JPS61243090A - Novel cephem compound and salt thereof - Google Patents

Novel cephem compound and salt thereof

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Publication number
JPS61243090A
JPS61243090A JP8093986A JP8093986A JPS61243090A JP S61243090 A JPS61243090 A JP S61243090A JP 8093986 A JP8093986 A JP 8093986A JP 8093986 A JP8093986 A JP 8093986A JP S61243090 A JPS61243090 A JP S61243090A
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JP
Japan
Prior art keywords
compound
group
acid
groups
reaction
Prior art date
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Pending
Application number
JP8093986A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takao Takatani
高谷 隆男
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Kenji Miyai
宮井 健二
Teruaki Matsuo
松尾 照明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS61243090A publication Critical patent/JPS61243090A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Nitrogen- Or Sulfur-Containing Heterocyclic Ring Compounds With Rings Of Six Or More Members (AREA)
  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula I [R<1> is (protected) COOH; R<2> is (protected) COOH or COO<->; R<3> is substitutable heterocyclic thiomethyl or pyridiniomethyl; X<1> and X<2> are halogen]. EXAMPLE:7-[2-(5-Amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoace tamido]-3-(1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4-carboxylate. USE:An antibacterial agent. PREPARATION:The compound of formula II and the compound of formula IV are used as starting raw materials, and are made to react with each other in a solvent usually THF, etc. When the compound of formula IV is used in the form of free acid (salt), the reaction is preferably carried out in the presence of a condensation agent such as Vilsmeier reagent. The compound of formula IV is a novel compound which can be produced according to the reaction formula by reacting the compound of formula VI with the compound of formula VII.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明の下記一般式(I)で示されるセフェム化合物
およびその塩は抗菌活性を有し、医薬として有用である
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Industrial Application Field" The cephem compound of the present invention represented by the following general formula (I) and its salts have antibacterial activity and are useful as medicines.

「従来の技術」 セフェム化合物は数多く知られているが、この発明の下
記一般式(I)で示されるセフェム化合物は知られてい
ない。
"Prior Art" Many cephem compounds are known, but the cephem compound represented by the following general formula (I) of the present invention is not known.

′発明が解決しようとする問題点。'The problem that the invention seeks to solve.

抗菌作用を有し、医薬として有用なセフェム化合物は数
多く知られているが、この発明はさらに優れた医薬品の
開発を意図してなされたものである。
Although many cephem compounds that have antibacterial effects and are useful as medicines are known, this invention was made with the intention of developing even better medicines.

r問題点を解決するための手段」 この発明は新規セフェム化合物およびその塩に関する。``Means for solving problems'' This invention relates to novel cephem compounds and salts thereof.

更に詳しくは、この発明は、抗菌活性を有する新規セフ
ェム化合物およびその塩に関する。
More specifically, this invention relates to novel cephem compounds and salts thereof having antibacterial activity.

目的とするセフェム化合物およびその塩は新規であり、
下記の一般式(1)で表わすことができる。
The target cephem compound and its salt are novel;
It can be represented by the following general formula (1).

(式中 R1はアミン基または保護されたアミノ基、 R2はカルボキシ基、−coo”または保護されたカル
ボキシ基、 R3は適当な置換基で置換されていてもよい複素環チオ
メチル基または適当な置換基で置換されていてもよいピ
リジニオメチル基、 xlはハロゲン、 X2はハロゲンをそれぞれ意味する)。
(In the formula, R1 is an amine group or a protected amino group, R2 is a carboxy group, -coo'' or a protected carboxy group, and R3 is a heterocyclic thiomethyl group that may be substituted with an appropriate substituent or an appropriate substituted a pyridiniomethyl group which may be substituted with a group, xl means a halogen, and X2 means a halogen).

この発明によれば、目的化合物(I)は下記製造法によ
り製造することができる。
According to this invention, the target compound (I) can be produced by the following production method.

1産韮ユ またはアミノ基に  またはカルボキシ基おけるその反
応性  におけるその反応性誘導体またはその  誘導
体またはその基塩 またはその塩 製造法2 またはその塩 (式中、R1、R2、R3、xlおよびx2はそれぞれ
前と同じ意味であり、 R1は保護きれたアミノ基を意味する)。
1. Reactive derivatives thereof, derivatives thereof, base salts thereof, or salts thereof, in the reaction of amino groups or carboxy groups (wherein R1, R2, R3, xl and Each has the same meaning as before, and R1 means a protected amino group).

原料化合物(III)は新規化合物であり、下記製造法
により製造することができる。
Raw material compound (III) is a new compound and can be produced by the following production method.

1産羞ム (II/)           (V)またはその塩
      またはその塩製造法B またはその塩      またはその塩製造法C またはその塩 またほその塩 製造法D (式中、R1、x 1およびX2はそれぞれ前と同じ意
味であり、 Wはカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 Yは酸残基、 Waは保護きれたカルボキシ基を意味する)。
1 production shame (II/) (V) or its salt or its salt production method B or its salt or its salt production method C or its salt or its salt production method D (wherein R1, x 1 and X2 are Each has the same meaning as before, W means a carboxy group or a protected carboxy group, Y means an acid residue, and Wa means a protected carboxy group).

化合物(I)、(Ia)、(Ib>、(III)、(I
I[a)、(IIb)および(VI)については、シン
異性体、アンチ異性体およびそれらの混合物が含まれる
ものとする。
Compounds (I), (Ia), (Ib>, (III), (I
Regarding I[a), (IIb) and (VI), syn isomers, anti-isomers and mixtures thereof are meant to be included.

例えば、目的化合物(I)について説明すれば、シン異
性体は下記式: (式中、R1、x 1およびx2はそれぞれ前と同じ意
味)で示される部分構造を有する一つの幾何異性体を意
味し、アンチ異性体は下記式=(式中、R1、xlおよ
びx2はそれぞれ前と同じ意味)で示される部分構造を
有する別の幾何異性体を意味する。
For example, regarding the target compound (I), the syn isomer means one geometric isomer having a partial structure represented by the following formula: However, the anti-isomer means another geometric isomer having a partial structure represented by the following formula = (wherein R1, xl and x2 each have the same meanings as before).

目的化合物(1)の好適な塩は慣用の無毒性塩であり、
例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、
例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類
金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例えばトリメ
チルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピッ
リン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N’ −ジベ
ンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えば酢酸
塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、ベ
ンゼンスルホン酸塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩等
の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、燐
酸塩等の無機酸塩、例えばアルギニン、アスパラギン酸
、グルタミン酸等のアミノ酸との塩等が挙げられる。
Suitable salts of the target compound (1) are conventional non-toxic salts,
For example, alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts,
For example, metal salts such as alkaline earth metal salts such as calcium salts and magnesium salts, ammonium salts such as trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, pilin salts, dicyclohexylamine salts, N,N'-dibenzylethylenediamine salts, etc. Organic base salts, such as acetates, maleates, tartrates, methanesulfonates, benzenesulfonates, formates, toluenesulfonates, etc.; organic acid salts, such as hydrochlorides, hydrobromides, sulfates; , inorganic acid salts such as phosphates, and salts with amino acids such as arginine, aspartic acid, and glutamic acid.

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含きれる種々の定義の例および説明を以下
詳細に述べる。
In the foregoing and following description of this specification, examples and explanations of various definitions that fall within the scope of this invention are set forth in detail below.

「低級」とは、特に指示がなければ、炭素原子1〜6個
を意味するものとする。
"Lower" shall mean 1 to 6 carbon atoms unless otherwise specified.

好適な1保護きれたアミノ基」としては、アシルアミノ
基、または例えばベンジル、トリチル等の少なくとも1
個の適当な置換基を有していてもよいアル(低級)アル
キル基のような慣用の保護基によって置換されたアミノ
基等が挙げられる。
Suitable monoprotected amino groups include acylamino groups, or at least one monoprotected amino group, such as benzyl, trityl, etc.
Examples thereof include amino groups substituted with conventional protecting groups such as al(lower) alkyl groups which may have one or more suitable substituents.

「アシルアミノ基、の好適なアシル部分としては、脂肪
族アシル基および芳香環または複素環を含むアシル基が
挙げられる。それらのアシル基の好適な例としては、例
えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ンブチリル、バレリル、インバレリル、オキサリル、ス
クシニル、ピバロイル等の低級アルカノイル基; 例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、1−シクロプロピルエトキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
、第三級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、ヘキシルオキシカルボニル等の低級アルフキジカル
ボニル基;例えばメシル、エタンスルホニル、プロパン
スルホニル、イソプロパンスルホニル、ブタンスルホニ
ル等の低級アルカンスルホニル基; 例えばベンゼンスルホニル、トシル等のアレーンスルホ
ニル基; 例えばベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフトイ
ル、フタロイル、インダンカルボニル等のアロイル基; イ列えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等の
アル(低級)アルカノイル基; 例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカ
ルボニル等のアル(低級)アルコキシカルボニル等が挙
げられる。上記アシル部分は塩素、臭素、フッ素および
沃素のようなハロゲン等のような適当な置換基少なくと
も1個を有していてもよい。
Preferred acyl moieties of the acylamino group include aliphatic acyl groups and acyl groups containing aromatic or heterocycles. Preferred examples of these acyl groups include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, Lower alkanoyl groups such as inbutyryl, valeryl, invaleryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl; e.g. methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl , hexyloxycarbonyl; lower alkanesulfonyl groups such as mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, isopropanesulfonyl, butanesulfonyl; arenesulfonyl groups such as benzenesulfonyl, tosyl; examples include benzoyl, toluoyl, Aroyl groups such as xyloyl, naphthoyl, phthaloyl, indancarbonyl; Al(lower) alkanoyl groups such as phenylacetyl and phenylpropionyl; Examples include al(lower) alkoxycarbonyl such as benzyloxycarbonyl and phenethyloxycarbonyl. The acyl moiety may have at least one suitable substituent such as halogen such as chlorine, bromine, fluorine and iodine.

好適な1保護きれたカルボキシ基」としては、エステル
化されたカルボキシ基等が挙げられ、それらのエステル
化されたカルボキシ基のエステル部分の好適な例として
は、例えばメチルエステル、エチルエステル、プロピル
エステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イ
ソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチルエ
ステル、ヘキシルエステル、1−シクロプロピルエチル
エステル等の、適当な置換基少なくとも1個を有してい
てもよい低級アルキルエステル、その例として、例えば
アセトキシメチルエステル、プロピオニルオキシメチル
エステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオ
キシメチルエステル、ピバロイルオキシメチルエステル
、2−アセトキシエチルエステル、2−プロピオニルオ
キシエチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエステ
ル等の低級アルカノイルオキシ(低級)アルキルエステ
4.例えば2−メシルニブルエステル等の低級アルカン
スルホニル(低級)アルキルエステルまたは例えば2−
ヨードエチルエステル、2.2.2−IJジクロロチル
エステル等のモノ(またはジまたはトリ)ハロ(低級)
アルキルエステル;例えばビニルエステル、アリルエス
テル等の低級アルケニルエステル;例えばエチニルエス
テノ呟プロピニルエステル等の低級アルキニルエステル
;例えばベンジルエステル、4−メトキシベンジルエス
テル、4−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステ
ル、トリチルエステノ呟ベンズヒドリルエステル、ビス
(メトキシフェニル)メチルエステル、3.4−ジメト
キシベンジルエステノ呟4−ヒドロキシ−3,5−ジ第
三級ブチルベンジルエステル等の適当な置換基少なくと
も1個を有していてもよいアル(低級)アルキルエステ
ル;例えばフェニルエステル、4−クロロフェニルエス
テル、トリルエステル、第三級ブチルフェニルエステル
、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエス
テル等の適当な置換基少なくとも1個を有していてもよ
いアリールエステル等のようなものが挙げられる。
Examples of suitable 1-protected carboxy groups include esterified carboxy groups, and preferable examples of the ester portions of these esterified carboxy groups include methyl ester, ethyl ester, propyl ester, etc. , lower alkyl esters which may have at least one suitable substituent, such as isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, tertiary butyl ester, pentyl ester, hexyl ester, 1-cyclopropylethyl ester; Examples include acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, 2-acetoxyethyl ester, 2-propionyloxyethyl ester, hexanoyloxymethyl ester Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as 4. Lower alkanesulfonyl (lower) alkyl esters such as e.g. 2-mesyl nibble ester or e.g.
Mono (or di or tri) halo (lower) such as iodoethyl ester, 2.2.2-IJ dichlorothyl ester, etc.
Alkyl esters; lower alkenyl esters such as vinyl esters and allyl esters; lower alkynyl esters such as ethynyl esters and propynyl esters; such as benzyl esters, 4-methoxybenzyl esters, 4-nitrobenzyl esters, phenethyl esters, trityl esters It has at least one suitable substituent such as benzhydryl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester, 4-hydroxy-3,5-ditertiary butylbenzyl ester, etc. Al(lower) alkyl esters which may have at least one suitable substituent; for example, phenyl esters, 4-chlorophenyl esters, tolyl esters, tertiary butylphenyl esters, xylyl esters, mesityl esters, cumenyl esters, etc. Examples include aryl esters that may be saturated.

「複素環チオメチル基」の好適な複素環部分とは、酸素
原子、イ才つ原子、窒素原子等のようなヘテロ原子少な
くとも1個を含む飽和または不飽和単環式または多環式
複素環基を意味する。特に好ましい複素環基としては、 例えば、ピロリル、ピロリニル、イミダゾリル、ピラゾ
リル、ピリジルおよびそのN−オキシト、ピリミジル、
ピラジニル、ピリダジニル、例えば4H−1,2,4−
トリアゾリル、I H−1゜2.3−1リアゾリル、2
H−1,2,3−トリアゾリル等のトリアゾリル、例え
ばIH−テトラゾリル、2H−テトラゾリル等のテトラ
ゾリル、例えば4.5−ジヒドロ−1,2,4−トリア
ジニル、2.5−ジヒドロ−1,2,4−トリアジニル
等のジヒドロトリアジニル等の窒素原子1〜4個を含む
不飽和3〜B員複素単環基; 例えば、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジノ
、ピペラジニル等の窒素原子1〜4個を含む飽和3〜8
員複素単環基; 例えば、インドリに一、イソインドリル、イントリジニ
ル、ベンズイミダゾリル、キノリル、イソキノリル、イ
ンダゾリル、ベンゾトリアゾリル、テトラシロピリジル
、例えばテトラシロ[1,5−bコピリダジニル等のテ
トラシロピリダジニル、ジヒrロトリアゾロビリダジニ
ル等の窒素原子1〜5個を含む不飽和縮合複素環基;例
えば、オキサシリル、イソオキサシリル、例えば1,2
.4−オキサジアゾリル、1.3.4−オキサジアゾリ
ル、1.2.5−オキサジアゾリル等のオキサジアゾリ
ル等の酸素原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む
不飽和3〜8員複素単環基; 例えば、モルホリニル等の酸素原子1〜2個および窒素
原子1〜3個を含む飽和3〜8員複素単環基; 例えば、ベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾリル
等の酸素原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不
飽和縮合複素環基; 例えば、チアゾリル、チアゾリジニル、例えば1.2.
4−チアジアゾリル、1.3.4−チアジアゾリル、1
,2.5−チアジアゾリル、1,2.3−チアジアゾリ
ル等のチアジアゾリル等のイオウ原子1〜2個および窒
素原子1〜3個を含む不飽和3〜8員複素単環基; 例えば、チアゾリジニル等のイオウ原子1〜2個および
窒素原子1〜3個を含む飽和3〜8員複素単環基; 例えば、チェニル等のイ才つ原子1個を含む不飽和3〜
8員複素単環基; 例えば、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル等の
イ才つ原子1〜2個および窒素原子1〜3個を含む不飽
和縮合複素環基等のような複素環基が挙げられ、 前記複素環基は例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、シクロペン
チル、ヘキシル、シクロヘキシル等の低級アルキル基;
例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ等の低級
アルキルチオ基;例えばビニル、アリル、ブテニル等の
低級アルケニル基;例えばビニルチオ、アリルチオ、ブ
テニルチオ等の低級アルケニルチオ基;ヒドロキシ基;
例えばフェニル、トリル等のアリール基;例えば塩素、
臭素、沃素またはフッ素のようなハロゲン;アミノ基;
例えばジメチルアミンメチル、ジメチルアミノエチル、
ジメチルアミノプロピノ呟 ジエチルアミンプロピノ呟
 ジエチルアミノブチル等のジ(低級)アルキルアミノ
(低級)アルキル基;例えばカルボキシメチル カルボキシプロピル等のカルボキシ(低級)アルキル基
:エステル化されたカルボキシ部分が前に例示したもの
であるエステル化されたカルボキシ(低級)アルキル基
;例えばアミノメチル、アミノエチル、アミノプロピル
、1−アミノメチルエチル、アミノブチル、アミノヘキ
シル等のアミノ(低級)アルキル基;保護されたアミン
部分および低級アルキル部分がそれぞれ前に例示したよ
うなものである保護きれたアミン(低級)アルキル基、
好ましくは例えばメトキシカルボニルアミノメチル、エ
トキシカルボニルアミノメチル、第三級ブトキシカルボ
ニルアミノメチル、第三級ブトキシカルボニルアミノエ
チル、第三級プトキシ力ルポニルアミノブロピル等の低
級アルコキシカルボニルアミノ(低級)アルキル基また
は例えばアセチルアミノメチル、アセチルアミノエチル
、アセチルアミノプロピル、1−アセチルアミノメチル
エチル等の低級アルカノイルアミノ(低級)アルキル基
;カルボキシ基;オキソ基;前に例示し゛たようなエス
テル化されたカルボキシ基、好ましくは低級アルコキシ
カルボニル基:例えばメトキシメチル、メトキシエチル
、メトキシプロピル、エトキシメチル、エトキシエチル
等の低級アルコキシ(低級)アルキル基;例えばヒドロ
キシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシエチル、ヒ
ドロキシブチル等のヒドロキシ(低級)アルキル基;例
えばメチルチオメチル、メチルチオエチル、メチルチオ
プロピル、エチルチオメチル等の低級アルキルチオ(低
級)アルキル基;例えばスルホメチル、スルホエチル、
スルホプロピル、スルホブチル等のスルホ(低級)アル
キル基;アシル部分および低級アルキル部分がそれぞれ
前に例示したようなものであるアシル(低級)アルキル
基、好ましくは例えばメシルメチル、メシルエチル、エ
タンスルホニルメチル等の低級アルカンスルホニル(低
級)アルキル基;アシル部分および低級アルキル部分が
それぞれ前に例示したようなものであるアシルアミノ(
低級)アルキル基、好ましくは例えばメシルアミノメチ
ル、メシルアミノエチル、メシルアミノプロピル、エタ
ンスルホニルアミンメチル等の低級アルカンスルホニル
アミノ(低級)アルキル基;例えばカルボキシメチルチ
オ、カルボキシエチルチオ等のカルボキシ(低級)アル
キルチオ基;例えばモルホリノメチル、モルホリノエチ
ル、モルホリノプロピル等のモルホリノ(低級)アルキ
ル基;例えばピペリジノメチル、ピペリジノエチル、ピ
ペリジノプロビル等のピペリジノ(低級)アルキル基;
例えば4−メチル−1−ピペラジニルプロビル等の低級
アルキル基で置換されていてもよいピペラジニル(低級
)アルキル基等のような適当な置換基1〜3個で置換さ
れていてもよい。
A suitable heterocyclic moiety of "heterocyclic thiomethyl group" refers to a saturated or unsaturated monocyclic or polycyclic heterocyclic group containing at least one heteroatom such as an oxygen atom, an atom, a nitrogen atom, etc. means. Particularly preferred heterocyclic groups include, for example, pyrrolyl, pyrrolinyl, imidazolyl, pyrazolyl, pyridyl and its N-oxyto, pyrimidyl,
Pyrazinyl, pyridazinyl, e.g. 4H-1,2,4-
Triazolyl, I H-1゜2.3-1 Riazolyl, 2
Triazolyl such as H-1,2,3-triazolyl, e.g. IH-tetrazolyl, tetrazolyl such as 2H-tetrazolyl, e.g. 4,5-dihydro-1,2,4-triazinyl, 2,5-dihydro-1,2, Unsaturated 3- to B-membered heteromonocyclic groups containing 1 to 4 nitrogen atoms, such as dihydrotriazinyl such as 4-triazinyl; For example, saturated 3- to B-membered heteromonocyclic groups containing 1 to 4 nitrogen atoms, such as pyrrolidinyl, imidazolidinyl, piperidino, piperazinyl, etc. 3-8
Member heteromonocyclic groups; for example, indolyl, isoindolyl, intridinyl, benzimidazolyl, quinolyl, isoquinolyl, indazolyl, benzotriazolyl, tetracylopyridyl, tetracylopyridazine such as tetracylo[1,5-bcopyridazinyl] unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 5 nitrogen atoms such as
.. an unsaturated 3- to 8-membered heteromonocyclic group containing 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as oxadiazolyl, such as 4-oxadiazolyl, 1.3.4-oxadiazolyl, and 1.2.5-oxadiazolyl; For example, a saturated 3- to 8-membered heteromonocyclic group containing 1 to 2 oxygen atoms and 1 to 3 nitrogen atoms, such as morpholinyl; For example, 1 to 2 oxygen atoms and nitrogen, such as benzoxacylyl, benzoxadiazolyl, etc. Unsaturated fused heterocyclic groups containing 1 to 3 atoms; for example thiazolyl, thiazolidinyl, for example 1.2.
4-thiadiazolyl, 1.3.4-thiadiazolyl, 1
, 2.5-thiadiazolyl, 1,2.3-thiadiazolyl, and other unsaturated 3- to 8-membered heteromonocyclic groups containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms; For example, thiazolidinyl, etc. a saturated 3- to 8-membered heteromonocyclic group containing 1 to 2 sulfur atoms and 1 to 3 nitrogen atoms;
8-membered heteromonocyclic group; For example, a heterocyclic group such as an unsaturated fused heterocyclic group containing 1 to 2 carbon atoms and 1 to 3 nitrogen atoms such as benzothiazolyl and benzothiadiazolyl can be mentioned. , the heterocyclic group is, for example, a lower alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, cyclopentyl, hexyl, cyclohexyl;
For example, lower alkylthio groups such as methylthio, ethylthio, propylthio; lower alkenyl groups such as vinyl, allyl, butenyl; lower alkenylthio groups such as vinylthio, allylthio, butenylthio; hydroxy groups;
Aryl groups such as phenyl, tolyl; e.g. chlorine,
halogens such as bromine, iodine or fluorine; amino groups;
For example, dimethylamine methyl, dimethylaminoethyl,
Dimethylaminopropyl group Di(lower)alkylamino(lower)alkyl group such as diethylaminobutyl; Carboxy(lower)alkyl group such as carboxymethylcarboxypropyl: The esterified carboxy moiety is exemplified above. Esterified carboxy(lower)alkyl groups that are esters; amino(lower)alkyl groups such as aminomethyl, aminoethyl, aminopropyl, 1-aminomethylethyl, aminobutyl, aminohexyl; protected amine moieties and a protected amine (lower) alkyl group, in which the lower alkyl moieties are each as exemplified above;
Preferably lower alkoxycarbonylamino (lower) alkyl groups such as methoxycarbonylaminomethyl, ethoxycarbonylaminomethyl, tertiary butoxycarbonylaminomethyl, tertiary butoxycarbonylaminoethyl, tertiary butoxycarbonylaminopropyl, etc. or a lower alkanoylamino (lower) alkyl group such as acetylaminomethyl, acetylaminoethyl, acetylaminopropyl, 1-acetylaminomethylethyl; a carboxy group; an oxo group; an esterified carboxy group such as those exemplified above. , preferably lower alkoxycarbonyl groups: lower alkoxy (lower) alkyl groups such as methoxymethyl, methoxyethyl, methoxypropyl, ethoxymethyl, ethoxyethyl; hydroxy (lower) alkyl groups such as hydroxymethyl, hydroxyethyl, hydroxyethyl, hydroxybutyl; ) Alkyl group; for example, lower alkylthio (lower) alkyl group such as methylthiomethyl, methylthioethyl, methylthiopropyl, ethylthiomethyl; for example, sulfomethyl, sulfoethyl,
Sulfo(lower)alkyl groups such as sulfopropyl, sulfobutyl; acyl(lower)alkyl groups in which the acyl and lower alkyl moieties are respectively as exemplified above, preferably lower such as mesylmethyl, mesylethyl, ethanesulfonylmethyl; Alkanesulfonyl (lower)alkyl group; acylamino (
lower)alkyl groups, preferably lower alkanesulfonylamino(lower)alkyl groups such as, for example, mesylaminomethyl, mesylaminoethyl, mesylaminopropyl, ethanesulfonylaminemethyl; carboxy(lower)alkylthio, such as carboxymethylthio, carboxyethylthio, etc. groups; e.g. morpholino (lower) alkyl groups such as morpholinomethyl, morpholinoethyl, morpholinopropyl; piperidino (lower) alkyl groups such as piperidinomethyl, piperidinoethyl, piperidinopropyl;
For example, it may be substituted with 1 to 3 suitable substituents such as a piperazinyl (lower) alkyl group which may be substituted with a lower alkyl group such as 4-methyl-1-piperazinylprobyl.

「適当な置換基で置換きれていてもよいピリジニオメチ
ル基」の好適なr置換基」としては、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、
第三級ブチル、ペンチル、第三級ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル基等が挙げられる。
Examples of "preferred r substituent for the pyridiniomethyl group which may be substituted with a suitable substituent" include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl,
Examples include lower alkyl groups such as tertiary butyl, pentyl, tertiary pentyl, and hexyl.

好適な「ハロゲン」としては塩素、臭素、フッ素および
沃素が挙げられるが、好ましいものはフッ素である。
Suitable "halogens" include chlorine, bromine, fluorine and iodine, with fluorine being preferred.

好適な「酸残基」としては、例えばフッ素、塩素、臭素
または沃素のようなハロゲン等が挙げられる。
Suitable "acid residues" include, for example, halogens such as fluorine, chlorine, bromine or iodine.

目的化合物(I)の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。
Preferred embodiments of the target compound (I) are as follows.

R1の好ましい実施態様は、アミノ基またはアル(低級
)アルキルアミノ基(さらに好ましくはトリフェニル(
低級)アルキルアミノ基、最も好ましくはトリチルアミ
ノ基)、 Rの好ましい実施態様はカルボキシ基、−cooeまた
はエステル化されたカルボキシ基(さらに好ましくはア
ル(低級)アルフキジカルボニル基、最も好ましくはベ
ンズヒドリルオキシカルボニル基)、 R3の好ましい実施態様はチアジアゾリルチオメチル基
(さらに好ましくは、1.3.4−チアジアゾリルチオ
メチル基、1.2.4−チアジアゾリルチオメチル基ま
たは1.2.3−デアジアゾリルチオメチル基); 低級アルキル基で置換きれたチアジアゾリルチオメチル
基(さらに好ましくは低級アルキル基で置換された1、
2.4−チアジアゾリルチオメチル基); 低級アルケニル基で置換されたデアジアゾリルチオメチ
ル基(さらに好ましくは低級アルケニル基で置換された
1、2.4−チアジアゾリルチオメチル基); オキソ基、ヒドロキシ基および低級アルキル基で置換さ
れたジヒドロトリアジニルチオメチル基(さらに好まし
くはオキソ基、ヒドロキシ基および低級アルキル基で置
換された4、5−ジヒドロ−1,2,4−トリアジニル
チオメチル基);ピリジニオメチル基;または2個の低
級アルキル基で置換されたピリジニオメチル基、 Xlの好ましい実施態様はハロゲン(さらに好ましくは
フッ素)、 X2の好ましい実施態様はハロゲン(さらに好ましくは
フッ素)である。
A preferred embodiment of R1 is an amino group or an al(lower)alkylamino group (more preferably triphenyl(
A preferred embodiment of R is a carboxy group, -cooe or an esterified carboxy group (more preferably an al(lower) alkyl dicarbonyl group, most preferably a benzyl) A preferred embodiment of R3 is a thiadiazolylthiomethyl group (more preferably a 1.3.4-thiadiazolylthiomethyl group, a 1.2.4-thiadiazolylthiomethyl group, or a 1.2.4-thiadiazolylthiomethyl group). .2.3-deadiazolylthiomethyl group); thiadiazolylthiomethyl group substituted with a lower alkyl group (more preferably 1, substituted with a lower alkyl group);
2.4-thiadiazolylthiomethyl group); deadiazolylthiomethyl group substituted with a lower alkenyl group (more preferably a 1,2.4-thiadiazolylthiomethyl group substituted with a lower alkenyl group); A dihydrotriazinylthiomethyl group substituted with an oxo group, a hydroxy group, and a lower alkyl group (more preferably a 4,5-dihydro-1,2,4-triazinyl group substituted with an oxo group, a hydroxy group, and a lower alkyl group) a pyridiniomethyl group; or a pyridiniomethyl group substituted with two lower alkyl groups; a preferred embodiment of Xl is halogen (more preferably fluorine); a preferred embodiment of X2 is halogen (more preferably fluorine); be.

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the object compound of the present invention will be explained in detail below.

1菫羞ユ 目的化合物(I)またはその塩は、化合物(I[)また
はアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩を、
化合物(I[I)またはカルボキシ基におけるその反応
性誘導体またはその塩と反応させることにより製造する
ことができる。
1. The target compound (I) or a salt thereof is a compound (I[) or a reactive derivative thereof at the amino group or a salt thereof,
It can be produced by reacting with compound (I[I) or a reactive derivative thereof or a salt thereof at the carboxy group.

化合物(I)のアミノ基における好適な反応性誘導体と
しては、化合物(I)とアルデヒド、ケトン等のような
カルボニル化合物との反応によって生成するシッフの塩
基型イミノ基またはそのエナミン型互変異性体;化合物
(I[)とN、O−ビス(トリメチルシリル)アセトア
ミド、N−トリメチルシリルアセトアミド等のようなシ
リル化合物との反応によって生成するシリル誘導体;化
合物(I[)と三塩化燐またはホスゲンとの反応によっ
て生成する誘導体等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives of the amino group of compound (I) include Schiff's base-type imino group or its enamine-type tautomer formed by the reaction of compound (I) with a carbonyl compound such as an aldehyde, a ketone, etc. ; Silyl derivatives produced by the reaction of compound (I[) with silyl compounds such as N, O-bis(trimethylsilyl)acetamide, N-trimethylsilylacetamide, etc.; reaction of compound (I[) with phosphorus trichloride or phosgene; Examples include derivatives produced by.

化合物(IF)および(III)の好適な塩としては、
化° 合物(I)について例示したようなものが挙げら
れる。
Suitable salts of compounds (IF) and (III) include:
Examples include those exemplified for compound (I).

化合物(III)のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化ア
ミド、活性化エステル等が挙げられる。
Suitable reactive derivatives at the carboxy group of compound (III) include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, and the like.

その好適な例としては、酸塩化物、酸アジド;例えばジ
アルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジベン
ジル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換された燐酸、ジアル
キル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、例えばメタンスルホン
酸、エタンスルホン酸等のアルカンスルホン酸、硫酸、
アルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、イソペ
ンタン酸、2−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の脂
肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボ
ン酸のような酸との混合酸無水物;対称酸無水物;イミ
ダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール
、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性化アミド;
または例えばシアノメチルエステル、メトキシメチルエ
ステル、ジメチルイミノメチル[:(CH3)2N=C
H−]エステル、ビニルエステル、プロパルギルエステ
ル、p−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニトロフ
ェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、ペンタ
クロロフェニルエステル、メシルフェニルエステル、フ
ェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオエステル、
p−ニトロフェニルチオエステル、p−タレシルチオエ
ステル、カルボキシメチルチオエステル、ピラニルエス
テル、ピリジルエステル、ピペリジルエステル、8−キ
ノリルチオエステル部の活性化エステル、または例えば
N、N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ
−2−(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシスクシンイ
ミド、N−ヒドロキシフタルイミド、1−ヒドロキシ−
6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール等(7) N−
ヒドロキシ化合物とのエステル等が挙げられる。
Suitable examples include acid chlorides, acid azides; substituted phosphoric acids such as dialkyl phosphoric acid, phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, dialkyl phosphorous acid, sulfurous acid, thiosulfuric acid, such as methanesulfonic acid. , alkanesulfonic acids such as ethanesulfonic acid, sulfuric acid,
Mixed acid anhydrides with acids such as alkyl carbonates, aliphatic carboxylic acids such as pivalic acid, pentanoic acid, isopentanoic acid, 2-ethylbutyric acid or trichloroacetic acid or aromatic carboxylic acids such as benzoic acid; symmetrical acid anhydrides activated amides with imidazoles, 4-substituted imidazoles, dimethylpyrazoles, triazoles or tetrazoles;
or for example cyanomethyl ester, methoxymethyl ester, dimethyliminomethyl [:(CH3)2N=C
H-] ester, vinyl ester, propargyl ester, p-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthio ester,
p-nitrophenylthioester, p-talesylthioester, carboxymethylthioester, pyranyl ester, pyridyl ester, piperidyl ester, activated ester of the 8-quinolylthioester moiety, or e.g. N,N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy- 2-(IH)-pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, 1-hydroxy-
6-chloro-IH-benzotriazole etc. (7) N-
Examples include esters with hydroxy compounds.

これらの反応性誘導体は使用きれる化合物(III)の
種類によってそれらの中から任意に選択される。
These reactive derivatives are arbitrarily selected from among them depending on the type of compound (III) that can be used.

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホルム
アミド、ピリジンのような慣用の溶媒中で行われるが、
反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかな
る重機溶媒中でも反応を行うことができる。これらの慣
用の溶媒は水と混合して使用してもよい。
The reaction is usually carried out in conventional solvents such as water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, pyridine,
The reaction can be carried out in any other heavy machinery solvent as long as it does not adversely affect the reaction. These conventional solvents may be used in combination with water.

化合物(II[>を遊離酸の形またはその塩の形で反応
に使用する場合には、反応をN、 N’ −ジシクロへ
キシルカルボジイミド;N−シクロヘキシル−N’−モ
ルホリノエチルカルボジイミド、N−シクロへキシル−
N’−(4−ジエチルアミノシクロヘキシル)カルボジ
イミド; N、N’ −ジエチルカルボジイミド、N、
N’ −ジイソプロピルカルボジイミド;N−エチル−
N’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド
、N、N−カルボニルビス(2−メチルイミダゾールン
タメチレンケテン−N−シクロヘキシルイミン;ジフェ
ニルケテン−N−シクロヘキシルイミン;エトキシアセ
チレン;1−アルコキシ−1−クロロエチレン;亜燐酸
トリアルキル;ポリ燐酸エチル:ポリ燐酸イソプロピル
;オキシ塩化燐(塩化ホスホリル);三塩化溝;塩化チ
オニル;塩化オキサリル;トIJ.フェニルホスフィン
;2ーエチル−7−ヒトロキシベンズイソオキサゾリウ
ム塩;2−エチル−5−(m−スルホフェニル)゛イソ
オキサゾリウムヒドロキシド分子内塩;1−(p−クロ
ロベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−IH−ベ
ンゾトリアゾール;N.N−シメチルホルムアミドと塩
化チオニル、ホスゲン、オキシ塩化燐等との反応によっ
て製造されたいわゆるビルスマイヤー試薬等のような慣
用の縮合剤の存在下に行うのが好ましい。
When the compound (II [>) is used in the reaction in the form of the free acid or its salt, the reaction is carried out with N, N'-dicyclohexylcarbodiimide;N-cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide, N-cyclo hexyl
N'-(4-diethylaminocyclohexyl)carbodiimide;N,N'-diethylcarbodiimide, N,
N'-diisopropylcarbodiimide; N-ethyl-
N'-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide, N,N-carbonylbis(2-methylimidazolentamethyleneketene-N-cyclohexylimine; diphenylketene-N-cyclohexylimine; ethoxyacetylene; 1-alkoxy-1-chloro Ethylene; trialkyl phosphite; polyethyl phosphate: isopropyl polyphosphate; phosphorus oxychloride (phosphoryl chloride); trichloride groove; thionyl chloride; oxalyl chloride; 2-ethyl-5-(m-sulfophenyl) isoxazolium hydroxide inner salt; 1-(p-chlorobenzenesulfonyloxy)-6-chloro-IH-benzotriazole; Preferably, it is carried out in the presence of a conventional condensing agent, such as the so-called Vilsmeier reagent prepared by the reaction of methylformamide with thionyl chloride, phosgene, phosphorus oxychloride, and the like.

反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)アル
キルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモルホリ
ン、 N、N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等の
ような無機塩基または有機塩基の存在下に行ってもよい
。反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下または
常温で反応が行われる。
The reaction can also be carried out in the presence of inorganic or organic bases such as alkali metal bicarbonates, tri(lower)alkylamines, pyridine, N-(lower)alkylmorpholines, N,N-di(lower)alkylbenzylamines, etc. You may go. Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or at room temperature.

製Jl糺至 目的化合物(Ib)またはその塩は、化合物(I a)
またはその塩をアミン保護基の脱離反応に付すことによ
り製造することができる。
The target compound (Ib) or a salt thereof is compound (Ia)
Alternatively, it can be produced by subjecting a salt thereof to an elimination reaction of an amine protecting group.

化合物(Ia>および(Ib)の好適な塩としては、化
合物(I)について例示したようなものを挙げることが
できる。
Suitable salts of compounds (Ia> and (Ib)) include those exemplified for compound (I).

脱離反応は加水分解;還元、R1の保護されたアミン基
がアシルアミノ基である化合物(Ia)をイミノハロゲ
ン化剤、イミノエーテル化剤で処理し、次いで必要に応
じて生成物を加水分解する方法等のような慣用の方法に
よって行うことができる。加水分解としては酸または塩
基またはヒドラジン等を使用する方法が挙げられる。こ
れらの方法は脱離すべき保護基の種類によって選択すれ
ばよい。
The elimination reaction is hydrolysis; reduction, the compound (Ia) in which the protected amine group of R1 is an acylamino group is treated with an iminohalogenating agent and an iminoetherifying agent, and then the product is hydrolyzed as necessary. It can be carried out by conventional methods such as methods. Examples of hydrolysis include methods using acids, bases, hydrazine, and the like. These methods may be selected depending on the type of protecting group to be removed.

これらの方法中、酸を使用する加水分解は、例えば、第
三級ペンチルオキシカルボニル基、例えばホルミル、ア
セチル等の低級アルカノイル基、シクロアルフキジカル
ボニル基、置換きれたまたは非置換アラルコキシカルボ
ニル基のような置換されたまたは非置換アルコキシカル
ボニル基、例えばトリチル等のアラルキル基、置換され
たフェニルチオ基、置換されたアラルキリデン基、置換
されたアルキリデン基、置換きれたシクロアルキリデン
基等のような保護基の脱離に最も一般的な好ましい方法
の一つである。
In these methods, hydrolysis using acids can be performed, for example, on tertiary pentyloxycarbonyl groups, lower alkanoyl groups such as formyl, acetyl, cycloalfkydicarbonyl groups, substituted or unsubstituted aralkoxycarbonyl groups. Protecting groups such as substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl groups, e.g. aralkyl groups such as trityl, substituted phenylthio groups, substituted aralkylidene groups, substituted alkylidene groups, substituted cycloalkylidene groups, etc. is one of the most common and preferred methods for the desorption of

好適な酸としてはギ酸、トリフルオす酢酸、ベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスルホン酸、塩酸等のような有
機酸または無機酸が挙げられるが最も適した酸は、例え
ば、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸等の、減圧蒸留のよ
うな常法によって反応混合物から容易に回収きれうる酸
である。酸は脱離すべき保護基の種類によって選択する
ことができる。脱離反応を酸で行なう場合、溶媒の存在
下または存在許せずに反応を行うことができる。
Suitable acids include organic or inorganic acids such as formic acid, trifluoroacetic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, hydrochloric acid, etc., but the most suitable acids include, for example, formic acid, trifluoroacetic acid, hydrochloric acid, etc. It is an acid that can be easily recovered from the reaction mixture by conventional methods such as vacuum distillation. The acid can be selected depending on the type of protecting group to be removed. When the elimination reaction is carried out with an acid, the reaction can be carried out in the presence or absence of a solvent.

好適な溶媒としては水、塩化メチレン、例えばメタノー
ル、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフランま
たは反応に悪影響を及ぼきないあらゆるその他の有機溶
媒またはそれらの混合物が挙げられる。
Suitable solvents include water, methylene chloride, alcohols such as methanol, ethanol, tetrahydrofuran or any other organic solvent or mixtures thereof that do not adversely affect the reaction.

トリフルオロ酢酸を使用する脱離反応はアニソールの存
在下に行ってもよい。
Elimination reactions using trifluoroacetic acid may be carried out in the presence of anisole.

ヒドラジンを使用する加水分解はフタロイル型、スクシ
ニル型アミノ保護基の脱離に共通して適用される。
Hydrolysis using hydrazine is commonly applied to remove phthaloyl- and succinyl-type amino protecting groups.

塩基を使用する脱離はトリフルオロアセチル基のような
アシル基の脱離に使用される。
Elimination using a base is used to eliminate acyl groups such as trifluoroacetyl groups.

好適な塩基としては無機塩基および有機塩基が挙げられ
る。
Suitable bases include inorganic bases and organic bases.

還元による脱離は一般的には、例を挙げると、例えばト
リクロロエトキシカノシポニル等のハロアルコキシカル
ボニル基、例えばベンジルオキシカルボニル等の置換き
れたまたは非置換アラルコキシカルボニル基、2−ピリ
ジルメトキシカルボニル基等の保護基の脱離に適用され
る。好適な還元法としては、例えば水素化ホウ素ナトリ
ウム等の水素化ホウ素アルカリ金属による還元:例えば
スズ、亜鉛、鉄等の金属またはそれらの金属および例え
ば塩化第一クロム、酢酸第一クロム等の金属塩と、例え
ば酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸または無機酸と
の組合わせ;および接触還元がその例として挙げられる
。好適な触媒としては、例えば、ラネーニッケル、酸化
白金、パラジウム−炭素等の慣用の触媒が挙げられる。
Elimination by reduction generally includes, for example, haloalkoxycarbonyl groups such as trichloroethoxycanosyponyl, substituted or unsubstituted aralkoxycarbonyl groups such as benzyloxycarbonyl, 2-pyridyl, etc. Applicable for removing protective groups such as methoxycarbonyl groups. Suitable reduction methods include, for example, reduction with alkali metal borohydrides, such as sodium borohydride; metals such as tin, zinc, iron, and metal salts thereof, such as chromous chloride, chromous acetate, etc. and combinations with organic or inorganic acids such as acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid; and catalytic reduction. Suitable catalysts include conventional catalysts such as Raney nickel, platinum oxide, palladium-carbon, and the like.

保護基中、アシル基は一般的には加水分解によって脱離
される。特に、ハロゲン置換アルコキシカルボニル基お
よび8−キノリルオキシカルボニル基は通常、銅、亜鉛
等のような重金属処理によって脱離きれる。
Among the protecting groups, the acyl group is generally removed by hydrolysis. In particular, halogen-substituted alkoxycarbonyl groups and 8-quinolyloxycarbonyl groups are usually eliminated by treatment with heavy metals such as copper, zinc, and the like.

保護基中アシル基はまた、例えばオキシ塩化嬶等のイミ
ノハロゲン化剤、次いで例えばメタノール、エタノール
等の低級アルカノールのようなイミノエーテル化剤で処
理し、必要に応じて加水分解することにより脱離するこ
ともできる。
The acyl group in the protecting group can also be removed by treatment with an iminohalogenating agent such as oxychloride, followed by an iminoetherifying agent such as a lower alkanol such as methanol or ethanol, and optionally hydrolysis. You can also.

反応温度は特に限定きれず、アミノ保護基の種類および
上記脱離法の種類によって適宜選択すればよく、反応は
通常冷却下または若干温度を上昇させる程度のような温
和な条件下に行われる。
The reaction temperature is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the type of amino protecting group and the type of the above-mentioned elimination method, and the reaction is usually carried out under mild conditions such as cooling or a slight increase in temperature.

この反応においては、R2の保護されたカルボキシ基が
上記脱離反応の過程において、または反応混合物または
反応生成物の後処理中に遊離カルボキシ基に変化する場
合もその範囲内に包含される。
In this reaction, cases where the protected carboxy group of R2 is converted into a free carboxy group during the course of the above-mentioned elimination reaction or during work-up of the reaction mixture or reaction product are also included within its scope.

原料化合物(III)の製造法を以下詳細に説明する。The method for producing the raw material compound (III) will be explained in detail below.

製造法A 化合物(V)またはその塩は、化合物(IV)またはそ
の塩を酸化することにより製造することができる。
Production method A Compound (V) or a salt thereof can be produced by oxidizing compound (IV) or a salt thereof.

化合物(IV)および(V)の好適な塩については、化
合物(I)について例示したようなものを参照すればよ
い。
For suitable salts of compounds (IV) and (V), reference may be made to those exemplified for compound (I).

この酸化反応はいわゆる活性メチレン基のカルボニル基
への変換に適用される常法により行われる。すなわち、
この酸化は二酸化セレン等を使用する酸化のような慣用
の方法によって行われる。
This oxidation reaction is carried out by a conventional method applied to the conversion of so-called active methylene groups into carbonyl groups. That is,
This oxidation is carried out by conventional methods such as oxidation using selenium dioxide or the like.

この反応は通常、反応に悪影響を及ぼきない慣用の溶媒
中で行われる。
This reaction is usually carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定されないが、通常は加温下ないし加
熱下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out with or without heating.

製造法B 化合物(Vl)またはその塩は、化合物(V)またはそ
の塩をヒドロキシルアミンまたはその塩と反応させるこ
とにより製造することができる。
Production method B Compound (Vl) or a salt thereof can be produced by reacting compound (V) or a salt thereof with hydroxylamine or a salt thereof.

化合物(W)の好適な塩については、化合物(I)につ
いて例示したような塩を参照すればよい。
For suitable salts of compound (W), reference may be made to the salts exemplified for compound (I).

ヒドロキシルアミンの好適な塩としては、例えば塩酸塩
、臭化水素酸塩等の無機酸塩等が挙げられる。
Suitable salts of hydroxylamine include, for example, inorganic acid salts such as hydrochloride and hydrobromide.

この反応は通常、反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒
中で行われる。
This reaction is usually carried out in conventional solvents that do not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定されず、冷却下から加熱下までの温
度範囲で反応が行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is carried out in a temperature range from cooling to heating.

製造法C 化合物(III)またはその塩は、化合物(VI)また
はその塩を化合物く■)と反応させることにより製造す
ることができる。
Production method C Compound (III) or a salt thereof can be produced by reacting compound (VI) or a salt thereof with compound (1).

この反応は通常、塩基の存在下に行われる。This reaction is usually carried out in the presence of a base.

好適な塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等のアルカリ金属水酸化物等のような無機塩基
等が挙げられる。
Suitable bases include inorganic bases such as alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide.

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、アセトニトリル、それらの混合物中で行われ
るが、反応に悪影響を及ぼきない溶媒であればその他の
いかなる溶媒中でも反応を行うことができる。
The reaction is usually carried out in water, an alcohol such as methanol or ethanol, acetonitrile, or a mixture thereof, but the reaction can be carried out in any other solvent as long as it does not adversely affect the reaction.

反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下ないし加
温下に反応が行われる。
Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or heating.

製造法り 化合物(DIb)またはその塩は、化合物(Illa)
またはその塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すこと
により製造することができる。
The manufacturing method Compound (DIb) or its salt is Compound (Illa)
Alternatively, it can be produced by subjecting a salt thereof to an elimination reaction of a carboxy protecting group.

化合物(I[[a)の好適な塩としては、化合物(I>
について例示した酸付加塩が挙げられる。
Suitable salts of compound (I[[a) include compound (I>
The acid addition salts exemplified above may be mentioned.

化合物(mb)の好適な塩については、化合物(I)に
ついて例示したものを参照すればよい。
For suitable salts of compound (mb), refer to those exemplified for compound (I).

この反応は加水分解、還元等のような常法により行うこ
とができる。
This reaction can be carried out by conventional methods such as hydrolysis, reduction, etc.

保護基がエステルである場合には、加水分解により脱離
することができる。加水分解は塩基または酸の存在下に
行うのが好ましい。好適な塩基としては、例えばナトリ
ウム、カリウム等のアルカリ金属、例えばマグネシウム
、カルシウム等のアルカリ土類金属、それらの金属の水
酸化物または戻酸塩または炭酸水素塩、例えばトリメチ
ルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルアミン、
ピッリン、1.5−ジアザビシクロ[4,3,(lコノ
ン−5−エン、1.4−ジアザビシクロ[2,2゜2]
オクタン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウン
デセン−7等のような無機塩基および有機塩基が挙げら
れる。好適な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および例えば塩酸、
臭化水素酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
When the protecting group is an ester, it can be removed by hydrolysis. Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or acid. Suitable bases include, for example, alkali metals such as sodium and potassium, alkaline earth metals such as magnesium and calcium, hydroxides or reconstituted salts or bicarbonates of these metals, trialkyls such as trimethylamine, triethylamine, etc. amine,
Pirin, 1,5-diazabicyclo[4,3,(lconon-5-ene, 1,4-diazabicyclo[2,2゜2]
Inorganic bases and organic bases such as octane, 1,8-diazabicyclo[5,4,0]undecene-7, and the like may be mentioned. Suitable acids include organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, trifluoroacetic acid, and hydrochloric acid,
Examples include inorganic acids such as hydrobromic acid and sulfuric acid.

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、ジオキサン、それらの混合物中で行われるが
反応に悪影響を及ぼきない溶媒であればその他のいかな
る溶媒中でも反応を行うことができる。液状の塩基また
は酸も溶媒として使用することができる。
The reaction is usually carried out in water, alcohols such as methanol and ethanol, dioxane, and mixtures thereof, but the reaction can be carried out in any other solvent as long as it does not adversely affect the reaction. Liquid bases or acids can also be used as solvents.

反応温度は特に限定きれず、冷却下から加熱下までの温
度範囲で反応が行われる。
The reaction temperature is not particularly limited, and the reaction is carried out in a temperature range from cooling to heating.

NycAt4−ニトロベンジル、2−ヨードエチル、2
.2.2− )リクロロエチル等のような保護基の脱離
に適用するのが好ましい、脱離反応に適用きれうる還元
法としては、例えば亜鉛、亜鉛アマルガム等の金属また
は例えば塩化第一クロム、酢酸第一クロム等のクロム化
合物と、例えば酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸ま
たは無機酸との組合わせを用いる還元;および例えばパ
ラジウム−炭素等の常用の金属触媒の存在下における接
触還元法がその例として挙げられる。
NycAt4-nitrobenzyl, 2-iodoethyl, 2
.. 2.2-) Reduction methods applicable to the elimination reaction, which are preferably applied to the elimination of protecting groups such as dichloroethyl, include metals such as zinc, zinc amalgam, etc. or chromium chloride, acetic acid, etc. Reduction using a combination of a chromium compound, such as monochromic acid, and an organic or inorganic acid, such as acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid; and catalytic reduction methods in the presence of conventional metal catalysts, such as palladium-on-carbon. An example of this is:

この発明の目的化合物(I)およびその塩は新規化合物
であり、高い抗菌活性を発揮してグラム陽性菌およびグ
ラム陰性菌を含む広汎な病原菌の生育を阻止し、抗菌剤
として有用である。この発明の化合物は治療のために、
経口投与、非経口投与または外用に適した有機または無
機同体状もしくは液状賦形剤のような医薬として許容さ
れる担体と混合して、前記化合物を有効成分として含有
する医薬製剤の形で使用される。
Compound (I) and its salts are novel compounds that exhibit high antibacterial activity and inhibit the growth of a wide range of pathogenic bacteria, including gram-positive and gram-negative bacteria, and are useful as antibacterial agents. The compounds of this invention may be used for treatment:
The compound is used in the form of a pharmaceutical preparation containing the compound as an active ingredient in admixture with a pharmaceutically acceptable carrier such as an organic or inorganic isotropic or liquid excipient suitable for oral, parenteral or topical administration. Ru.

医薬製剤はカプセル、錠剤、糖衣錠、軟膏または層剤、
溶液、懸濁液、エマルジョン等とすればよい、所望に応
じて上記製剤に助剤、安定剤、湿潤剤または乳化剤、緩
衝液およびその他の通常使用される添加剤が含まれてい
てもよい。
Pharmaceutical preparations include capsules, tablets, dragees, ointments or layers,
The formulations, which may be in the form of solutions, suspensions, emulsions, etc., may optionally contain auxiliaries, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers and other commonly used additives.

化合物の投与量は患者の年齢および条件によって変化す
るが、この発明による化合物は平均1回投与量約10m
g、 50mg、 100mg、 250mg、 50
0mg。
Although the dosage of the compound varies depending on the age and condition of the patient, the compound according to the present invention has an average single dose of about 10 m
g, 50mg, 100mg, 250mg, 50
0mg.

1000n+gで病原菌感染症治療に有効である。一般
的には1日当り1mg〜約6000mgの量またl裏そ
れ以上の量を投与してもよい。
1000n+g is effective in treating pathogenic bacterial infections. Generally, amounts ranging from 1 mg to about 6000 mg per day, or even more, may be administered.

目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的化
合物の抗菌活性を以下に示す。
In order to demonstrate the usefulness of the target compounds, the antibacterial activity of representative compounds of this invention is shown below.

[1]試試験台物ニ ア−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセトア
ミド]−3−(1−ピリジニオメチル)−3−セフェム
−4−カルボキシラード(シン異性体)[以下化合物(
I)と略称] [2]試験法: 下記の寒天板倍数希釈法によって試験管内抗菌活性を測
定した。
[1] Trial test stand Nia-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1-pyridiniomethyl)-3-cephem- 4-carboxilade (syn isomer) [hereinafter compound (
[2] Test method: In vitro antibacterial activity was measured by the following agar plate multiple dilution method.

試験菌株をトリプトケース ソイプロス中、−夜培養し
てその1白金耳(生菌数108個/−)を各濃度段階の
試験化合物を含むハートインフュージョン寒天(II寒
天)に接種し、37°Cで20時間培養した後、最小発
育阻止濃度(MIC)を(/−で表わした。
The test strain was cultured in tryptocase soypros overnight, and one platinum loop (108 viable bacteria/-) was inoculated onto heart infusion agar (II agar) containing the test compound at each concentration level, and incubated at 37°C. After culturing for 20 hours, the minimum inhibitory concentration (MIC) was expressed as (/-).

[3]試験結果: Mxc(x/mQ) 以下この発明を製造例および実施例に従って説明する。[3] Test results: Mxc(x/mQ) The present invention will be explained below according to production examples and examples.

鳳xy 二酸化セレン(14,0g)をジオキサン(500m1
1 )中2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−チア
ジアゾール−3−イル)酢酸メチル(47,5g)に加
え、混合物を80〜82℃で4時間攪拌する0反応混合
物を濾過し、残渣をジオキサン(50mQ ”)で抽出
する。抽出液の溶媒を留去し、残渣を硝酸銀(42,8
g)の酢酸エチル(soomu )中混合物に加え、混
合物を常温で14時間攪拌する0反応混合物を濾過し、
残渣を酢酸エチルで抽出する。抽出液を塩化ナトリウム
飽和水溶液で2回洗浄して硫酸マグネシウムで乾燥し、
次いで減圧下に蒸発乾固して、2−(5−トリチルアミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)グリオキ
シル酸メチル(26,2g)を得る。
Fengxy Selenium dioxide (14.0g) was added to dioxane (500ml
1) Add methyl 2-(5-tritylamino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetate (47,5 g) and stir the mixture at 80-82 °C for 4 hours.0 Filter the reaction mixture. , the residue was extracted with dioxane (50mQ''). The solvent of the extract was distilled off, and the residue was extracted with silver nitrate (42,8
Add to the mixture of g) in ethyl acetate (soomu) and stir the mixture for 14 hours at room temperature.Filter the reaction mixture;
The residue is extracted with ethyl acetate. The extract was washed twice with a saturated aqueous solution of sodium chloride and dried over magnesium sulfate.
The mixture was then evaporated to dryness under reduced pressure to obtain methyl 2-(5-tritylamino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)glyoxylate (26.2 g).

IR(スジ1−ル)  :  3200. 1740.
 1700. 1580゜1530ロー1 1菫■1 2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)グリオキシル酸メチル(22,0g)の
80%テトラヒドロフラン水溶液(25〇−)中溶液に
、ヒドロキシルアミン・塩酸塩(3,56g)を加える
IR (Streak 1-L): 3200. 1740.
1700. 1580° 1530 Rho 1 1 Sumire ■ 1 To a solution of methyl 2-(5-tritylamino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)glyoxylate (22.0 g) in 80% aqueous tetrahydrofuran solution (250-) , add hydroxylamine hydrochloride (3.56 g).

室温で2.5時間攪拌後、混合物を酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄して乾燥
し、溶媒を留去して油状物を得る。
After stirring for 2.5 hours at room temperature, the mixture is extracted with ethyl acetate. The extract is washed with saturated aqueous sodium chloride solution, dried and the solvent is evaporated to give an oil.

粗製油状物をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラ
フィーに付す、酢酸エチルとn−ヘキサンとの混合溶媒
(,1:1)で溶出する。目的化合物を含む画分を集め
、溶媒を留去し、真空乾燥して、2−ヒドロキシイミノ
−2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−3−イル)酢酸メチル(シン異性体) (14,
0g )を粉末として得る。
The crude oil is subjected to column chromatography using silica gel, eluting with a mixed solvent of ethyl acetate and n-hexane (1:1). Fractions containing the target compound were collected, the solvent was distilled off, and dried in vacuo to give methyl 2-hydroxyimino-2-(5-tritylamino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetate (synisomer body) (14,
0 g) as a powder.

IR(スジ會−ル)  :  1735. 1580.
 1520  cm−’NMR(CDC13,8) ’
 3.89 (3H1s)、7.20 (15H1s)
鳳jIi1 2−ヒドロキシイミノ−2−(5−トリプルアミノ−1
,2,4−チアジアゾール−3−イル)酢酸メチル(シ
ン異性体)(0,50g)および沃化ナトリウム(0,
5g)のアセトニトリル(6,31111)およびエタ
ノール(1,3111)中混合物を10”Cに冷却下に
攪拌し、クロロジフルオロメタンガスを混合物中に約5
分間吹込む。
IR (Suji meeting): 1735. 1580.
1520 cm-'NMR (CDC13,8)'
3.89 (3H1s), 7.20 (15H1s)
OjIi1 2-hydroxyimino-2-(5-triple amino-1
, 2,4-thiadiazol-3-yl) methyl acetate (syn isomer) (0,50 g) and sodium iodide (0,
A mixture of 5 g) in acetonitrile (6,31111) and ethanol (1,3111) was stirred under cooling to 10"C, and chlorodifluoromethane gas was introduced into the mixture at about 5 g.
Infuse for a minute.

4N水酸化ナトリウム水溶液(3,51Q)を3回に分
割し、30分間かけて混合物に加え、この混合物を同温
で30分間攪拌する0反応混合物を6N塩酸で中和し、
酢酸エチルで抽出する。抽出液を食塩水で洗浄し、乾燥
して溶媒を減圧下に留去する。残渣をシリカゲルを使用
するカラムクロマトグラフィーに付し、塩化メチレンで
溶出する。目的化合物を含む溶出液の溶媒を減圧下に留
去して、2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−チア
ジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミ
ノ酢酸メチル(シン異性体) (120mg)を粗製油
状物として得る。
4N aqueous sodium hydroxide solution (3,51Q) was divided into three portions and added to the mixture over 30 minutes, and the mixture was stirred at the same temperature for 30 minutes.The reaction mixture was neutralized with 6N hydrochloric acid,
Extract with ethyl acetate. The extract is washed with brine, dried and the solvent is distilled off under reduced pressure. The residue is subjected to column chromatography on silica gel, eluting with methylene chloride. The solvent of the eluate containing the target compound was distilled off under reduced pressure to obtain methyl 2-(5-tritylamino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetate (syn isomer). (120 mg) is obtained as a crude oil.

IR(フィルム)  :  3400−3150. 1
740. 1590. 1580゜1520 an−1 NMR(CDC1a、l; ) :3.93 (3H9
s)、6−73(IH,t、J=70.5Hz)、 7
.29 (15H,m)1盪11 2−(5−)リチルアミノー1.2.4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノ酢酸メ
チル(シン異性体)(4,2g)のエタノール(42f
f1M )およびジオキサン(4,2戚)混合溶媒溶液
に、IN水酸化ナトリウム水溶液を室温で加える。混合
物を攪拌下35〜40℃に2時間加温し、冷却し、IN
塩酸で酸性にしてpH2とし、酢酸エチルで抽出する。
IR (film): 3400-3150. 1
740. 1590. 1580°1520 an-1 NMR (CDC1a, l; ): 3.93 (3H9
s), 6-73 (IH, t, J=70.5Hz), 7
.. 29 (15H, m) 11 2-(5-)Ritylamino-1.2.4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminomethyl acetate (syn isomer) (4,2 g) in ethanol (42 f
IN sodium hydroxide aqueous solution is added to the mixed solvent solution of f1M) and dioxane (4,2 relative) at room temperature. The mixture was warmed to 35-40°C for 2 hours under stirring, cooled and
Acidify to pH 2 with hydrochloric acid and extract with ethyl acetate.

抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄して乾燥し、
溶媒を減圧下に留去して、粗製油状物を得る。
The extract was washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride and dried.
The solvent is evaporated under reduced pressure to obtain a crude oil.

油状物をジエチルエーテル(1001111)に溶解し
、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液(30mR)をこれに
加える。混合物を室温で30分間攪拌する。生成する沈
殿を濾取してジエチルエーテルで洗浄し、酢酸エチルと
テトラヒドロフランとの混合溶媒(11)中に懸濁し、
IN塩酸で酸性にしてpH2とし、酢酸エチルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥して溶媒を減圧下に留去する。
The oil is dissolved in diethyl ether (1001111) and saturated aqueous sodium bicarbonate solution (30 mR) is added to it. The mixture is stirred at room temperature for 30 minutes. The generated precipitate was collected by filtration, washed with diethyl ether, and suspended in a mixed solvent (11) of ethyl acetate and tetrahydrofuran,
Acidify to pH 2 with IN hydrochloric acid and extract with ethyl acetate. The extract is washed with water, dried, and the solvent is distilled off under reduced pressure.

残渣をn−ヘキサンで粉砕し、濾取して、2−(5−ト
リチルアミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル
)−2−ジフルオロメトキシイミノ酢酸(シン異性体)
(1,5g)を得る。
The residue was triturated with n-hexane and collected by filtration to give 2-(5-tritylamino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetic acid (syn isomer).
(1.5 g) is obtained.

mp : 124−127℃(分解) IR(スジ饋−ル)  :  3400−3200. 
1720. 1585゜1535 cTll−1 NMR(DMSO−da、l; ) ’ ?−20(I
Hlt、J=70Hz)。
mp: 124-127°C (decomposition) IR: 3400-3200.
1720. 1585°1535 cTll-1 NMR (DMSO-da, l; )'? -20(I
Hlt, J=70Hz).

7.30 (15H,s)、  10.10 (IH,
s)来11外上 N、N−ジメチルホルムアミド(0,146g)および
オキシ塩化燐(0,307g)から調製したビルスマイ
ヤー試薬の酢酸エチル(0,51M)溶液に、2−(5
−トリチルアミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−ジフルオロメトキシイミノ酢酸(シン異性
体)(0,8g)を0〜3°Cで加える。混合物を同温
で30分間攪拌して活性化酸溶液を得る。7−アミノ−
3−(1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボキシラード・二塩酸塩・二本化物(0,67g)お
よびN−トリメチルシリルアセトアミド(4,4g)の
テトラヒドロフラン(l0rnQ)溶液に、−20℃で
上記で得られる活性化酸溶液を加える。同温で30分間
攪拌後、混合物を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。
7.30 (15H, s), 10.10 (IH,
s) Next 11 Add 2-(5
-tritylamino-1,2,4-thiadiazole-3-
yl)-2-difluoromethoxyiminoacetic acid (syn isomer) (0,8 g) is added at 0-3°C. The mixture is stirred at the same temperature for 30 minutes to obtain an activated acid solution. 7-Amino-
A solution of 3-(1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4-carboxilade dihydrochloride dihydrochloride (0.67 g) and N-trimethylsilylacetamide (4.4 g) in tetrahydrofuran (l0rnQ) was heated at -20°C. Add the activated acid solution obtained above. After stirring at the same temperature for 30 minutes, the mixture was poured into water and extracted with ethyl acetate.

抽出液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減
圧下に留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで粉砕し
て、7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイ
ミノアセトアミド]−3−(1−ピリジニオメチル)−
3−セフェム−4−カルボキシラード(シン異性体)(
1,25g)を得る。
The extract was washed with water, dried over magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was triturated with diisopropyl ether to give 7-[2-(5-tritylamino-1,2,4-thiadiazole-3). -yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1-pyridiniomethyl)-
3-cephem-4-carboxilade (syn isomer) (
1.25 g).

IR(スジ9−ル)  j  3250. 1780.
 1680. 1630゜1530 cyn−1 NMR(DMSO−da、δ) : 3.30.3.6
7 (2H,ABq。
IR (Stripe 9-L) j 3250. 1780.
1680. 1630°1530 cyn-1 NMR (DMSO-da, δ): 3.30.3.6
7 (2H, ABq.

J=18)1z)、 5.17 (IH,d、に5)1
z)、 5.63 (2H。
J=18)1z), 5.17 (IH, d, 5)1
z), 5.63 (2H.

m)、 5.90 (LH,dd、J=5Hz、 8H
z)、 6.95 (IH。
m), 5.90 (LH, dd, J=5Hz, 8H
z), 6.95 (IH.

t、J=72Hz)、 6.90−7.50 (15H
,m>、 8.22 (2H。
t, J=72Hz), 6.90-7.50 (15H
, m>, 8.22 (2H.

d、J=8Hz>、 8.63 (IH,dd、J=6
Hz、 8Hz)。
d, J=8Hz>, 8.63 (IH, dd, J=6
Hz, 8Hz).

9.07 (2H,d、J−6Hz) 火鳳掴ユ 実施例1と同様にして下記化合物を得る。9.07 (2H, d, J-6Hz) Fire phoenix grab The following compound is obtained in the same manner as in Example 1.

(1)7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2゜4−
チアジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシ
イミノアセトアミド]−3−(1,3゜4−デアジアゾ
ール−2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)。
(1) 7-[2-(5-tritylamino-1,2゜4-
Thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1,3°4-deadiazol-2-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer).

IR(、スジ9−1>  :  3200. 1775
. 1680. 1!530  cm″″INMR(D
MSO−da、l; ) :3.68 (2H,m)、
 4.22.4−63(2H,ABq、J=14Hz)
、  5.15  (IH,d、、T=5Hz)。
IR(, Suji 9-1>: 3200. 1775
.. 1680. 1!530 cm″″INMR(D
MSO-da, l; ): 3.68 (2H, m),
4.22.4-63 (2H, ABq, J=14Hz)
, 5.15 (IH,d,,T=5Hz).

5.83 (IH,dd、、C3Hz、  8Hz)、
  7.17 (ILt。
5.83 (IH, dd, C3Hz, 8Hz),
7.17 (ILt.

J=72Hz)、  7.22−7.55 (15H,
m)、  7.55(LH,s)、  9.80 (I
H,d、J=8Hz)(2)7−[2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−ジフル
オロメトキシイミノアセトアミド]−3−(1−ピリジ
ニオメチル)−3−セフェム−4−カルボキシラード(
シン異性体)。
J=72Hz), 7.22-7.55 (15H,
m), 7.55 (LH,s), 9.80 (I
H, d, J = 8Hz) (2) 7-[2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4-carboxilade (
syn isomer).

IR(スジミール)  :  3250. 1770.
 1680. 1600゜1520 elT+−1 (3)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノア
セトアミドコ−3−(1,3,4−チアジアゾール−2
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(
シン異性体)。
IR (Suji Meal): 3250. 1770.
1680. 1600°1520 elT+-1 (3) 7-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-3-(1,3,4-thiadiazole -2
-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (
syn isomer).

IR(Via−4)  :  3300.  L770
. 1680. 1620゜1530 cll+−1 (4)7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2゜4−
チアジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシ
イミノアセトアミドコ−3−(3−メチル−1,2,4
−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(シン異性体) IR(スジ3−ル)  :  3200. 1780.
 1690. 1530  am−INMR(DMSO
−ds、S ) =2−53 (3H,s)、 3.4
7.3−83(2H,ABq、J=18Hz>、 4.
22.4.65 (2H,ABq。
IR (Via-4): 3300. L770
.. 1680. 1620°1530 cll+-1 (4)7-[2-(5-tritylamino-1,2°4-
thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-3-(3-methyl-1,2,4
-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (stin-3-yl): 3200. 1780.
1690. 1530 am-INMR (DMSO
-ds, S) = 2-53 (3H, s), 3.4
7.3-83 (2H, ABq, J=18Hz>, 4.
22.4.65 (2H, ABq.

J=14Hz)、 5.13 (IH,d、J=5Hz
>、 5.77 (IH。
J=14Hz), 5.13 (IH, d, J=5Hz
>, 5.77 (IH.

dd、J=5)1z、 8Hz)、 7.20 (LH
,t、J=72Hz)。
dd, J=5)1z, 8Hz), 7.20 (LH
, t, J=72Hz).

7.20−7.50 (15H,m)、 9.82 (
IH,d、J=8Hz)。
7.20-7.50 (15H, m), 9.82 (
IH, d, J = 8Hz).

10.10  (IH,フロート 5)(5)7−[2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセトアミドコ−
3−(3−メチル−1,2,4−チアジアゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体) IR(スジミール)  :  3300  (ブロード
)、  1770. 1680. 1620゜1520
 cm−1 (6)7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2゜4−
チアジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシ
イミノアセトアミド]−3−(1,2゜3−チアジアゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)IR<スジタール)  ’  3
250. 1780.  L690. 1530  a
m−’N1(R(DMSO−d6. S ) :3.4
2.5.75 (2H,AB(1゜J=18Hz>、 
 4.20  (28,ブロード s)、  5.10
  (LH,d。
10.10 (IH, float 5) (5) 7-[2
-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-
3-(3-methyl-1,2,4-thiadiazole-5-
yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (Sujimil): 3300 (Broad), 1770. 1680. 1620°1520
cm-1 (6)7-[2-(5-tritylamino-1,2゜4-
thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1,2゜3-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR<sudital)' 3
250. 1780. L690. 1530a
m-'N1(R(DMSO-d6.S): 3.4
2.5.75 (2H, AB (1°J=18Hz>,
4.20 (28, Broad s), 5.10
(LH, d.

J:5Hz)、 5.73 (IH,dd、J=5Hz
、 8Hz)、 7.13(IH,Jニア2Hz)、 
7.00−7.53 (15H,m)、 8.80(I
H,s)、 9.77 (IH,d、J=8Hz)、 
10.03(IH,ブロード 5) (7)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノア
セトアミドコ−3−(1,2,3−チアジアゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(
シン異性体) IR(Xジm−ル) :  3280. 1770. 
1680. 1620゜1525 Cm’ (8)7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2゜4−
チアジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシ
イミノアセトアミドコ−3−(1,2゜4−チアジアゾ
ール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カル
ボン酸(シン異性体)IR(*ジ1−4)  7 32
50. 17g0. 1690. 1530  cm−
’NMR(DMSO−九、8 ) : 3.50.3.
80 (2H,AB(1゜J=18Hz)、 4.29
.4.63 (2H,ABq、J=14Hz)。
J:5Hz), 5.73 (IH, dd, J=5Hz
, 8Hz), 7.13 (IH, J near 2Hz),
7.00-7.53 (15H, m), 8.80 (I
H, s), 9.77 (IH, d, J=8Hz),
10.03 (IH, Broad 5) (7) 7-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-3-(1,2, 3-thiadiazole-5
-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (
syn isomer) IR (X dimyl): 3280. 1770.
1680. 1620°1525 Cm' (8)7-[2-(5-tritylamino-1,2°4-
Thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-3-(1,2゜4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (*di1 -4) 7 32
50. 17g0. 1690. 1530 cm-
'NMR (DMSO-9,8): 3.50.3.
80 (2H, AB (1°J=18Hz), 4.29
.. 4.63 (2H, ABq, J=14Hz).

5.13 (LH,d、J=5Hz>、 5.77 (
IH,dd、J=5Hz。
5.13 (LH, d, J=5Hz>, 5.77 (
IH, dd, J = 5Hz.

8Hz)、 7.17 (LH,t、J=72Hz>、
 7.10−7.53(15H,m)、 8.70 (
IH,s)、 9.83 (IH,d。
8Hz), 7.17 (LH, t, J=72Hz>,
7.10-7.53 (15H, m), 8.70 (
IH, s), 9.83 (IH, d.

J=8Hz)、  10.13  (IH,ブロード 
5)(9)7−[:2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイ
ミノアセトアミド]−3−(1,2,4〜チアジアゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン異性体) IR(スジタール)  ?  3250. 1770.
 1680. 1620゜1520 cm−’ (10)7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2゜4
−チアジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキ
シイミノアセトアミドコ−3−(4−メチル−5−オキ
ソ−6−ヒドロキシ−4,5−ジヒドロ−1,2,4−
トリアジン−3−イル)チオメチル−3−セフェム−4
−カルボン酸ベンズヒドリル(シン異性体) IR(スジタール)  :  3250. 1780.
 1700. 1580゜1520 cm−1 Nl(R(DMSO−d6.δ)  :  3.23 
 (2)!、ブロード s)、  3.33(3H,s
)、 3.58.3.85 (2H,ABq、J=14
Hz>。
J=8Hz), 10.13 (IH, broad
5) (9) 7-[:2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-thiadiazol-5- yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (sudital)? 3250. 1770.
1680. 1620°1520 cm-' (10)7-[2-(5-tritylamino-1,2°4
-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-3-(4-methyl-5-oxo-6-hydroxy-4,5-dihydro-1,2,4-
triazin-3-yl)thiomethyl-3-cephem-4
-Benzhydryl carboxylate (syn isomer) IR (sudital): 3250. 1780.
1700. 1580°1520 cm-1 Nl(R(DMSO-d6.δ): 3.23
(2)! , broad s), 3.33(3H,s
), 3.58.3.85 (2H, ABq, J=14
Hz>.

5.22 (IH,d、J=5Hz>、 5.83 (
LH,dd、J=5Hz。
5.22 (IH, d, J=5Hz>, 5.83 (
LH, dd, J = 5Hz.

8Hz)、 6.95 (IH,t、J=72Hz)、
 7.10−7.70(15H,m)、 9.85 (
IH,d、J=8Hz)、 10.10(IH,ブロー
ド 5) (11)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノ
アセトアミドコ−3−(4−メチル−5=オキソ−6−
ヒドロキシ−4,5−ジヒドロ−1,2,4−トリアジ
ン−3−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(シン異性体)IR(スジミール)  :  32
50. 1770. 1700. 1620゜1525
 cm−’ (12)7−42−(5−トリチルアミノ−1,2゜4
−チアジブゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキ
シイミノアセトアミド]−3−(3−ビニル−1,2,
4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体) IR(スジ1−x)  :  3200. 1780.
 1690. 1530  am−’NMR(DMSO
−d6.S  )  :  3.67  (2H,ブロ
ード S)、  4.27゜4.68 (2H,ABq
、J=14)1z)、 5.13 (LH,d。
8Hz), 6.95 (IH, t, J=72Hz),
7.10-7.70 (15H, m), 9.85 (
IH, d, J = 8 Hz), 10.10 (IH, broad 5) (11) 7-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide co-3-(4-methyl-5=oxo-6-
Hydroxy-4,5-dihydro-1,2,4-triazin-3-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (sujimil): 32
50. 1770. 1700. 1620°1525
cm-' (12)7-42-(5-tritylamino-1,2゜4
-thiadibuzol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(3-vinyl-1,2,
4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (stripe 1-x): 3200. 1780.
1690. 1530 am-'NMR (DMSO
-d6. S): 3.67 (2H, Broad S), 4.27゜4.68 (2H, ABq
, J=14)1z), 5.13 (LH,d.

J=5Hz>、 5.83 (2H,m)、 6.32
 (LH,dd、J=2Hz。
J=5Hz>, 5.83 (2H, m), 6.32
(LH, dd, J=2Hz.

18Hz)、 6.82 (IH,dd、J=10Hz
、 18Hz>。
18Hz), 6.82 (IH, dd, J=10Hz
, 18Hz>.

7.00−7.65 (15H,m)、 7゜16 (
IH,t、J=72Hz>。
7.00-7.65 (15H, m), 7゜16 (
IH, t, J = 72Hz>.

9.78  (IH,d、J=8Hz>、  10.0
7  (LH,ブロード 5)(13)7−[2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−
2−ジフルオロメトキシイミノアセトアミド、] −3
−(3−ビニル−1,2,4−チアジアゾール−5−イ
ル)チオメチルー3−セフェム−4−カルボン酸くシン
異性体)IR(スジョール)  :  3300. 1
770. 1620. 1520  can″″1(1
4)7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2゜4−チ
アジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイ
ミノアセトアミドコ−3−(2,3−ジメチ、ルー1−
ピリジニオメチル)−3−セフェム−4−カルボキシラ
ード(シン異性体)IRCZジa−JL)  :  3
300. 1780. 1660. 1520  cm
−INMR(DMSO−ds、l; ) ’ 2.40
 (3H1s)、2−60(3H,s)、  3.33
  (2H,ブロード s)、  5.13  (IH
,d。
9.78 (IH, d, J=8Hz>, 10.0
7 (LH, Broad 5) (13) 7-[2-(5
-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-
2-difluoromethoxyiminoacetamide,] -3
-(3-vinyl-1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid isomer) IR (Sujol): 3300. 1
770. 1620. 1520 can″″1 (1
4) 7-[2-(5-tritylamino-1,2゜4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-3-(2,3-dimethy,ru-1-
(pyridiniomethyl)-3-cephem-4-carboxilade (syn isomer) IRCZdia-JL): 3
300. 1780. 1660. 1520 cm
-INMR(DMSO-ds,l; )' 2.40
(3H1s), 2-60 (3H,s), 3.33
(2H, Broad s), 5.13 (IH
,d.

J=5Hz)、 5.53.5.77 (2H,ABq
、 J=14Hz>。
J=5Hz), 5.53.5.77 (2H, ABq
, J=14Hz>.

5.83 (IH,dd、J=5Hz、 8Hz)、 
7.47 (IH,t。
5.83 (IH, dd, J=5Hz, 8Hz),
7.47 (IH, t.

J=72Hz)、 7.15−7.60 (15H,m
)、 7.90 (IH。
J=72Hz), 7.15-7.60 (15H, m
), 7.90 (IH.

dd、J=6Hz、 8Hz)、 8.40 (LH,
d、J=8Hz)。
dd, J=6Hz, 8Hz), 8.40 (LH,
d, J=8Hz).

8.83 (LH,d、J=6Hz)、 9.84 (
LH,d、J=8Hz)。
8.83 (LH, d, J=6Hz), 9.84 (
LH, d, J = 8Hz).

10.13  (IH,ブロード 5)(xs)7−[
−(s−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセトアミドコ−
3−(2,3−ジメチル−1−ピリジニオメチル)−3
−セフェム−4−カルボキシラード(シン異性体) IR(ネジタール)  :  3350  (ブロード
)、  1’760. 1660゜1600 am−1 火星■1 7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−デアジ
アゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノ
アセトアミド]−3−(1−ピリジニオメチル)−3−
セフェム−4−力カルボキシラード(シン異性体) (
1,25g )、濃塩酸(0,45g)およびギ酸(1
3111)の混合物を3〜5℃で3時間攪拌する。この
混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解する。水溶液を5
%炭酸水素ナトリウム水溶液でpua、oに!Itし、
非イオン性吸着樹脂rダイヤイオンHP−20,(商標
:三菱化成工業社製)を使用するカラムクロマトグラフ
ィーに付す、カラムを水洗後、30%メタノール水溶液
で溶出する。溶出液を減圧濃縮し、凍結乾燥して、7−
[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセトアミド
]−3−(1−ピリジニオメチル)−3−セフェム−4
−カルボキシラード(シン異性体)(0,35g)を得
る。
10.13 (IH, Broad 5) (xs) 7-[
-(s-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-
3-(2,3-dimethyl-1-pyridiniomethyl)-3
-Cephem-4-carboxilade (syn isomer) IR (screwtal): 3350 (broad), 1'760. 1660°1600 am-1 Mars ■1 7-[2-(5-tritylamino-1,2,4-deadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1-pyridiniomethyl)-3 −
Cephem-4-carboxilade (syn isomer) (
1,25 g), concentrated hydrochloric acid (0,45 g) and formic acid (1
3111) is stirred at 3-5° C. for 3 hours. The mixture is concentrated under reduced pressure and the residue is dissolved in water. 5 aqueous solution
% sodium bicarbonate aqueous solution to pua and o! It is,
The column is subjected to column chromatography using a nonionic adsorption resin R Diaion HP-20 (trademark: manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.). After washing the column with water, the column is eluted with a 30% methanol aqueous solution. The eluate was concentrated under reduced pressure and lyophilized to give 7-
[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3
-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4
- Carboxilald (syn isomer) (0.35 g) is obtained.

IR(スジルール)  :  3250. 1770.
 1680. 1600゜1520 cm−1 NMR(D20−NaHCO3,S ) ’ 3.16
.3.155 (2H1ABq。
IR (suji rule): 3250. 1770.
1680. 1600°1520 cm-1 NMR (D20-NaHCO3,S)' 3.16
.. 3.155 (2H1ABq.

J=18Hz)、 5.27 (LH,d、J=5Hz
)、 5.32.5.56(2H,ABq、J:14H
z)、 5.86 (IH,d、J=5Hz)。
J=18Hz), 5.27 (LH,d, J=5Hz
), 5.32.5.56 (2H, ABq, J: 14H
z), 5.86 (IH, d, J=5Hz).

6.94 (IH,t、Jニア2Hz)、 8.05 
(2H,dd、J=6Hz。
6.94 (IH, t, J near 2Hz), 8.05
(2H, dd, J=6Hz.

8Hz)、 8.54 (LH,dd、J=6Hz、 
8Hz)、 8.92(zn、a、J=auz) 夾轟■1 7−[2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノ
アセトアミドコ−3−(1,3,4−チアジアゾール−
2−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸
(シン異性体)(o、7g)、製塩#(0,23g)お
よびギ酸(7m11)(7)混合物を3〜5℃で3時間
攪拌する。この混合物を減圧濃縮し、残渣を水に溶解す
る。水溶液を5%次酸水素ナトリウム水溶液でpH7,
0に調整し、酢酸エチルで洗浄後、10%塩酸でpH2
,5に調整する。沈殿を濾取、水洗、乾燥して、7−[
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセトアミド]
−3−(1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体)
(0,24g)を得る。
8Hz), 8.54 (LH, dd, J=6Hz,
8Hz), 8.92 (zn, a, J=auz) 1 7-[2-(5-tritylamino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco -3-(1,3,4-thiadiazole-
A mixture of 2-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (o, 7g), salt preparation # (0,23g) and formic acid (7ml) (7) was stirred at 3-5°C for 3 hours. do. The mixture is concentrated under reduced pressure and the residue is dissolved in water. The aqueous solution was adjusted to pH 7 with 5% sodium hydrogen suboxide aqueous solution.
After washing with ethyl acetate, adjust the pH to 2 with 10% hydrochloric acid.
,5. The precipitate was collected by filtration, washed with water, and dried to give 7-[
2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-
yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]
-3-(1,3,4-thiadiazol-2-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer)
(0.24 g) is obtained.

IR(スジe−ル)  :  3300. 1770.
 1680. 1620゜1530国−1 NMR(DMSO−d6.8 ) : 3.53.3.
80 (2H,ABq。
IR: 3300. 1770.
1680. 1620°1530 country-1 NMR (DMSO-d6.8): 3.53.3.
80 (2H, ABq.

J=18Hz)、 4.24.4.57 (2H,AB
q、J=14Hz>。
J=18Hz), 4.24.4.57 (2H, AB
q, J=14Hz>.

5.14 (IH,d、J=5Hz>、 5.80 (
IH,dd、J=5Hz。
5.14 (IH, d, J=5Hz>, 5.80 (
IH, dd, J = 5Hz.

8Hz)、 7.17 (IH,t、J=72Hz)、
 8.20 (21゜ブロード s)、  9.51 
 (IH,s)、  9.82  (IH,d、J=8
Hz)夾蓋忽1 実施例3および4と同様にして下記化合物を得る。
8Hz), 7.17 (IH, t, J=72Hz),
8.20 (21° broad s), 9.51
(IH, s), 9.82 (IH, d, J=8
Hz) Cover 1 The following compound is obtained in the same manner as in Examples 3 and 4.

(1)7−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミノア
セトアミドコ−3−(3−メチルー1.2.4−チアジ
アゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−
カルボン酸くシン異性体)IR(スジシール)  : 
 3300  (ブロード)、  1770. 168
0. 1620゜1520 cm−’ NMR(DMSO−d6.ε) + 2.53 (3H
,s)、 3.46.3.76(2H,ABq、J=1
8Hz)、 4.25.4.62 (2H,ABq。
(1) 7-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamidoco-3-(3-methyl-1.2.4-thiadiazol-5- yl)thiomethyl-3-cephem-4-
Carboxylic acid isomer) IR (sudisil):
3300 (Broad), 1770. 168
0. 1620°1520 cm-' NMR (DMSO-d6.ε) + 2.53 (3H
,s), 3.46.3.76(2H, ABq, J=1
8Hz), 4.25.4.62 (2H, ABq.

J=14Hz)、 5.13 (IH,d、J=5Hz
)、 5.78 (IH。
J=14Hz), 5.13 (IH, d, J=5Hz
), 5.78 (IH.

dd、 J=5Hz、 8Hz)、 7.16 (IH
,t、J=72Hz>。
dd, J=5Hz, 8Hz), 7.16 (IH
, t, J=72Hz>.

8.21  (21,ブロード s)、  9.80 
 (IH,d、J=8Hz)(2)7−(2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
ジフルオロメトキシイミノアセトアミド]−3−(1,
2,3−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸(シン異性体) IR(ヌジーール)  ?  3280. 177G、
  1680. 1820゜15253= NMR(DMSO−d6. S ”) : 3.48.
3.75 (2H,ABq。
8.21 (21, Broad S), 9.80
(IH, d, J=8Hz) (2) 7-(2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-
difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1,
2,3-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-
Cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (Nugir)? 3280. 177G,
1680. 1820°15253=NMR (DMSO-d6.S”): 3.48.
3.75 (2H, ABq.

J=18Hz)、  4.25  (21,ブロード 
s)、  5.16  (IH,d。
J=18Hz), 4.25 (21, broad
s), 5.16 (IH, d.

J=5Hz>、 5.80 (18,dd、J=5Hz
、 8Hz)、 7.17(LH,t、J=72Hz)
、  8.21  (2H,ブロード s)、  8.
85(IH,s)、9.83  (11,d、J−8H
z)(3)?−[2−(5−アミノ−1,2,4−チア
ジアゾール−3−イル)−2−ジフルオロメトキシイミ
ノアセトアミド]−3−(1,2,4−チアジアゾール
−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸(シン異性体) IR(スジタール)  :  3250. 1770.
 1680. 1620゜1520 clll−1 NMR(DMSO−d6.δ) : 3.50.3.7
8 (20,ABq。
J=5Hz>, 5.80 (18,dd, J=5Hz
, 8Hz), 7.17 (LH, t, J=72Hz)
, 8.21 (2H, broad s), 8.
85 (IH, s), 9.83 (11, d, J-8H
z) (3)? -[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem -4-Carboxylic acid (syn isomer) IR (sudital): 3250. 1770.
1680. 1620°1520 cll-1 NMR (DMSO-d6.δ): 3.50.3.7
8 (20, ABq.

J=18Hz)、 4.27.4.60 (2H,AB
q、J=14Hz>。
J=18Hz), 4.27.4.60 (2H, AB
q, J=14Hz>.

5.15 (IH,d、J=5Hz)、 5.80 (
IH,dd、J=5Hz。
5.15 (IH, d, J=5Hz), 5.80 (
IH, dd, J = 5Hz.

8Hz>、 7.17 (IH,t、]=72Hz)、
 8.20 (2H。
8Hz>, 7.17 (IH,t,]=72Hz),
8.20 (2H.

ブロード s)、  8.68  (111,s)、 
 9.83  (IH,d、J=8Hz)(4)7−[
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)−2−ジフルオロメトキシイミノアセトアミド]
−3−(4−メチル−5−才キソー6−ヒドロキシ−4
,5−ジヒドロ−1,2,4−トリアジン−3−イル)
チオメゾルー3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性
体)XR(スh−ル)  +  3250. 1770
.”1700. 1620゜1525■−1 NMR(DMSO−d6.δ) : 3.30 (3H
,s)、 3.53.3.77(2H,ABq、J=1
8Hz>、  3.97. 4.18 (2H,ABq
Broad s), 8.68 (111, s),
9.83 (IH, d, J=8Hz) (4) 7-[
2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-
yl)-2-difluoromethoxyiminoacetamide]
-3-(4-methyl-5-year-old xo-6-hydroxy-4
,5-dihydro-1,2,4-triazin-3-yl)
Thiomesol-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) XR (shr) + 3250. 1770
.. "1700. 1620°1525■-1 NMR (DMSO-d6.δ): 3.30 (3H
, s), 3.53.3.77 (2H, ABq, J=1
8Hz>, 3.97. 4.18 (2H, ABq
.

J:14Hz>、  5.15 (IH,d、J=5H
z)、  5.73 (IH。
J: 14Hz>, 5.15 (IH, d, J=5H
z), 5.73 (IH.

dd、J=5Hz、  8Hz)、7.20 (IH,
tJ=72Hz)。
dd, J=5Hz, 8Hz), 7.20 (IH,
tJ=72Hz).

8.22  (2H,ブロード s)、  9.85 
 (IH,d、J=8Hz)(5)7−[2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール、−3−イル)−2
−ジフルオロメトキシイミノアセトアミド]−3−(3
−ビニル−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チ
オメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シン異性体
) IR(スジタール)  :  330G、  1770
. 1620. 1520  Cr11″″INMR(
DMSOds、S  )  ’  3.52.3−83
  (2H9ABq。
8.22 (2H, broad s), 9.85
(IH, d, J=8Hz) (5) 7-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol,-3-yl)-2
-difluoromethoxyiminoacetamide]-3-(3
-vinyl-1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) IR (sudital): 330G, 1770
.. 1620. 1520 Cr11″″INMR(
DMSOds,S)' 3.52.3-83
(2H9ABq.

J=18Hz)、 4.32.4.68 (2H,AB
q、J=14Hz)。
J=18Hz), 4.32.4.68 (2H, AB
q, J=14Hz).

5.19 (IH,d、J=5Hz)、 5.85 (
2H,m)、 6.37(IH,dd、J=2Hz、 
18Hz)、 6.83 (IH,dd。
5.19 (IH, d, J=5Hz), 5.85 (
2H, m), 6.37 (IH, dd, J=2Hz,
18Hz), 6.83 (IH, dd.

J=10.5Hz、 18Hz)、 7.22 (1)
r、t、J=72Hz>。
J=10.5Hz, 18Hz), 7.22 (1)
r, t, J=72Hz>.

8.25  (2H,ブロード s)、  9.85 
 (IH,d、J=8Hz)(6)7−[2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2−
ジフルオロメトキシイミノアセトアミドコ−3−(2,
3−ジメチル−1−ピリジニオメチル)−3−セフェム
−4−カルボキシラード(シン異性体) IR(スジ3−ル’)  :  3350  (ブロー
ド)、  1760.  taso。
8.25 (2H, broad s), 9.85
(IH, d, J=8Hz) (6) 7-[2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)-2-
Difluoromethoxyiminoacetamide co-3-(2,
3-Dimethyl-1-pyridiniomethyl)-3-cephem-4-carboxylade (syn isomer) IR (syn 3-l'): 3350 (Broad), 1760. Taso.

1600僑−1 NMR(D20−NaHCO3,δ) : 2.50 
(3H,s)、 2.71(3H,s)、 3.13.
3.43 (2H,ABq、J=14Hz>。
1600-1 NMR (D20-NaHCO3, δ): 2.50
(3H, s), 2.71 (3H, s), 3.13.
3.43 (2H, ABq, J=14Hz>.

5.25 (IH,d、J=5Hz)、 5.32.5
.60 (2H,ABq。
5.25 (IH, d, J=5Hz), 5.32.5
.. 60 (2H, ABq.

J=14Hz)、 5.87 (IH,d、J=5Hz
)、 6.97 (IH,t。
J=14Hz), 5.87 (IH, d, J=5Hz
), 6.97 (IH, t.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、 R^2はカルボキシ基、−COO^■または保護された
カルボキシ基、 R^3は適当な置換基で置換されていてもよい複素環チ
オメチル基または適当な置換基で置換されていてもよい
ピリジニオメチル基、 X^1はハロゲン、 X^2はハロゲンをそれぞれ意味する)で示される新規
セフエム化合物およびその塩。 2)一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノ基または保護されたアミノ基、 Wはカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 X^1はハロゲン、 X^2はハロゲンをそれぞれ意味する)で示される化合
物およびその塩。
[Claims] 1) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 is an amino group or a protected amino group, R^2 is a carboxy group, -COO^■ or protected carboxy group, R^3 is a heterocyclic thiomethyl group optionally substituted with an appropriate substituent or a pyridiniomethyl group optionally substituted with an appropriate substituent, X^1 is halogen, X^2 is Novel cefem compounds and salts thereof represented by halogen (respectively meaning halogen). 2) General formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 is an amino group or a protected amino group, W is a carboxy group or a protected carboxy group, X^1 is a halogen, ^2 means halogen) and its salts.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63264470A (en) * 1986-12-10 1988-11-01 Eisai Co Ltd Thiadiazole derivative
JPH01308287A (en) * 1988-03-16 1989-12-12 Eisai Co Ltd Production of cephem derivative and intermediate therefor

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55105689A (en) * 1978-12-29 1980-08-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem and cepham compounds, their preparation and preventive and remedy for microbism
JPS57112396A (en) * 1979-10-12 1982-07-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound, its preparation and prophylactic or remedy for microbism

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