えばカルシウム塩、マ
グネシウム塩等のアルカリ土金属塩のような金属塩、ア
ンモニウム塩、例えばトリメチルアミン塩、トリエチル
アミン塩、ピリジン塩1.ビフリン塩、ジシクロヘキシ
ルアミン塩、N、N’−ジベンジルエチレンジアミン塩
等の有機塩基塩、例えば酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸
塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ギ酸
塩、トルエンスルホン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩
、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、または
例えばアルギニン、アスパラギン酸、グルタミン酸等の
アミノ酸との塩等がその例として挙げられる。
Suitable salts of the target compound (I) are pharmaceutically acceptable conventional non-toxic salts, such as alkali metal salts such as sodium salts, potassium salts, and alkaline earth metal salts such as calcium salts, magnesium salts, etc. Metal salts, ammonium salts such as trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts1. Organic base salts such as bifrin salt, dicyclohexylamine salt, N,N'-dibenzylethylenediamine salt, such as acetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonate, formate, toluenesulfonate Examples thereof include organic acid salts such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate, and phosphate, and salts with amino acids such as arginine, aspartic acid, and glutamic acid.

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含きれる種々の定義の好適な例と説明とを
以下詳細に述べる。
In the foregoing and following description of this specification, preferred examples and explanations of various definitions that fall within the scope of this invention are set forth in detail below.

r低級、とは、特に指示がなければ、炭−素原子1〜6
個を意味するものとする。
r-lower means 1 to 6 carbon atoms, unless otherwise specified.
shall mean an individual.

R3およびR3の好適な1保護されたアミノ基」として
は、アシルアミノ基または少なくとも1個の適当な置換
基を有していてもよいアル(低級)アルキル基例えばベ
ンジル、トリチル等のような慣用の保護基によって置換
きれたアミン基等が挙げられる。
Suitable 1-protected amino groups for R3 and R3 include acylamino groups or alkyl groups optionally having at least one suitable substituent, such as conventional 1-protected amino groups such as benzyl, trityl, etc. Examples include amine groups substituted with protective groups.

「アシルアミノ基」の好適なアシル部分としては、カル
バモイル基、脂肪族アシル基、芳香環または複素環を含
むアシル基が挙げられる。それらのアシル基の好適な例
としては、カルバモイル基、例えばホルミル、アセチル
、プロピオニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、
イソバレリル、オキザリノ呟 スクシニル、ピバロイノ
呟ヘキサノイル、ヘプタノイル、すフタノイル、ノナン
イノ1デカノつノ呟ウンデカノイル、ドデカノイル、ト
リデカノイル、テトラデカノイル、ペンタデカノイル、
ヘキサデカノイノ呟ヘプタデカノイル、オクタデカノイ
ル等の炭素原子1〜18個を有するアルカノイル 例えばアクリロンノ呟 メタアクリロイル、クロトノイ
ル、イソクロトノイル、ペンテノイル、ヘキセノイル、
ヘプテノイル、ドデカノイル、テトラデセノイル、ヘキ
サデセノイル、オレオイル、エライドイル等の炭素原子
3〜20個を有するアルケノイル基; 例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニjL−,
プロポキシカルボニル、1−シクロプロピルエトキシカ
ルボニル、インブロポキシカルボニ1、ノ呟ブトキシ力
ルポ二ノ呟第三級ブトキシカルボ1;       =
 、、、、ツケ,,オヤウヵ,,□.,い、ヘヤウ,,
オヤシカルボニル等の炭素原子2〜7個を有する低級ア
ルコキシカルボニル 例えばメシル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル
、イソプロパンスルホニル、フタンスルホニル等の低級
アルカンスルホニル基; 例えばベンゼンスルホニル、トシル等のアレンスルホニ
ル基; 例えばベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフトイ
ル、フタロイル、インダンカルボニル等のアロイル基; 例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のア
ル(低級)アルカノイル基; 例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカ
ルボニル等のアル(低級)アルコキシカルボニル基等が
挙げられる。
Suitable acyl moieties of the "acylamino group" include carbamoyl groups, aliphatic acyl groups, and acyl groups containing aromatic rings or heterocycles. Suitable examples of such acyl groups include carbamoyl groups such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, imbutyryl, valeryl,
Isovaleryl, oxalinosuccinyl, succinyl, pivaloyl hexanoyl, heptanoyl, suftanoyl, nonaninoyl, undecanoyl, dodecanoyl, tridecanoyl, tetradecanoyl, pentadecanoyl,
Alkanoyl having 1 to 18 carbon atoms such as heptadecanoyl, octadecanoyl, methacryloyl, crotonoyl, isocrotonoyl, pentenoyl, hexenoyl,
Alkenoyl groups having 3 to 20 carbon atoms such as heptenoyl, dodecanoyl, tetradecenoyl, hexadecenoyl, oleoyl, elidoyl; for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl,
Propoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, imbropoxycarbonyl 1, butoxy tertiary butoxycarbo 1; =
,,,,Tsuke,,Oyauka,,□. ,I,heyau,,
Lower alkoxycarbonyl having 2 to 7 carbon atoms such as oyashicarbonyl; lower alkanesulfonyl groups such as mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, isopropanesulfonyl, phthanesulfonyl; allenesulfonyl groups such as benzenesulfonyl and tosyl; Aroyl groups such as benzoyl, toluoyl, xyloyl, naphthoyl, phthaloyl, indancarbonyl, etc.; Al(lower) alkanoyl groups such as phenylacetyl, phenylpropionyl; Al(lower) alkoxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc. can be mentioned.

「好適な保護されたカルボキシ基、としては、下記のよ
うな1エステル化きれたカルボキシ基」を挙げることが
できる。
Examples of suitable protected carboxy groups include the following mono-esterified carboxy groups.

エステル化きれたカルボキシ基のエステル部分の好適な
例としては、例えばメチルエステル、エチルエステル、
プロピルエステ、ル、イソプロピルエステル、ブチルエ
ステル、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、
ペンチルエステル、ヘキシルエステル、1−シクロプロ
ピルエチルニスデル等の、少なくとも適当な置換基1個
を有していてもよい低級アルキルエステル、その例とし
て、例えばアセトキシメチルエステル、プロピオニルオ
キシメチルエステJ呟 ブチリルオキシメチルエステル
、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイルオキシメ
チルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステル、1
(または2)−アセトキシエチルエステル、1(または
2または3)−アセトキシプロピルエステル、1(また
は2または3または4)−アセトキシブチルエステル、
1(または2)プロピオニルオキシエチルエステル、1
(または2または3)−プロピオ二ルオキシプロビルエ
ステノ呟 1(または2)−ブチリルオキシエチルエス
テル、1(または2)−イソブチリルオキシエチルエス
テル、1(または2)−ピバロイルオキシメチルエステ
ル呟 1(または2)−ヘキサノイルオキシエチルエス
テル、イソブチリルオキシメチルエステル、2−エチル
ブチリルオキシメチルエステル、3.3−ジメチルブチ
リルエステル、1(または2)−ペンタノイルオキシエ
チルエステル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アル
キルエステル呟例えば2−メシルエチルエステル等の低
級アルカンスルホニル(低級)アルキルエステル、例え
ば2−ヨードエチルエステル、2,2.2−トリクロロ
エチルエステル等のモノ(またはジまたはトリ)−ハロ
(低級)アルキルエステル、例えばメトキシカルボニル
オキシメチルエステル、エトキシカルボニルオキシメチ
ルエステル、2−メトキシカルボニルオキシエチルエス
テル、1−エトキシカルボニルオキシエチルエステル、
1−インプロポキシカルボニルオキシエチルエステル等
の低級アルコキシカルボニルオキシ(低級)アルキルエ
ステル、フタリジリデン(低級)アルキルエステル、ま
たは例えば(5−メチル−2−才キソー1.3−ジオキ
ソ−ルー4−イル)メチルエステル呟 (5−エチル−
2−才キソー1.3−ジオキソ−ルー4ーイル)メチル
エステル、(5−プロピル−2−才キソー1.3−ジオ
キソ−ルー4−イル)エチルエステル等の(5−低級ア
ルキルー2−才キソー1.3−ジオキソ−ルー4−イル
)低級アルキルエステル; 例エバビニルエステル、アリルエステル等の低級アルケ
ニルエステル; 例えばエチニルエステ&、プロピニルエステル等の低級
アルキニルエステル; 例えばベンジルエステル、4−メトキシベンジルエステ
ル、4−ニトロベンジルエステル、フエネテルエステノ
呟トリチルエステノ呟ベンズヒドリルエステル、ビス(
メトキシフェニル)メチルエステル、3.4−ジメトキ
シベンジルエステル、4−ヒドロキシ−3,5−ジ第三
級ブチルベンジルエステル等の少なくとも1個の適当な
置換基を有していてもよいアル(低級)アルキルエスト
        チル; 、(9 例えばフェニルエステル、4−クロロフェニルエステル
、トリルエステル、第三級ブチルフェニルエステル、キ
シリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル
等の少なくとも1個の適当な置換基を有していてもよい
アリールエステル; フタリジルエステル等のようなものが挙げられる。
Suitable examples of the ester moiety of the esterified carboxy group include methyl ester, ethyl ester,
propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester,
Lower alkyl esters which may have at least one suitable substituent, such as pentyl ester, hexyl ester, 1-cyclopropylethyl nitride, etc., such as acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, etc. Lyloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1
(or 2)-acetoxyethyl ester, 1 (or 2 or 3)-acetoxypropyl ester, 1 (or 2 or 3 or 4)-acetoxybutyl ester,
1 (or 2) propionyloxyethyl ester, 1
(or 2 or 3)-propionyloxypropylene ester, 1 (or 2)-butyryloxyethyl ester, 1 (or 2)-isobutyryloxyethyl ester, 1 (or 2)-pivaloyl Oxymethyl esters 1 (or 2)-hexanoyloxyethyl ester, isobutyryloxymethyl ester, 2-ethylbutyryloxymethyl ester, 3,3-dimethylbutyryl ester, 1 (or 2)-pentanoyloxyethyl Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as esters, lower alkanesulfonyl (lower) alkyl esters such as 2-mesylethyl ester, mono (or di- or tri)-halo(lower) alkyl esters, such as methoxycarbonyloxymethyl ester, ethoxycarbonyloxymethyl ester, 2-methoxycarbonyloxyethyl ester, 1-ethoxycarbonyloxyethyl ester,
Lower alkoxycarbonyloxy (lower) alkyl esters such as 1-impropoxycarbonyloxyethyl ester, phthalidylidene (lower) alkyl esters, or e.g. Ester mutter (5-ethyl-
(5-lower alkyl-2-year-old xo-1,3-dioxo-4-yl) methyl ester, (5-propyl-2-year-old 1.3-dioxol-4-yl) lower alkyl ester; Examples include lower alkenyl esters such as evavinyl ester and allyl ester; Lower alkynyl esters such as ethynyl ester & propynyl ester; Examples include benzyl ester and 4-methoxybenzyl ester , 4-nitrobenzyl ester, phenetel ester, trityl ester, benzhydryl ester, bis(
Al(lower) which may have at least one suitable substituent such as methoxyphenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,5-ditertiary butylbenzyl ester, etc. Alkyl estyl; (9) having at least one suitable substituent such as phenyl ester, 4-chlorophenyl ester, tolyl ester, tertiary butylphenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, etc. Aryl esters that may be used include phthalidyl esters and the like.

好適なハロゲンは塩素、臭素、ふっ素および沃素である
Preferred halogens are chlorine, bromine, fluorine and iodine.

ゝ適当な置換基を有する1−ピリジニオ基」の好適な「
置換基」としては、例えばメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル等の低級アルキル基、前記ハロゲン等
が挙げられる。
Preferred “1-pyridinio group having a suitable substituent”
Examples of "substituents" include methyl, ethyl, propyl,
Examples include lower alkyl groups such as isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl, and hexyl, and the aforementioned halogens.

この発明の目的化合物(I)の製造法を以下詳細に説明
する。
The method for producing the object compound (I) of the present invention will be explained in detail below.

1産豊ユ 化合物(I)またはその塩は、化合物(n)またはその
アミノ基における反応性誘導体またはその塩に、化合物
(III>またはそのカルボキシ基における反応性誘導
体またはその塩を反応きせることにより製造することが
できる。
Compound (I) or a salt thereof can be prepared by reacting compound (n) or a reactive derivative at the amino group or a salt thereof with compound (III> or a reactive derivative at the carboxyl group thereof or a salt thereof). can be manufactured.

出発原料化合物(II)および(III)の好適な塩と
しては、化合物(I)について例示したものと同じもの
が挙げられる。
Suitable salts of starting materials compounds (II) and (III) include the same salts as exemplified for compound (I).

化合物(I[)のアミノ基における好適な反応性誘導体
としては、慣用の誘導体、その例として、化合物(亘)
どビス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメチル
シリルアセトアミド等のようなシリル化合物との反応に
よって生成するシリル誘導体;イソシアン酸塩;イソチ
オシアン酸塩:アミレ基と例えばアセトアルデヒド、イ
ソペンタアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアル
デヒド、フェニルアセトアルデヒド、p−ニトロベンズ
アルデヒド、m−クロロベンズアルデヒド、p−クロロ
ベンズアルデヒド、ヒドロキシナフトアルデヒド、フル
フラール ルデヒド等のアルデヒド化合物または例えばアセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチ
ルアセトン、アセト酢酸エチル等のようなケトン化合物
のようなカルボニル化合物との反応によって生成するシ
ッフの塩基またはそのエナミン型互変異性体等が挙げら
れる。
Suitable reactive derivatives at the amino group of compound (I[) include conventional derivatives, such as compound (Wataru)
Silyl derivatives formed by reaction with silyl compounds such as dobis(trimethylsilyl)acetamide, trimethylsilylacetamide, etc.; isocyanates; isothiocyanates: amyle groups and e.g. acetaldehyde, isopentaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde, phenylacetaldehyde, Aldehyde compounds such as p-nitrobenzaldehyde, m-chlorobenzaldehyde, p-chlorobenzaldehyde, hydroxynaphthaldehyde, furfuraldehyde, or for example acetone,
Examples thereof include Schiff's base or its enamine-type tautomer, which is produced by reaction with a carbonyl compound such as a ketone compound such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone, ethyl acetoacetate, and the like.

化合物(I[I)のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては、例えば酸ハロゲン化物、酸無水物、活
性化アミド、活性化エステル停が挙.げられるが、好ま
しくは酸塩化物、酸臭化物;例えばジアルキル燐酸、フ
ェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲ
ン化燐酸等の置換された燐酸、ジアルキル亜燐酸、亜硫
酸、チオ硫皺、硫酸、例えば炭酸メチル、炭酸エチル、
炭酸プロピル等の炭酸アルキル、例えばピバリン酸、ペ
ンタン酸、インペンタン酸、2−エチル酪酸、トリクロ
ロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、例えば安息香酸等の芳香
族カルボン酸のような酸との混合酸無水物;対称酸無水
物;イミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチルピ
ラゾール、トリアゾールまたはテトラゾールのようなイ
ミノ官能基を含む複素環化合物との活性化酸アミド:例
えlfp−二トロフェニルエステル、2.4−ジニトロ
フェニルエステル、トリクロ口フェニルエスチル、ペン
タクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、
フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル
、p−ニトロフェニルチオエステノ呟 p−タレジルチ
オエステノ呟 カルボキシメチルチオエステル、ピリジ
ルエステル、ピペリジニルエステル、8−キノリルチオ
エステル、またはN、N−ジメチルヒドロキシルアミン
、l−ヒドロキシル2−(1H)−ピリドン、N−ヒド
ロキシスクイシンイミド、N−ヒドロキシフタルイミド
、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、1−ヒドロキシ
−6−クロロベンゾトリアゾールのようなN−ヒドロキ
シ化合物とのエステル等の活性化エステル等である。
Suitable reactive derivatives at the carboxy group of compound (I[I) include, for example, acid halides, acid anhydrides, activated amides, and activated ester derivatives. but preferably acid chlorides, acid bromides; for example, substituted phosphoric acids such as dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, dialkyl phosphorous acid, sulfurous acid, thiosulfuric acid, sulfuric acid, such as carbonic acid. Methyl, ethyl carbonate,
Mixed acid anhydrides with acids such as alkyl carbonates such as propyl carbonate, aliphatic carboxylic acids such as pivalic acid, pentanoic acid, impentanoic acid, 2-ethylbutyric acid, trichloroacetic acid, aromatic carboxylic acids such as benzoic acid, etc. symmetrical acid anhydrides; activated acid amides with heterocyclic compounds containing imino functions such as imidazole, 4-substituted imidazole, dimethylpyrazole, triazole or tetrazole: e.g. lfp-nitrophenyl ester, 2.4- dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester,
Phenylazophenyl ester, phenylthioester, p-nitrophenylthioester, p-talesylthioester, carboxymethylthioester, pyridyl ester, piperidinyl ester, 8-quinolylthioester, or N,N-dimethylhydroxylamine, esters with N-hydroxy compounds such as l-hydroxyl 2-(1H)-pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, 1-hydroxybenzotriazole, 1-hydroxy-6-chlorobenzotriazole, etc. activated esters, etc.

好適な反応性誘導体は上記の中から、実際に使用する化
合物(I[)および(III)の種類によって任意に選
択することができる。
Suitable reactive derivatives can be arbitrarily selected from the above-mentioned compounds depending on the types of compounds (I[) and (III) actually used.

この反応は、例えばリチウム、ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属、例えばカルシウム等のアルカリ出金属
、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、
例えば水素化カルシウム等のアルカリ土金属水素化物、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ
金属水酸化物、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、例えばナ
トリウムメトキシド、ナトリウムメトキシド、カリウム
第三級ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、例え
ば酢酸ナトリウム等のアルカン酸アルカリ金属塩、例え
ばトリエチルアミン停のトリアルキルアミン、例えばピ
リジン、ルチジン、ピコリン等のピリジン化合物、キノ
リン等のような有機塩基または無機塩基の存在下に行な
うことができる。
This reaction is carried out using alkali metals such as lithium, sodium, potassium, etc., alkaline metals such as calcium, alkali metal hydrides such as sodium hydride, etc.
For example, alkaline earth metal hydrides such as calcium hydride,
Alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkali metal hydrogen carbonates such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate; e.g. sodium methoxide; Alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, potassium tert-butoxide, alkali metal salts of alkanoates such as sodium acetate, trialkylamines such as triethylamine, pyridine compounds such as pyridine, lutidine, picoline, quinoline, etc. This can be carried out in the presence of an organic or inorganic base.

化合物(III)を遊離酸の形または塩の形でこの反応
に使用する場合、例えばN、N’−ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド −(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)カルボジイミ
ド、N,N’−ジエチルカルボジイミド、N.N’−ジ
イソプロピルカルボジイミド、N−エチル−N’−(3
−ジメチルアミンプロピル)カルボジイミド等のカルボ
ジイミド化合物;例えハN 、 N ’ーカルボニルビ
ス ゾール)、ペンタメチレンケテン−N−シクロへキシル
イミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘキシルイミン
等のケテンイミン化合物;オレフィン系またはアセチレ
ン系エーテル化合物例えばエトキシアセチレン、β−ク
ロロビニルエチルエーテル、例え+:l’ 1 − (
 4−クロロベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ
−IH−ベンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール誘導体のスルホン酸エステル;トリアルキ
ル亜燐酸またはトリフェニルホスフィンと四塩化炭素、
二硫化炭素または例えばンアゼンジヵルボン酸ジエチル
等のジアゼンジカルボン酸エステルとの組合わせ;例え
ばポリ燐酸二チノ呟ポリ燐酸インプロピノ呟塩化ホスホ
リル、三塩化溝等の燐化合物、塩化チオニル、塩化オキ
ザリル、N−エチルベンズイソオキサゾリウム塩、N−
エチル−5−フェニルイソオキサゾリウム−3−スルホ
ネート、例えばN.N−ジメチルホルムアミド等c7)
N,N−シ(低級)アルキルホルムアミド、N−メチル
ホルムアミド等のようなアミド化合物と塩化チオニル、
塩化ボスホリノ呟ホスゲン等のようなハロゲン化合物と
の反応によって生成するいわゆるビルスマイヤー試薬と
称される試薬のような縮合剤の存在下に反応を行うのが
好ましい。
When compound (III) is used in this reaction in the form of free acid or salt, for example N,N'-dicyclohexylcarbodiimide-(4-diethylaminocyclohexyl)carbodiimide, N,N'-diethylcarbodiimide, N. N'-diisopropylcarbodiimide, N-ethyl-N'-(3
Carbodiimide compounds such as -dimethylaminepropyl)carbodiimide; Ketenimine compounds such as N,N'-carbonylbisole), pentamethyleneketene-N-cyclohexylimine, diphenylketene-N-cyclohexylimine; olefinic or acetylene-based Ether compounds such as ethoxyacetylene, β-chlorovinylethyl ether, e.g.
Sulfonic acid esters of N-hydroxybenzotriazole derivatives such as (4-chlorobenzenesulfonyloxy)-6-chloro-IH-benzotriazole; trialkyl phosphorous acid or triphenylphosphine and carbon tetrachloride;
Combinations with carbon disulfide or diazenedicarboxylic acid esters such as diethyl azenedicarboxylate; phosphorus compounds such as phosphoryl chloride, thionyl chloride, oxalyl chloride, N-ethylbenzisoxazolium salt, N-
Ethyl-5-phenylisoxazolium-3-sulfonate, such as N. N-dimethylformamide etc. c7)
Amide compounds such as N,N-cy(lower)alkylformamide, N-methylformamide, etc. and thionyl chloride,
Preferably, the reaction is carried out in the presence of a condensing agent, such as the so-called Vilsmeier reagent, which is produced by reaction with a halogen compound such as phosgene chloride or the like.

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N.N−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン、ヘキサメチルホスフォル
アミド等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒
、またはそれらの混合物中で行われる。
The reaction is usually carried out using water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, benzene, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N. It is carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as N-dimethylformamide, pyridine, hexamethylphosphoramide, etc., or mixtures thereof.

反応温度は特に限定されず、通常は冷却下ないし加温下
に反応が行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

1産孟1 化合物(Ib>またはその塩は、化合物(Ia)または
その塩を、R3のアミン保護基の脱離反応に付すことに
より製造することができる。
A compound (Ib) or a salt thereof can be produced by subjecting a compound (Ia) or a salt thereof to an elimination reaction of the amine protecting group of R3.

この脱離反応に好適な方法としては、力日水分解、還元
等のような慣用の方法が挙げられる。
Suitable methods for this elimination reaction include conventional methods such as hydrolysis, reduction, and the like.

(i)加水分解 加水分解は酸または塩基の存在下に行うのが好ましい。(i) Hydrolysis Hydrolysis is preferably carried out in the presence of an acid or a base.

好適な酸としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸等の
無機酸、例えば蟻較、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピ
オン酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸等の有機酸、酸性イオン交換樹脂等
が挙げられる。トリフルオロ酢酸およびp−1−ルエン
スルホン酸のような有機酸をこの反応に使用する場合、
例えばアニソール等の陽イオン捕捉剤の存在下に反応を
行うのが好ましい。
Suitable acids include, for example, inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, propionic acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-
Examples include organic acids such as toluenesulfonic acid, acidic ion exchange resins, and the like. When organic acids such as trifluoroacetic acid and p-1-luenesulfonic acid are used in this reaction,
For example, it is preferable to carry out the reaction in the presence of a cation scavenger such as anisole.

好適な塩基としては製造法1で例示したものと、1.f
         同0有機塩基3W無機塩基が挙げ化
6・この加水分解に適した酸または塩基は脱離すべき保
護基の種類によって選択することができ、例えばこの加
水分解はe換されたまたは非置換低級アルコキシカルボ
ニル基、置換されたまたは非置換低級アルカノイル基の
ようなR3のアミノ保護基の脱離に適用するのが好まし
い。
Suitable bases include those exemplified in Production Method 1 and 1. f
The same 0 organic base 3W inorganic base is listed as Formula 6. The acid or base suitable for this hydrolysis can be selected depending on the type of protecting group to be removed. For example, this hydrolysis can be carried out using It is preferably applied to the removal of amino protecting groups of R3 such as carbonyl groups, substituted or unsubstituted lower alkanoyl groups.

加水分解は通常、水、メタン−Ju、エタノ−、I呟フ
ロハ/ −)1第三級ブチルアルコール、テトラヒドロ
フラン、N、N−ジメチルホルムアミド、ジオキサンの
ような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒中、または
それらの混合物中で行われるが、上記酸もそれらが液体
であれば溶媒として使用することができる。
The hydrolysis is usually carried out in a conventional solvent that does not adversely affect the reaction, such as water, methane, ethanol, I-fluorocarbon, tert-butyl alcohol, tetrahydrofuran, N,N-dimethylformamide, dioxane, etc. , or mixtures thereof, but the acids mentioned above can also be used as solvents if they are liquid.

この加水分解の反応温度は特に限定きれないが、通常は
冷却下ないし若干加温する程度の温度範囲で反応が行わ
れる。
Although the reaction temperature for this hydrolysis cannot be particularly limited, the reaction is usually carried out in a temperature range of from cooling to slightly warming.

(i)還元 還元は化学的還元および接触還元を含む常法により行わ
れる。
(i) Reduction Reduction is carried out by conventional methods including chemical reduction and catalytic reduction.

化学的還元に使用される好適な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄等の金属または例えば塩化第一クロム、酢酸第
一クロム等の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、トリフルオロ酢酸、p−トルエンスルホン酸、
塩酸、臭化水素酸等の有機酸または無alt酸との組合
わせである。
Suitable reducing agents used for chemical reduction include, for example, tin,
Metals such as zinc and iron or metal compounds such as chromium chloride and chromium acetate, and for example formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, p-toluenesulfonic acid,
It is a combination with an organic acid such as hydrochloric acid or hydrobromic acid or an alt-free acid.

接触還元に使用される好適な触媒は、例えば白金板、白
金海綿、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線等の
白金触媒、例えばパラジウム、海綿、パラジウム黒、酸
化パラジウム、パラジウム−炭素、コロイドパラジウム
、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム炭酸バリウム
等のパラジウム触媒、例えば還元ニッケル、酸化ニッケ
ル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例えば還元コバ
ルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒、例えば還元鉄
、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元銅、ラネー銅、ウル
マン錆等の銅触媒等のような常用の触媒である。
Suitable catalysts used for the catalytic reduction are platinum catalysts such as platinum plates, platinum sponges, platinum black, colloidal platinum, platinum oxide, platinum wires, platinum catalysts such as palladium, sponges, palladium black, palladium oxide, palladium-carbon, colloids. Palladium catalysts such as palladium, palladium-barium sulfate and palladium barium carbonate; nickel catalysts such as reduced nickel, nickel oxide and Raney nickel; cobalt catalysts such as reduced cobalt and Raney cobalt; iron catalysts such as reduced iron and Raney iron; Commonly used catalysts include copper catalysts such as reduced copper, Raney copper, Ullmann rust, and the like.

還元法は脱離すべき保護基の種類によって選択すること
ができ、例えば、化学的還元はハロ(低級)アルフキジ
カルボニル基等のようなR3のアミノ保護基の脱離に適
用するのが好ましく、接触還元は置換されたまたは非置
換アル(低級)アルコキシカルボニル基等のようなアミ
ノ保護基の脱離に適用するのが好ましい。
The reduction method can be selected depending on the type of protecting group to be removed. For example, chemical reduction is preferably applied to remove an amino protecting group of R3 such as a halo (lower) alkyl dicarbonyl group, Catalytic reduction is preferably applied to remove amino protecting groups such as substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl groups and the like.

還元は通常、水、メタノール、エタノール、プロパツー
ル、N、N−ジメチルホルムアミドのような反応に悪影
響を及ぼさない慣用の溶媒中、またはそれらの混合物中
で行われる。さらに化学的還元に使用される上記酸が液
体である場合には、それらを溶媒として使用することも
できる。きらにまた、接触還元に使用される好適な溶媒
は上記溶媒のほか、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン等のような慣用の溶媒またはそれらの
混合物である。
The reduction is usually carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, propatool, N,N-dimethylformamide, or mixtures thereof. Furthermore, when the acids used in the chemical reduction are liquids, they can also be used as solvents. Suitable solvents used in the catalytic reduction are also the above-mentioned solvents, as well as conventional solvents such as diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, etc., or mixtures thereof.

この還元の反応温度は特に限定されず、通常は冷却下な
いし加温下に反応が行われる。
The reaction temperature for this reduction is not particularly limited, and the reaction is usually carried out under cooling or heating.

以上説明した方法は脱離すべき保護基の種類によって選
択すればよい。
The method explained above may be selected depending on the type of protecting group to be removed.

この発明の目的化合物(I)およびその塩類は新規化合
物であり、強い抗菌活性を示し、ダラム陽性菌およびダ
ラム陰性菌を含む広汎な病原菌の発育を阻止し、細菌感
染症予防治療剤として有用である。
Compound (I) and its salts are novel compounds, exhibit strong antibacterial activity, inhibit the growth of a wide range of pathogenic bacteria including Durum-positive bacteria and Durum-negative bacteria, and are useful as preventive and therapeutic agents for bacterial infections. be.

この発明の化合物を治療のために使用するにあたり、前
記化合物を有効成分として含有し、経口、非経口または
外用投与に適した有機もしくは無機固体状もしくは液状
賦形剤のような医薬として許容される担体と混合して慣
用の医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤は
カプセル、錠剤、糖衣錠、軟膏または坐剤のような固体
状であってもよいし、溶液、懸濁液またはエマルジョン
のような液状であってもよい。所望によっては上記製剤
中に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩衝液および
その他乳糖、フマール酸、クエン酸、酒石酸、ステアリ
ン酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、ステアリン酸
マグネシウム、白土、シュークロース、コーンスターチ
、タルク、ゼラチン、寒天、ペクチン、落花生油、オリ
ーブ油、カカオ脂、エチレングリコール等のような常用
の添加剤が含まれていてもよい。
For therapeutic use of the compounds of this invention, pharmaceutically acceptable excipients, such as organic or inorganic solid or liquid excipients, containing said compounds as active ingredients and suitable for oral, parenteral or topical administration. It can be mixed with a carrier and used in the form of a conventional pharmaceutical formulation. Pharmaceutical formulations may be in solid form, such as capsules, tablets, dragees, ointments, or suppositories, or liquid, such as solutions, suspensions, or emulsions. If desired, auxiliaries, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers and other agents such as lactose, fumaric acid, citric acid, tartaric acid, stearic acid, maleic acid, succinic acid, malic acid, magnesium stearate, terra alba, etc. may be added to the above formulation. Conventional additives such as sucrose, cornstarch, talc, gelatin, agar, pectin, peanut oil, olive oil, cocoa butter, ethylene glycol, etc. may be included.

化合物の投与量は患者の年齢および症状によって変化す
るが、この発明の化合物は平均1回投与量約10mg、
50mg、100mg、 250mg、 500mg、
 1000mgで病原菌感染症治療に有効である。また
、一般的には1日当り1mg/固体〜約5000mg/
固体またはそれ以上投与してもよい。
Although the dosage of the compound will vary depending on the age and condition of the patient, the compounds of this invention have an average single dose of about 10 mg;
50mg, 100mg, 250mg, 500mg,
1000mg is effective in treating pathogenic bacterial infections. In addition, generally 1 mg/solid to about 5000 mg/day
Solid or larger doses may be administered.

目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的化
合物の抗菌活性を以下に示す。
In order to demonstrate the usefulness of the target compounds, the antibacterial activity of representative compounds of this invention is shown below.

[1コ試験化合物 (1)7−[:(Z)−2−クロロメチレン−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−
[(テトラシロ[1,5−bコピリダジン−6−イル)
チオメチル]−3−セフェムー4−カルボン酸。
[1 test compound (1) 7-[:(Z)-2-chloromethylene-2-(2
-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-
[(tetracylo[1,5-bcopyridazin-6-yl)
thiomethyl]-3-cephemu-4-carboxylic acid.

(2)7−[(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミトコ−3−[
1−(6,7−シヒドロー5H−1−ピリンジニオ)メ
チルロー3−セフェムー4−カルボキシレート。
(2) 7-[(Z)-2-chloromethylene-2-(2-
aminothiazol-4-yl)acetamitoco-3-[
1-(6,7-cyhydro 5H-1-pyrindinio)methylrho 3-cephemu 4-carboxylate.

[2]!鳳:立丑Jし比1厘 ■に!迭 試験管内抗菌活性を下記寒天平板希釈法により測定した
[2]! Otori: Standing J and Hi 1 Rin ■! The in vitro antibacterial activity was measured by the agar plate dilution method described below.

各試験菌株をトリプトケース・ソイ・ブロス(生菌数1
08個/m1)中−夜培養してその一白金耳を、各濃度
段階の代表的試験化合物を含むハート・インフュージョ
ン寒天(HI−寒天)に接種し、37゛Cで20時間培
養後、最小阻止濃度(MIC)をμg/mlで表わした
Each test strain was added to Tryptocase soy broth (1 viable cell count).
08 cells/ml) was cultured overnight, and a loopful of the same was inoculated onto heart infusion agar (HI-agar) containing representative test compounds at each concentration level, and after culturing at 37°C for 20 hours, The minimum inhibitory concentration (MIC) was expressed in μg/ml.

■莢!亙退 MIC(μg/ml) 東」u」工 (1)N、N−ジメチルホルムアミド(0,5g)のテ
トラヒドロフラン(8ml)溶液にオキシ塩化燐(49
5mg )を加え、混合物を室温で30分間攪拌し、次
いで一20℃に冷却する。(Z)−2−クロロメチレン
−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)酢酸
(0,5g)をこれに加え、反応混合物を−15〜−1
0°Cで30分間攪拌する。一方別に7−アミノ−3−
[(テトラゾロー1−1.5−b]ピリダジン−6−イ
ル)チオメチルクー3−セフェム−4−カルボン酸(9
10a+g)、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド
(4,5g)およびテトラヒドロフラン(15ml)の
混合物を35°Cで30分間攪拌し、次いで一15°C
に冷却する。この溶液を上記で得られる活性化酸溶液に
一15℃で一挙に加える。混合物を−15〜−10℃で
30分間攪拌する。
■Pod! MIC (μg/ml) Higashi'u'tech (1) Phosphorous oxychloride (49 μg/ml) was added to a solution of N,N-dimethylformamide (0.5 g) in tetrahydrofuran (8 ml).
5 mg) is added and the mixture is stirred at room temperature for 30 minutes and then cooled to -20°C. (Z)-2-chloromethylene-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetic acid (0,5 g) was added to this and the reaction mixture was
Stir for 30 minutes at 0°C. On the other hand, 7-amino-3-
[(Tetrazolo-1-1.5-b]pyridazin-6-yl)thiomethylcou-3-cephem-4-carboxylic acid (9
A mixture of 10a+g), mono(trimethylsilyl)acetamide (4,5g) and tetrahydrofuran (15ml) was stirred at 35°C for 30 minutes, then at -15°C.
Cool to This solution is added all at once to the activated acid solution obtained above at -15°C. The mixture is stirred at -15 to -10°C for 30 minutes.

反応混合物を炭酸水素ナトリウム(840mg)の水(
20ml)溶液中に注ぎ、室温で30分間攪拌する。
The reaction mixture was mixed with sodium bicarbonate (840 mg) in water (
20 ml) solution and stir for 30 minutes at room temperature.

テトラヒドロフランを留去し、酢酸エチル(20ml)
で洗浄し、次いで酢酸エチル(20m1 )を水溶液に
加える。混合物を10%塩酸でpH2,0に調整して有
機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去
する。残渣をジイソプロピルエーテルで粉砕して、7−
[(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−ホルムアミ
ドデアゾール−4−イル)アセトアミトコ−3−[(テ
トラシロ[1,5−b]ピリダジン−6−イル)チオメ
チル]−3−セフェムー4−カルボン酸(690mg)
の粉末を得る。
Tetrahydrofuran was distilled off and ethyl acetate (20ml)
and then ethyl acetate (20 ml) is added to the aqueous solution. The mixture was adjusted to pH 2.0 with 10% hydrochloric acid, the organic layer was separated, dried over magnesium sulfate, and the solvent was distilled off. The residue was triturated with diisopropyl ether to give 7-
[(Z)-2-chloromethylene-2-(2-formamidodeazol-4-yl)acetamitoco-3-[(tetracylo[1,5-b]pyridazin-6-yl)thiomethyl]-3-cephemu 4 -Carboxylic acid (690mg)
powder is obtained.

NMR(DMSO−ds、S ) ’ 3−77 (2
H9br s)、4,27および4.63 (2H,A
Bq、J=14Hz>、 5.23 (IH。
NMR (DMSO-ds, S)' 3-77 (2
H9br s), 4,27 and 4.63 (2H,A
Bq, J=14Hz>, 5.23 (IH.

d、J=5Hz)、 5.83 <IH,ddJ=5H
z、8Hz>、 7.0(2H,s)、  7.77 
 (1)1.d、J=9Hz)、  8.50  (I
H,s)。
d, J=5Hz), 5.83 <IH, ddJ=5H
z, 8Hz>, 7.0 (2H, s), 7.77
(1)1. d, J=9Hz), 8.50 (I
H,s).

、  8.60 (LH,d、J=9Hz)、 9.6
3 (LH,d、J=8Hz)(2)N、N−ジメチル
ホルムアミド(1,0g)のテ、        トラ
ヒドロフラン(15ml)溶液にオキシ塩化燐1L。
, 8.60 (LH, d, J=9Hz), 9.6
3 (LH, d, J = 8 Hz) (2) 1 L of phosphorus oxychloride was added to a solution of N,N-dimethylformamide (1.0 g) in trahydrofuran (15 ml).

(8139mg )を加え、室温で30分間攪拌し、次
いで一20℃に冷却する。(Z)−2−クロロメチレン
−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)酢酸
(Lag)をこれに加え、反応混合物を−15〜−10
℃で30分間攪拌する。−1別に7−アミノ−3−[1
−(6,7−シヒドロー5H−1−ピリンジニオ)メチ
ルツー3−セフェム−4−カルボキシレート・モノ塩酸
塩(2,29g)、モノ(トリメチルシリル)アセトア
ミド(7,5g)およびテトラヒドロフラン(42m1
 )の混合物を35℃で5分間攪拌し、次いで一15°
Cに冷却する。この溶液を上記で得られる活性化酸溶液
に一15℃で一挙に加える。反応混合物を−15〜−1
0℃で30分間攪拌し、炭酸水素ナトリウム(2,4g
)の水(50ml)溶液中に注ぎ、室温で30分間攪拌
する。
(8139 mg) was added, stirred at room temperature for 30 minutes, and then cooled to -20°C. (Z)-2-chloromethylene-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetic acid (Lag) was added to this and the reaction mixture was
Stir for 30 minutes at °C. -1 separately 7-amino-3-[1
-(6,7-cyhydro-5H-1-pyrindinio)methyl-3-cephem-4-carboxylate monohydrochloride (2,29 g), mono(trimethylsilyl)acetamide (7,5 g) and tetrahydrofuran (42 ml
) was stirred at 35°C for 5 minutes, then at -15°C.
Cool to C. This solution is added all at once to the activated acid solution obtained above at -15°C. -15 to -1 reaction mixture
Stir at 0°C for 30 minutes, add sodium hydrogen carbonate (2.4g
) in water (50 ml) and stirred at room temperature for 30 minutes.

テトラヒドロフランを留去する。水溶液に酢酸エチルを
シロえ、混合物を10%塩酸でpH2、Oに調整して水
溶液を分取し、非イオン吸着樹脂ダイヤイオン’ HP
−20」(商d:三菱化成社製)(60ml)を使用す
るカラムクロマトグラフィーに付す、カラムを水(50
0m1 )で水洗後、30%メタノール水溶液(700
m1 )で溶出する。所望の化合物を含む画分を合わせ
、メタノールを留去し、凍結乾燥して、7−[(Z)−
2−りaoメfし’t−2−(2−ホルムアミドチアゾ
ール−4−イル)アセトアミトコ−3−[1−(6,7
−シヒドロー5H−1−ピリンジニオ)メチル]−3−
セフェムー4−カルボキシレート(1,07g)を粉末
として得る。
Tetrahydrofuran is distilled off. Add ethyl acetate to the aqueous solution, adjust the mixture to pH 2 and O with 10% hydrochloric acid, separate the aqueous solution, and add it to the nonionic adsorption resin Diaion' HP
-20'' (commercial d: manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) (60 ml).The column was subjected to column chromatography using water (50 ml).
After washing with water with 0ml), add 30% methanol aqueous solution (700ml).
m1). Fractions containing the desired compound were combined, methanol was distilled off, and lyophilized to give 7-[(Z)-
2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetamitoco-3-[1-(6,7
-Sihydro5H-1-pyrindinio)methyl]-3-
Cephemu 4-carboxylate (1,07 g) is obtained as a powder.

NMR(DMSO−da、S ) ’ 2−00−2−
40 (2H1m)。
NMR (DMSO-da, S)' 2-00-2-
40 (2H1m).

2.70−3.80 (6H,m)、 5.08 (I
H,d、J=5Hz)。
2.70-3.80 (6H, m), 5.08 (I
H, d, J = 5Hz).

5.22.5.45 (2H,ABq、J=14Hz>
、 5.66(IH,dd、J=5Hz、8Hz)、 
6.98 (IH,s)、 7.02(LH,s)、 
7.85 (IH,t、J=7Hz)、 8.30 (
LH,d。
5.22.5.45 (2H, ABq, J=14Hz>
, 5.66 (IH, dd, J=5Hz, 8Hz),
6.98 (IH, s), 7.02 (LH, s),
7.85 (IH, t, J=7Hz), 8.30 (
LH, d.

J=7Hz)、 8.48 (IH,s)、 9.20
 (IH,d、J=7Hz>。
J=7Hz), 8.48 (IH,s), 9.20
(IH, d, J=7Hz>.

9.55 (11(、d、J=8Hz)(3)!ニュU
と同様にして下記化合物を得る。
9.55 (11(,d,J=8Hz)(3)!New U
The following compound is obtained in the same manner as above.

7−C(Z)−2−クロロメチレン −2−(2−ホル
ムアミドチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−
(3−エチル−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム
−4−カルボキシレート。
7-C(Z)-2-chloromethylene-2-(2-formamidothiazol-4-yl)acetamide]-3-
(3-Ethyl-1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4-carboxylate.

NMR(DMSO−da−8) :1.25 (3H1
tJ=7Hz>、 2,80(2H,q、J=7Hz>
、 3.12および3.52 (2H,ABq。
NMR (DMSO-da-8): 1.25 (3H1
tJ=7Hz>, 2,80(2H,q, J=7Hz>
, 3.12 and 3.52 (2H, ABq.

J=18Hz)、 5.10 (IH,d、J=5Hz
>、 5.10および5.62 (2H,ABq、J=
14Hz)、  5.66 (IH,dd。
J=18Hz), 5.10 (IH, d, J=5Hz
>, 5.10 and 5.62 (2H, ABq, J=
14Hz), 5.66 (IH, dd.

J=5Hz、8Hz>、 6.99.(LH,s)、 
7.02 (IH,s)。
J=5Hz, 8Hz>, 6.99. (LH,s),
7.02 (IH,s).

8.06 (LH,t、J=7Hz>、 8.45 (
IH,d、J=7H2)。
8.06 (LH, t, J=7Hz>, 8.45 (
IH, d, J = 7H2).

8.48  (LH,s)、  9.30  (tH,
s)、  9.36  (IH,d。
8.48 (LH, s), 9.30 (tH,
s), 9.36 (IH, d.

J−7Hz>、  9.54 (IH,d、J=13H
z>X亙堡ユ (1)7−[(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−
ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセトアミトコ−
3−[(テトラゾロー[1,5−bコビリダジン−6−
イル)チオメチル]−3−セフェムー4−カルボンH(
650mg )およびメタノール(7ml)の混合物に
濃塩酸(0,22m1 )を加え、混合物を室温で1時
間攪拌し、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液をこれに加
えてpH7,0に調整する。混合物を減圧濃縮してメタ
ノールを除去し、酢酸エチルで洗浄し、次いで水溶液を
10%塩酸でpH2,0に調整する。沈殿を濾取して、
7−C(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−[(テト
ラシロ(1,5−bコピリダジン−6−イル)チオメチ
ルツー3−セフェム−4−カルボン酸(0,42g)を
粉末として得る。
J-7Hz>, 9.54 (IH, d, J=13H
z >
Formamidothiazol-4-yl)acetamitoco-
3-[(tetrazolow[1,5-b cobyridazine-6-
yl)thiomethyl]-3-cephemu-4-carvone H(
Concentrated hydrochloric acid (0.22 ml) is added to a mixture of 650 mg ) and methanol (7 ml), the mixture is stirred at room temperature for 1 hour, and then an aqueous sodium bicarbonate solution is added thereto to adjust the pH to 7.0. The mixture is concentrated under reduced pressure to remove methanol, washed with ethyl acetate, and the aqueous solution is then adjusted to pH 2.0 with 10% hydrochloric acid. Filter the precipitate,
7-C(Z)-2-chloromethylene-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-[(tetracylo(1,5-bcopyridazin-6-yl)thiomethyl2-3-cephem-4 - Carboxylic acid (0.42 g) is obtained as a powder.

mp、 170〜175℃く分解) NMR(DMSO−d6.S ) :9.5o (LH
,d、J=8Hz’)、 8.55(IH,d、J=9
Hz)、 7.71 (1B、d、J=9Hz)、 6
.80(LH,s)、 6.36 (IH,s)、 5
.76 (IH,dd、J=5Hz。
mp, decomposed at 170-175℃) NMR (DMSO-d6.S): 9.5o (LH
, d, J=8Hz'), 8.55(IH, d, J=9
Hz), 7.71 (1B, d, J=9Hz), 6
.. 80 (LH, s), 6.36 (IH, s), 5
.. 76 (IH, dd, J=5Hz.

8Hz)、 5.15 (IH,d、J=5Hz>、 
4.56および4.20 (21(、ABq、J=14
Hz)、 3.76および3.66(2H,ABq、J
=18Hz) (2)7−[(Z)−z−クロロメチレン−2−(2−
ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセトアミド]−
3−[:1−(6,7−シヒドロー5H−1−ピリンジ
ニオ)メチルツー3−セフェム−4−カルボキシレート
(1,0g)およびメタノール(10ml)の混合物に
製塩Ha (0,72m1 )を加える。混合物を室温
で1時間攪拌し、次いで炭酸水素ナトリウム水溶液をこ
れに加えて$)H7,Oに調整する。fj液を減圧濃縮
してメタノールを除去し、pH3,0に調整して非イオ
ン吸、1tst脂ダイヤイオン’ HP−20」(50
m1)を使用するカラムクロマトグラフィーに付す、カ
ラムを水(50m1 )で水洗後、30%メタノール水
溶液(500m1 )で溶出する。所望の化合物を含む
画分を合わせ、メタノールを留去し、凍結乾燥して、7
−[(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセトアミド]−3−[1−(6
,7−シヒドロー5H−1−ピリンジニオ)メチルツー
3−セフェム−4−カルボキシレート(650mg)を
粉末として得る。
8Hz), 5.15 (IH, d, J=5Hz>,
4.56 and 4.20 (21(, ABq, J=14
Hz), 3.76 and 3.66 (2H, ABq, J
= 18Hz) (2) 7-[(Z)-z-chloromethylene-2-(2-
formamidothiazol-4-yl)acetamide]-
Salted Ha (0.72 ml) is added to a mixture of 3-[:1-(6,7-cyhydro-5H-1-pyrindinio)methyl-3-cephem-4-carboxylate (1.0 g) and methanol (10 ml). The mixture is stirred at room temperature for 1 hour and then adjusted to $) H7,0 by adding aqueous sodium bicarbonate solution. fj liquid was concentrated under reduced pressure to remove methanol, adjusted to pH 3.0, non-ion absorbing,
After washing the column with water (50 ml), the column was eluted with 30% methanol aqueous solution (500 ml). Fractions containing the desired compound were combined, methanol was distilled off, and lyophilized to yield 7
-[(Z)-2-chloromethylene-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-[1-(6
,7-sihydro-5H-1-pyrindinio)methyl-3-cephem-4-carboxylate (650 mg) is obtained as a powder.

mp、150〜155℃(分解) NMR(DtjSO−ds、8−) ;9. as (
1)1.d、J=8Hz”)、 9.20(LH,d、
J=7Hz)、 8.30 (LH,d、、C7Hz>
、 7.85(IH,t、J=7Hz)、 7.08 
(2H,br s)、 6.78(IH,s)、 6.
34 (LH,s)、 5.63 (IH,dd、J=
5Hz。
mp, 150-155°C (decomposition) NMR (DtjSO-ds, 8-); 9. as (
1)1. d, J=8Hz”), 9.20(LH, d,
J=7Hz), 8.30 (LH,d,,C7Hz>
, 7.85 (IH, t, J=7Hz), 7.08
(2H, br s), 6.78 (IH, s), 6.
34 (LH, s), 5.63 (IH, dd, J=
5Hz.

8Hz)、 5.43およびs、20 (21(、AB
q、J=14Hz>。
8Hz), 5.43 and s, 20 (21(,AB
q, J=14Hz>.

5.05 (IH,d、J=5Hz)、  3.80−
2.70 (4H+2H,m)。
5.05 (IH, d, J=5Hz), 3.80-
2.70 (4H+2H, m).

2.4(1−2,0(2H,m) 〈3)実施例2−(1)と同様にして下記化合物を得る
2.4(1-2,0(2H,m) <3) The following compound is obtained in the same manner as in Example 2-(1).

7−[(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(3−エ
チル−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート。
7-[(Z)-2-chloromethylene-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-(3-ethyl-1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4-carboxylate.

NMR(DMSO−ds、l; ) :1−26 (3
H,t、J=7Hz)、 2.83(2H,q、J=7
Hz>、 3.LOおよび3.53 (21,ABq。
NMR (DMSO-ds, l; ): 1-26 (3
H, t, J = 7Hz), 2.83 (2H, q, J = 7
Hz>, 3. LO and 3.53 (21,ABq.

J=18Hz)、 5.10 (IH,d、J−5Hz
>、 5.10および5.63 (2H,ABq、J=
14Hz)、 5.66 (LH,dd。
J=18Hz), 5.10 (IH, d, J-5Hz
>, 5.10 and 5.63 (2H, ABq, J=
14Hz), 5.66 (LH, dd.

J=5Hz、8Hz>、 6.35 (IH,s)、 
6.80 (LH,s)。
J=5Hz, 8Hz>, 6.35 (IH,s),
6.80 (LH,s).

7.10 (2H,br s)、 13.05 (IH
,t、J=7Hz)、 8.45(LH,d、JニアH
z>、 9.30 (LH,s)、 9.35 (IH
,d。
7.10 (2H, br s), 13.05 (IH
, t, J=7Hz), 8.45(LH, d, J near H
z>, 9.30 (LH,s), 9.35 (IH
,d.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3はアミノ基または保護されたアミノ基; XおよびYはそれぞれ水素またはハロゲンを意味し; R^1はテトラゾロピリダジニルチオ基を意味しかつ、
R^2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を
意味するか;または R^1は1−ジヒドロピリンジニオ基または適当な置換
基を有する1−ピリジニオ基を意味しかつ、R^2は−
COO^■を意味する) で示される新規セフェム化合物およびその塩類。 2)R^3がアミノまたは低級アルカノイルアミノ; R^1がテトラゾロピリダジニルチオでかつRがカルボ
キシ;または R^1が1−ジヒドロピリンジニオまたは低級アルキル
を有する1−ピリジニオでかつR^2が−COO^■で
ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3)R^3がアミノまたはホルムアミド; XおよびYはそれぞれ水素またはクロロ; R^1がテトラゾロピリダジニルチオでかつR^2がカ
ルボキシ;または R^1が1−ジヒドロピリンジニオまたは3−エチル−
1−ピリジニオでかつR^2が−COO^■である特許
請求の範囲第2項記載の化合物。 4)7−[(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−[(
テトラゾロ[1,5−b]ピリダジン−6−イル)チオ
メチル]−3−セフェム−4−カルボン酸である特許請
求の範囲第3項記載の化合物。 5)7−[(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−[1
−(6,7−ジヒドロ−5H−1−ピリンジニオ)メチ
ル]−3−セフェム−4−カルボキシレートである特許
請求の範囲第3項記載の化合物。 6)7−[(Z)−2−クロロメチレン−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−(3
−エチル−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4
−カルボキシレートである特許請求の範囲第3項記載の
化合物。 7)(イ)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3はアミノ基または保護されたアミノ基; XおよびYはそれぞれ水素またはハロゲンを意味する) で示される化合物またはそのカルボキシ基における反応
性誘導体またはモの塩に、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はテトラゾロピリダジニルチオ基を意味
しかつ、 R^2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を
意味するか;または R^1は1−ジヒドロピリンジニオ基または適当な置換
基を有する1−ピリジニオ基を意味しかつ、R^2はC
OO^■を意味する) で示される化合物またはそのアミノ基における反応性誘
導体またはその塩を反応させて、式:▲数式、化学式、
表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、XおよびYはそれぞ
れ前と同じ意味) で示される化合物またはその塩を得るか、 または(ロ)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、XおよびYはそれぞれ前と同
じ意味であり、 R^3_aは保護されたアミノ基を意味する)で示され
る化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反応に付し
て、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、XおよびYはそれぞれ前と同
じ意味) で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする
、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3、XおよびYはそれぞ
れ前と同じ意味) で示される新規セフェム化合物またはその塩類の製造法
。 8)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3はアミノ基または保護されたアミノ基; XおよびYはそれぞれ水素またはハロゲンを意味し; R^1はテトラゾロピリダジニルチオ基を意味しかつ、
R^2はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基を
意味するか;または R^1は1−ジヒドロピリンジニオ基または適当な置換
基を有する1−ピリジニオ基を意味しかつ、R^2は−
COO^■を意味する) で示される新規セフェム化合物またはその塩類を有効成
分とする細菌感染症予防治療剤。
[Claims] 1) General formula: ▲ Numerical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (In the formula, R^3 is an amino group or a protected amino group; X and Y each mean hydrogen or halogen; R^1 means a tetrazolopyridazinylthio group, and
R^2 means a carboxy group or a protected carboxy group; or R^1 means a 1-dihydropyridinio group or a 1-pyridinio group with a suitable substituent, and R^2 is -
A novel cephem compound and its salts represented by COO^■. 2) R^3 is amino or lower alkanoylamino; R^1 is tetrazolopyridazinylthio and R is carboxy; or R^1 is 1-dihydropyridinio or 1-pyridinio with lower alkyl, and R The compound according to claim 1, wherein ^2 is -COO^■. 3) R^3 is amino or formamide; X and Y are each hydrogen or chloro; R^1 is tetrazolopyridazinylthio and R^2 is carboxy; or R^1 is 1-dihydropyridinio or 3) -Ethyl-
The compound according to claim 2, which is 1-pyridinio and R^2 is -COO^■. 4) 7-[(Z)-2-chloromethylene-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-[(
4. The compound according to claim 3, which is tetrazolo[1,5-b]pyridazin-6-yl)thiomethyl]-3-cephem-4-carboxylic acid. 5) 7-[(Z)-2-chloromethylene-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-[1
The compound according to claim 3, which is -(6,7-dihydro-5H-1-pyrindinio)methyl]-3-cephem-4-carboxylate. 6) 7-[(Z)-2-chloromethylene-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-(3
-ethyl-1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4
3. The compound according to claim 3, which is a -carboxylate. 7) Formula (A): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^3 is an amino group or a protected amino group; X and Y each mean hydrogen or halogen) Compounds represented by or its reactive derivatives or salts at the carboxy group have the formula: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (wherein, R^1 means a tetrazolopyridazinylthio group, and R^2 is represents a carboxy group or a protected carboxy group; or R^1 represents a 1-dihydropyridinio group or a 1-pyridinio group with a suitable substituent, and R^2 represents a C
(means OO^■) or its reactive derivative at the amino group or its salt is reacted to form the formula: ▲mathematical formula, chemical formula,
There are tables, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3, X and Y each have the same meaning as before) Or obtain the compound or its salt represented by (b) Formula: ▲Math. , chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1, R^2, X and Y each have the same meaning as before, and R^3_a means a protected amino group) or The salt is subjected to the elimination reaction of the amino protecting group, and the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2, X and Y each have the same meaning as before). A general formula characterized by obtaining the compound shown or its salt: ▲Mathematical formula, chemical formula, table, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3, X and Y are respectively the preceding and (same meaning) A method for producing a novel cephem compound or its salts. 8) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^3 is an amino group or a protected amino group; X and Y each mean hydrogen or halogen; R^1 is tetrazolo means a pyridazinylthio group, and
R^2 means a carboxy group or a protected carboxy group; or R^1 means a 1-dihydropyridinio group or a 1-pyridinio group with a suitable substituent, and R^2 is -
A prophylactic and therapeutic agent for bacterial infections containing a novel cephem compound represented by COO^■ or its salts as an active ingredient.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS62158291A (en) * 1986-01-07 1987-07-14 Sagami Chem Res Center Cephalosporin derivative

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JPS62158291A (en) * 1986-01-07 1987-07-14 Sagami Chem Res Center Cephalosporin derivative

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