JPS61165394A - Novel cephem compound and preparation thereof - Google Patents
Novel cephem compound and preparation thereofInfo
- Publication number
- JPS61165394A JPS61165394A JP29758985A JP29758985A JPS61165394A JP S61165394 A JPS61165394 A JP S61165394A JP 29758985 A JP29758985 A JP 29758985A JP 29758985 A JP29758985 A JP 29758985A JP S61165394 A JPS61165394 A JP S61165394A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ester
- salt
- compound
- formula
- formulas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明の下記一般式(I)で示されるセフェム化合物
およびその塩は抗菌活性を市し、医薬として有用である
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Industrial Field of Application" The cephem compounds of the present invention represented by the following general formula (I) and salts thereof exhibit antibacterial activity and are useful as medicines.
「従来の技術」
セフェム化合物は数多く知られているが、下記一般式(
I)で示されるセフェム化合物は全く知られていない。"Prior Art" Many cephem compounds are known, but they have the following general formula (
Cephem compounds represented by I) are completely unknown.
「発明が解決しようとする問題点」
抗菌作用を有し、医薬として有用なセフェム化合物は数
多く知られているが、この発明はさらに優れた医薬品の
開発を意図してなされたものである。"Problems to be Solved by the Invention" Many cephem compounds that have antibacterial effects and are useful as medicines are known, but this invention was made with the intention of developing even better medicines.
r問題点を解決するための手段j この発明は新規セフェム化合物およびその塩に関する。rMeans to solve the problem j This invention relates to novel cephem compounds and salts thereof.
更に詳しくは、この発明は、抗菌活性を有する新規セフ
ェム化合物およびその塩、それらの製造方法に関する。More specifically, the present invention relates to novel cephem compounds and salts thereof having antibacterial activity, and methods for producing them.
目的とするセフェム化合物およびその塩は新規であり、
下記の一般式(I):
(式中、R1はアミンまたは保護されたアミン基、Rは
低級アルキノ呟R3はカルボキシまたは保護されたカル
ボキシ基である)で示すことができる。The target cephem compound and its salt are novel;
It can be represented by the following general formula (I): (wherein R1 is an amine or a protected amine group, R is a lower alkino group, and R3 is a carboxy or protected carboxy group).
この発明によると、目的化合物<1)は、下記の製法に
よって製造することができる。According to this invention, the target compound <1) can be produced by the following production method.
k産羞ユ
口[) (I[)またはそのアミ
ノ基に またはそのカルボキおける反応性誘導体ま
シ基における反応性たはその塩
誘導体またはその塩またはその塩
1盟葦ユ
< ■> (V )またはその塩
またはその塩またはその塩
(上記式中、R1、R2、R3はそれぞれ前記と同義で
あり、Yは酸残基である。)
化合物(I)、(III)、(EV)については、該化
合物はシン異性体、アンチ異性体およびその混合物を含
むものとする。(I[) or a reactive derivative at its amino group or at its carboxylic group or a reactive derivative at its carboxylic group or a salt thereof
Derivative or salt thereof or salt thereof 1. Ashiyu (V) or salt thereof
or a salt thereof or a salt thereof (in the above formula, R1, R2, R3 are each as defined above, and Y is an acid residue). shall include the syn isomer, the anti isomer and mixtures thereof.
例えば、化合物(I)については、シン異性体とは、下
記の式:
(式中、RおよびR2はそれぞれ前記と同義である)で
示される部分構造を有する一つの幾何異性体を意味し、
アンチ異性体とは、下記の式:(式中、R1およびR2
はそれぞれ前記と同義である)で示される部分構造を有
するもう一つの幾何異性体を意味する。For example, for compound (I), the syn isomer means one geometric isomer having a partial structure represented by the following formula: (wherein R and R2 are each as defined above),
The anti-isomer is defined by the following formula: (wherein R1 and R2
means another geometric isomer having the partial structure shown in (each has the same meaning as above).
目的化合物(1)の適切な塩は、慣用の無毒性塩であり
、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩
、例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土
類金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例え、ばト
リメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピッリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N、N’−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、例えば酢
酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩、
ベンゼンスルホン酸塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩
等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、
リン酸塩等の無機酸塩、例えばアルギニン、アスパラギ
ン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との塩等が挙げられる
。Suitable salts of the target compound (1) are conventional non-toxic salts, such as alkali metal salts such as sodium salts, potassium salts, alkaline earth metal salts such as calcium salts, magnesium salts, etc.; Ammonium salts, such as trimethylamine salt, triethylamine salt, pyridine salt,
Organic base salts such as pilin salt, dicyclohexylamine salt, N,N'-dibenzylethylenediamine salt, such as acetate, maleate, tartrate, methanesulfonate,
Organic acid salts such as benzenesulfonate, formate, toluenesulfonate, such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate,
Examples include inorganic acid salts such as phosphates, and salts with amino acids such as arginine, aspartic acid, and glutamic acid.
この明細書の前記およびこれに続く記載において、この
発明がその範囲に包含する種々の定義の適切な例示につ
いて、以下詳細に説明する。In the foregoing and subsequent description of this specification, pertinent illustrations of the various definitions that fall within the scope of this invention are described in detail below.
「低級」とは、特にことわりのない限り、炭素原子1〜
6個を意味する。"Lower" means 1 to 1 carbon atom, unless otherwise specified.
It means 6 pieces.
適切な1保護されたアミノ基」としては、例えばベンジ
ル、トリチル等の少くとも1個以上の置換基を有してい
てもよいアル(低級)アルキルのような慣用の保護基で
置換されているアミノ基またはアシルアミノ基を挙げる
ことができる。Suitable mono-protected amino groups include, for example, those substituted with conventional protecting groups such as alkyl, which may have at least one substituent such as benzyl, trityl, etc. Mention may be made of amino groups or acylamino groups.
ここでいう「アシルアミノ」の適切なアシル部分として
は、脂肪族アシル基および芳香環または複素環を含有す
るアシル基を挙げることができる。該アシルの適切な例
としては、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、オ
キサリル、スクシニル、ピバロイル等の低級、アルカノ
イル、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、プロポキシカルボニル、1−シクロプロビルエトキシ
力ルポニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル
ル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボ
ニル等の低級アルフキジカルボニル、側光ばメシル、エ
タンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプロパンス
ルホニル、ブタンスルホニル等の低級アルカンスルホニ
ル、例えばベンゼンスルホニル、トシル等のアレーンス
ルホニル、例えばベンゾイル、トルオイル、キシロイル
、ナフトイル、フタロイル、インダンカルボニル等のア
ロイル、例えばフェニルアセチル、フェニルブロピオニ
ル等のアル(低級)アルカノイル、例えばベンジルオキ
シカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等のアル(
低級)アルコキシカルボニル等を挙げることができる。Suitable acyl moieties for "acylamino" herein include aliphatic acyl groups and acyl groups containing aromatic rings or heterocycles. Suitable examples of such acyls include formyl, acetyl, propionyl,
Lower alkanoyl such as butyryl, isobutyryl, valeryl, isovaleryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, Lower alphkydicarbonyl such as hexyloxycarbonyl, lower alkanesulfonyl such as mesyl, ethanesulfonyl, propanesulfonyl, isopropanesulfonyl, butanesulfonyl, arenesulfonyl such as benzenesulfonyl, tosyl, etc., such as benzoyl, toluoyl, xyloyl, Aroyl such as naphthoyl, phthaloyl, indancarbonyl, alkanoyl (lower) alkanoyl such as phenylacetyl, phenylpropionyl, al(lower) alkanoyl such as benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc.
(lower) alkoxycarbonyl and the like.
上記アシル部分は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素の如き
ハロゲンのような置換基を少くとも1個以上有していて
もよい。The acyl moiety may have at least one substituent such as a halogen such as chlorine, bromine, fluorine, or iodine.
適切な「低級アルキル」としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル等の直鎖または分枝型のものを挙げる
ことができるが、炭素原子1〜4個を有するものが好す
しい。Suitable "lower alkyl" may include, for example, straight-chain or branched types such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, etc., but having 1 to 4 carbon atoms. It is preferable to have the following.
適切な1保護されたカルボキシ」としては、エステル化
きれたカルボキシ等を挙げることができる。Suitable "1-protected carboxy" includes esterified carboxy and the like.
該エステル化されたカルボキシにおけるエステル部分の
適切な例としては、例えばアセトキシメチルエステル、
プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメ
チルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロ
イルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチル
エステル、1(または2)−アセトキシエチルエステル
、1(または2)−アセトキシプロピルエステル、1(
または2または3または4)−アセトキシブチルエステ
ル、1(または2)−プロピオニルオキシエチルエステ
ル、1(または2または3)−プロビオニルオキシプロ
ピルエステノ呟 1(また゛は2)−ブチリルオキシエ
チルエステル、1(または2)−イソブチリルオキシエ
チルエステル、1(または2)−ピバロイルオキシエチ
ルエステル、1(または2)−ヘキサノイルオキシエチ
ルエステル、インブチリルオキシメチルエステル、2−
エチルブチリルオキシメチルエステル、3゜3−ジメチ
ルブチリルオキシメチルエステル、1(または2)−ペ
ンタノイルオキシエチルエステル等の低級アルカノイル
オキシ(低級)アルキルエステル、例えば2−メシルエ
チルエステル等の低級アルカンスルホニル(低級)アル
キルエステル、例えば2−ヨードエチルエステル、2,
2.2−トリクロロエチルエステル等のモノ(またはジ
またはトリ)−ハロ(低級)アルキルエステル、イ列え
ばメトキシカルボニルオキシメチルエステル2−メトキ
シカルボニルオキシエチルエステル、1−エトキシカル
ボニルオキシエチルエステル、1−イソプロポキシカル
ボニルオキシエチルエステル等の低級アルフキジカルボ
ニルオキシ(低級)アルキルエステル、フタリジリデン
(低級)アルキルエステルまたは例えば(5−メチル−
2=オキソ−1.3−ジオキソ−ルー4−イル)メチル
エステル、(5−エチル−2−オキソ−1。Suitable examples of the ester moiety in the esterified carboxy include, for example, acetoxymethyl ester,
Propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ester, pivaloyloxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 1 (or 2)-acetoxyethyl ester, 1 (or 2)-acetoxypropyl ester, 1(
or 2 or 3 or 4)-acetoxybutyl ester, 1 (or 2)-propionyloxyethyl ester, 1 (or 2 or 3)-probionyloxypropyl ester, 1 (or 2)-butyryloxyethyl ester , 1 (or 2)-isobutyryloxyethyl ester, 1 (or 2)-pivaloyloxyethyl ester, 1 (or 2)-hexanoyloxyethyl ester, imbutyryloxymethyl ester, 2-
Lower alkanoyloxy (lower) alkyl esters such as ethylbutyryloxymethyl ester, 3゜3-dimethylbutyryloxymethyl ester, 1 (or 2)-pentanoyloxyethyl ester, lower alkanes such as 2-mesylethyl ester, etc. Sulfonyl (lower) alkyl esters, such as 2-iodoethyl ester, 2,
2. Mono (or di or tri)-halo (lower) alkyl esters such as 2-trichloroethyl ester, such as methoxycarbonyloxymethyl ester, 2-methoxycarbonyloxyethyl ester, 1-ethoxycarbonyloxyethyl ester, 1- Lower alkyl dicarbonyloxy (lower) alkyl esters such as isopropoxycarbonyloxyethyl ester, phthalidylidene (lower) alkyl esters or e.g. (5-methyl-
2=oxo-1,3-dioxol-4-yl)methyl ester, (5-ethyl-2-oxo-1.
3−・しオキソール−4−イル)メチルエステル、(5
−プロピル−2−才キソー1.3−ジオキソ−ルー4−
イル)エチルエステル等の(5−低級フルキルー2−才
キソー1.3−ジオキソ−ルー4−イル)(低級)アル
キルエステルの如き適切な置換基を少くとも1個以上有
していてもよい例えばメチルエステル、エチルエステル
、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエ
ステル、イソブチルエステル、t−ブチルエステル、ペ
ンチルエステル、ヘキシルエステル、1−シクロプロピ
ルエチルエステル等の低級アルキルエステル;例えばビ
ニルエステル、アリルエステル等の低級アルケニルエス
テル;例えばエチニルエステル、プロピニルエステル等
の低級アルキニルエステル;例えばベンジルエステル、
4−メトキシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエ
ステル、フェネチルエステル、トリプルエステル、ベン
ズヒドリルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチル
エステル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4−
ヒドロキシ−3.5−ジーを一ブチルベンジルエステル
等の適切な置換基を少くとも1個以上有していてもよい
例えばモノ(またはジまたはトリ)フェニル(低級)ア
ルキルエステル等のアル(低級)アルキルエステル;例
えばフェニルエステル、4−クロロフェニルエステル、
トリルエステル、t−ブチルフェニルエステル、キシリ
ルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル等の
適切な置換基を少くとも1個以上有していてもよいアリ
ールエステル等のよ,うなものを挙げることができる。3-・oxol-4-yl) methyl ester, (5
-Propyl-2-xo-1,3-dioxo-4-
(5-lower furkyl-2-xo-1,3-dioxo-4-yl)(lower) alkyl esters such as ethyl esters, etc. Lower alkyl esters such as methyl ester, ethyl ester, propyl ester, isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, t-butyl ester, pentyl ester, hexyl ester, 1-cyclopropylethyl ester; lower such as vinyl ester, allyl ester, etc. Alkenyl esters; lower alkynyl esters such as ethynyl esters and propynyl esters; such as benzyl esters;
4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenethyl ester, triple ester, benzhydryl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3.4-dimethoxybenzyl ester, 4-
Al (lower) hydroxy-3,5-di may have at least one suitable substituent such as monobutyl benzyl ester, for example mono (or di or tri) phenyl (lower) alkyl ester Alkyl ester; e.g. phenyl ester, 4-chlorophenyl ester,
Examples include aryl esters which may have at least one appropriate substituent, such as tolyl ester, t-butylphenyl ester, xylyl ester, mesityl ester, cumenyl ester, etc. .
適切な「酸残基」としては、アシルオキシ、例えばフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン等を挙げることが
できるが、ここでい、う「アシルオキシ、のアシル部分
としては、前記に例示したものを挙げることができる。Suitable "acid residues" include acyloxy, such as halogens such as fluorine, chlorine, bromine, and iodine. can be mentioned.
目的化合物(I)の好ましい実施態様を、以下に示す。Preferred embodiments of the target compound (I) are shown below.
R1の好ましい実施態様はアミン、R2は低級アルキル
、R3はカルボキシである。A preferred embodiment of R1 is amine, R2 is lower alkyl, and R3 is carboxy.
この発明の目的化合物の製造法を、以下詳細に説明する
。The method for producing the object compound of this invention will be explained in detail below.
1産跋ユニ
目的化合物(I)またはその塩は、化合物(I[)また
はそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩を、
化合物(III)またはそのカルボキシ基における反応
性誘導体またはその塩と反応させることによって製造す
ることができる。The single target compound (I) or a salt thereof is a compound (I[) or a reactive derivative at its amino group or a salt thereof,
It can be produced by reacting with compound (III) or a reactive derivative at its carboxy group or a salt thereof.
化合物(I[)のアミノ基における適切な反応性誘導体
としては、化合物(If)をアルデヒド、ケトン等のよ
うなカルボニル化合物と反応させることによって生成す
るシップ塩基型イミノまたは七の互変異性エナミン型異
性体、化合物(II)をN、O−ビス(トリメデルシリ
ル)アセトアミド、N−トリメチルシリルアセトアミド
等のようなシリル化合物と反応させることによって生成
するシリル誘導体、化合物(I)を三塩化リンまたはホ
スゲンと反応きせることによって生成する誘導体等を挙
げることができる。Suitable reactive derivatives at the amino group of compound (I[) include ship base type imino or hepta-tautomeric enamine type produced by reacting compound (If) with carbonyl compounds such as aldehydes, ketones, etc. isomers, silyl derivatives produced by reacting compound (II) with silyl compounds such as N,O-bis(trimedelsilyl)acetamide, N-trimethylsilylacetamide, etc.; reacting compound (I) with phosphorus trichloride or phosgene; Examples include derivatives produced by oxidation.
化合物(I[)および(II)の適切な塩としては、化
合物(I)について例示したものを挙げることができる
。Suitable salts of compounds (I[) and (II) include those exemplified for compound (I).
化合物(I[)のカルボキシ基における適切な反応性誘
導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性アミド
、活性エステル等を挙げることができる。適切な例とし
ては、酸塩化物;酸アジド;例えばジアルキルリン酸、
フェニルリン酸、ジフェニルリン酸、ジベンジルリン酸
、ハロゲン化リン酸等の置換リン酸、ジアルキル亜リン
酸、亜硫酸、チオ硫酸、例えばメタンスルホン酸、エタ
ンスルホン酸等のアルカンスルホン酸、硫酸、アルキル
炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸
、2−エチル酪酸、トリクロロ酢酸等の脂肪族カルボン
酸または例えば安息香酸等の芳香族カルボン酸のような
酸との混合酸無水物:対称酸無水物;イミダゾール、4
−置換イミダゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾー
ルまたはテトラゾールとの活性アミド;または例えばシ
アノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチ
ルイミノメチル[(CH2)−=cH−1エステル、ビ
ニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニトロフェ
ニルエステル、2.4−ジニトロフェニルエステル、ト
リクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエス
テル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェニル
エステル、フェニルチオエステル、p−ニトロフェニル
チオエステル、p−タレシルチオエステル、カルボキシ
メチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエス
テル、ピペリジルエステル、8−キノリルチオエステル
等の活性エステル、または例えばN、N−ジメチルヒド
ロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2−(IH)−ピリ
ドン、N−ヒドロキシスクシンイミド、N−ヒドロキシ
フタルイミド、1−ヒドロキシ−6−クロロ−IH−ベ
ンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのエステ
ル等が挙げられる。これらの反応性誘導体は、使用され
る化合物(II[)の種類に応じて適宜選択することが
できる。Suitable reactive derivatives of the carboxy group of compound (I[) include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, and the like. Suitable examples include acid chlorides; acid azides; e.g. dialkyl phosphoric acids,
Substituted phosphoric acids such as phenyl phosphoric acid, diphenyl phosphoric acid, dibenzyl phosphoric acid, halogenated phosphoric acid, dialkyl phosphorous acids, sulfites, thiosulfuric acids, alkanesulfonic acids such as methanesulfonic acid and ethanesulfonic acid, sulfuric acid, alkyl carbonates, Mixed acid anhydrides with acids such as aliphatic carboxylic acids such as pivalic acid, pentanoic acid, isopentanoic acid, 2-ethylbutyric acid, trichloroacetic acid or aromatic carboxylic acids such as e.g. benzoic acid: symmetric acid anhydrides; imidazole , 4
- activated amides with substituted imidazoles, dimethylpyrazoles, triazoles or tetrazoles; or for example cyanomethyl esters, methoxymethyl esters, dimethyliminomethyl [(CH2)-=cH-1 esters, vinyl esters, propargyl esters, p-nitrophenyl esters , 2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, pentachlorophenyl ester, mesylphenyl ester, phenylazophenyl ester, phenylthioester, p-nitrophenylthioester, p-talesylthioester, carboxymethylthioester, pyranyl ester, pyridyl ester , piperidyl ester, 8-quinolylthioester, or active esters such as N,N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2-(IH)-pyridone, N-hydroxysuccinimide, N-hydroxyphthalimide, 1-hydroxy- Examples include esters with N-hydroxy compounds such as 6-chloro-IH-benzotriazole. These reactive derivatives can be appropriately selected depending on the type of compound (II[) used.
反応は、通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニト
リル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、N、N−ジメチルホル
ムアミド、ピリジンのような慣用の溶媒もしくは反応に
悪影響を及ぼさないその他のあらゆる有機溶媒中で行わ
れる。これらの慣用の溶媒は水と混合して使用してもよ
い。The reaction is usually carried out in a conventional solvent such as water, acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, N,N-dimethylformamide, pyridine or any other solvent that does not adversely affect the reaction. It is carried out in an organic solvent. These conventional solvents may be used in combination with water.
化合物(III)を遊離または塩の形で使用する場合、
反応は、N、N’−ジシクロへキシルカルボジイミド、
N−シクロへキシル−N゛−モルホリノエチルカルボジ
イミド、N−シクロヘキシル−N’−(4−ジエチルア
ミノシクロヘキシルルボジイミド、N.N’−ジエチル
カルボジイミド、N、N’−ジイソプロピルカルボジイ
ミドN−エチル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル
)カルホシイミF.N.Nーカッしボニルビス−(2−
メチルイミダゾール)、ペンタメチレンケテン−N−シ
クロヘキシルイミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘ
キシルイミン、エトキシアセチレン、1−アルコキシ−
1−クロロエチレン、亜リン酸トリアルキル、ポリリン
酸エチル、ポリリン酸イソプロピル、オキシ塩化リン(
塩化ホスホリル)、三塩化リン、塩化チオニル、塩化オ
キサリル、トリフェニルホスフィン、2−エチル−7−
ヒドロキシベンゾイソキサゾリウム塩、2−エチル−5
−(m−スルホフェニル)インキサゾリウムヒドロキシ
ド分子内塩、1−(p−クロロベンゼンスルホニルオキ
ジ)−6−クロロ−IH−ベンゾトリアゾール、N,N
−ジメチルホルムアミドを塩化チオニル、ホスゲン、オ
キシ塩化リン等と反応させることによっ工製造される所
謂ビルスマイヤー試薬等のような慣用の縮合剤の存在下
に行うことが好ましい。When compound (III) is used in free or salt form,
The reaction involves N,N'-dicyclohexylcarbodiimide,
N-cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N'-(4-diethylaminocyclohexylrubodiimide, N.N'-diethylcarbodiimide, N,N'-diisopropylcarbodiimide N-ethyl-N'- (2-
methylimidazole), pentamethyleneketene-N-cyclohexylimine, diphenylketene-N-cyclohexylimine, ethoxyacetylene, 1-alkoxy-
1-chloroethylene, trialkyl phosphite, ethyl polyphosphate, isopropyl polyphosphate, phosphorus oxychloride (
phosphoryl chloride), phosphorus trichloride, thionyl chloride, oxalyl chloride, triphenylphosphine, 2-ethyl-7-
Hydroxybenzisoxazolium salt, 2-ethyl-5
-(m-sulfophenyl)inxazolium hydroxide inner salt, 1-(p-chlorobenzenesulfonylokidi)-6-chloro-IH-benzotriazole, N,N
- It is preferred to carry out in the presence of a conventional condensing agent such as the so-called Vilsmeier reagent, which is prepared by reacting dimethylformamide with thionyl chloride, phosgene, phosphorus oxychloride, etc.
反応は、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ(低級)アルキ
ルアミン、ピリジン、N−(低級)アルキルモルホリン
、 N.N−ジ(低級)アルキルベンジルアミン等のよ
うな無機または有機塩基の存在下に行ってもよい.反応
温度は特に限定されないが、通常冷却下もしくは室温で
反応が行われる。The reaction is performed using an alkali metal bicarbonate, a tri(lower)alkylamine, pyridine, N-(lower)alkylmorpholine, N. It may be carried out in the presence of an inorganic or organic base such as N-di(lower)alkylbenzylamine and the like. Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling or at room temperature.
1産盈1:
目的化合物(1)またはその塩は、化合物(IV)また
はその塩を、化合物(V)またはその塩と反応させるこ
とによって製造することができる。Production 1: Target compound (1) or a salt thereof can be produced by reacting compound (IV) or a salt thereof with compound (V) or a salt thereof.
化合物(KV>の適切な塩としては、化合物(I>につ
いて例示したものを挙げることができる。Suitable salts for compound (KV>) include those exemplified for compound (I>).
化合物(Vlの適切な塩としては、例えばナトリウム塩
、カリウム塩等のアルカリ金属塩、銀塩等のような金属
塩を挙げることができる。Suitable salts of the compound (Vl) include, for example, alkali metal salts such as sodium salts and potassium salts, metal salts such as silver salts, etc.
この反応は、水、リン酸緩衝液、アセトン、クロロホル
ム、ニトロベンゼン、塩化エチレン、塩化エチレン、ア
セトニトリル、N.N−ジメチルホルムアミド、メタノ
ール、エタノール、ニーチル、テトラヒドロフラン、ジ
メチルスルホキシドのような溶媒または反応に悪影響を
及ぼさないその他のあらゆる溶媒、好ましくは強い極性
を有する溶媒中で行ってよい.これらの溶媒中で、親水
性の溶媒は水と混合して使用してもよい.反応はほぼ中
性の溶媒中で行うことが好ましい.化合物(V)を遊離
形で用いる場合、反応は塩基、例えばアルカリ金属水酸
化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩の
ような無機塩基、トリアルキルアミンのような有機塩基
等の存在下に行うことが好ましご・、反応温度は特に限
定きれないが、通常、冷却下、室温、加温下もしくはや
や加熱下に反応が行われる。This reaction consists of water, phosphate buffer, acetone, chloroform, nitrobenzene, ethylene chloride, ethylene chloride, acetonitrile, N. It may be carried out in a solvent such as N-dimethylformamide, methanol, ethanol, nityl, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide or any other solvent that does not adversely affect the reaction, preferably a strongly polar solvent. Among these solvents, hydrophilic solvents may be used in combination with water. It is preferable to carry out the reaction in a nearly neutral solvent. When compound (V) is used in free form, the reaction is carried out in the presence of a base, such as an inorganic base such as an alkali metal hydroxide, an alkali metal carbonate, an alkali metal hydrogen carbonate, an organic base such as a trialkylamine, etc. Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling, room temperature, heating, or slightly heating.
この発明の目的化合物(1)およびその塩は、高い抗菌
活性を示し、グラム陽性およびグラム陰性菌を含む多種
にわたる病原菌の発育を阻止する新規化合物であり、抗
菌剤として有用である。The object compound (1) of the present invention and its salts are novel compounds that exhibit high antibacterial activity and inhibit the growth of a wide variety of pathogenic bacteria, including gram-positive and gram-negative bacteria, and are useful as antibacterial agents.
薬物治療には、この発明の化合物は、経口投与、非経口
投与または外用に適した有機または無機の固体状もしく
は液状賦形剤のような医薬として許容される担体と混合
して、該化合物を有効成分として含有する医薬製剤の形
で使用することができる.医薬製剤は、カプセル剤、錠
剤、糖衣錠、軟膏剤または坐剤、液剤、懸濁剤、乳剤等
であってよい.所望によっては、上記製剤に助剤、安定
化剤、m.W4剤または乳化剤、緩衝液および通常使用
されるその他の添加剤が含.まれでいてもよい。For drug therapy, the compounds of this invention may be mixed with pharmaceutically acceptable carriers such as organic or inorganic solid or liquid excipients suitable for oral, parenteral or topical administration. It can be used in the form of pharmaceutical preparations containing it as an active ingredient. Pharmaceutical formulations may be capsules, tablets, dragees, ointments or suppositories, solutions, suspensions, emulsions, and the like. If desired, the above formulation may contain auxiliaries, stabilizers, m.p. Contains W4 agents or emulsifiers, buffers and other commonly used additives. It's okay to be rare.
化合物の投与量は、患者の年令および容態によって変化
するが、この発明の化合物は、平均1回投与量約10m
g, 50mg, 100mg, 250mg, 50
0mgおよび1000mgで病原菌に起因する感染症の
治療に有効である.一般的には、1日1 mg 〜60
00mgまたはそれ以上の量を投与してもよい。Although the dosage of the compound varies depending on the age and condition of the patient, the compound of this invention has an average single dose of about 10 m
g, 50mg, 100mg, 250mg, 50
It is effective in treating infections caused by pathogenic bacteria at 0mg and 1000mg. Generally 1 mg to 60 mg per day
Amounts of 00 mg or more may be administered.
目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的な
化合物の抗菌活性を以下に示す。In order to demonstrate the usefulness of the target compounds, the antibacterial activity of representative compounds of this invention is shown below.
[1]試試験台物ニ
ア−[2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミトコ−3−(1.2.4−チ
アジアゾール−5−イル)チ才メチル−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)[以下化合物(1)と称
す]
[2]試験法:
下記の寒天板倍数希釈法によって試験管内抗菌活性を測
定した。[1] Trial test stand Nia-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamitoco-3-(1.2.4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3- Cephem
4-Carboxylic acid (syn isomer) [hereinafter referred to as compound (1)] [2] Test method: In vitro antibacterial activity was measured by the following agar plate multiple dilution method.
試験菌株をトリプトケース ソイブロス中、−夜培養し
てその1白金耳(生菌数108個/wit)を各濃度段
階の試験化合物を含むハート インフュージョン寒天(
HI寒天)に接種し、37℃で20時間培養した後、最
小発育阻止濃度(MIC)を(/戚で表わした。The test bacterial strain was cultured overnight in tryptopase soy broth, and one platinum loop (108 viable bacteria/wit) was transferred to heart infusion agar containing the test compound at each concentration level.
After inoculating on HI agar) and culturing at 37°C for 20 hours, the minimum inhibitory concentration (MIC) was expressed as (/relative).
[3]試験結果:
MIc(</all)
以下、製造例および実施例に従って、この発明を説明す
る。[3] Test results: MIc (</ all ) The present invention will be described below according to Production Examples and Examples.
1産烹ニ
アーアミノセファロスポラン酸(21,2g ) ヲ、
カリウムL、2.4−チアジアゾール−5−チオラート
(10,6g)のトリフルオロ酢酸(370戚)中溶液
に加え、混合物を透明になる迄2.3分攪拌し、三フッ
化ホウ素エーテル鎗体をこれに加えた後、混合物を室温
で7時間攪拌する0反応混合物を減圧下に蒸発させ、残
渣を3%水酸化アンモニウム水溶液でpH3,0にll
tする。沈殿を濾取し、アセトンおよびジエチルエーテ
ルで洗浄し、乾燥して、粗目的化合物(28,5g)を
得る。この粗目的化合物(25,0g)を濃塩酸(23
011111)に懸濁し、混合物を室温で30分間攪拌
する。不溶物を濾去し、濾過溶液を28%水酸化アンモ
ニウム水溶液で、水冷下に、pH3,0に調整する。得
られる沈殿を濾取し、冷水、アセトンおよびジイソプロ
ピルエーテルで洗浄し、乾燥して、7−アミノ−3−(
1,2,4−チアジアゾール−5−イル)チオメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸(15,8g)を得る。1 produced aminocephalosporanic acid (21.2g),
Potassium L, 2,4-thiadiazole-5-thiolate (10,6 g) was added to a solution of trifluoroacetic acid (370 acetic acid) and the mixture was stirred for 2.3 minutes until clear, and the boron trifluoride ether ring was added. was added to this and the mixture was stirred at room temperature for 7 h. The reaction mixture was evaporated under reduced pressure and the residue was brought to pH 3.0 with 3% aqueous ammonium hydroxide solution.
Do t. The precipitate is collected by filtration, washed with acetone and diethyl ether, and dried to obtain the crude target compound (28.5 g). This crude target compound (25.0 g) was mixed with concentrated hydrochloric acid (23.0 g).
011111) and the mixture is stirred at room temperature for 30 minutes. Insoluble matters were removed by filtration, and the filtered solution was adjusted to pH 3.0 with a 28% aqueous ammonium hydroxide solution under water cooling. The resulting precipitate was collected by filtration, washed with cold water, acetone and diisopropyl ether, and dried to give 7-amino-3-(
1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-
3-cephem-4-carboxylic acid (15.8 g) is obtained.
LR(xジ偕−ル) : 3150. 1790.
1610. 1530 cm−’NMR(CF3C
OOH,δ) : 3.87 (2H,s)、 4.6
3.4.97(2H,ABq、J=14Hz>、 5
.43 (2H,m)、 8.93(IH,s)
哀鳳コ]
2−エトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)酢酸(シン異性体)(0,215g)のN、N
−ジメチルホルムアミド(3111)中溶液に、ジイソ
プロピルエチルアミン(0,258g)と塩化メシル(
0,229g)との混合物を一30℃で加え、混合物を
同温度で1時間攪拌して、活性化酸溶液を得る。7−ア
ミノ−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−イル)
チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(0,39
6g)、水(6誰)、テトラヒドロフラン(611)の
混合物に、上記で得られた活性化酸溶液を、氷浴中で冷
却下に加え、混合物を炭酸水素ナトリウム水溶液で−7
,5にU4tuた後、炭酸水素ナトリウムでpH値を7
.0〜8.0に保ちながら、冷却下に1.5時間攪拌す
る。溶液を6N塩酸でpH3,0に調整し、塩化ナトリ
ウムで飽和し、テトラヒドロフラン(101nll ’
)と酢酸エチル(100111)との混液で抽出する。LR (x Dial): 3150. 1790.
1610. 1530 cm-'NMR (CF3C
OOH, δ): 3.87 (2H, s), 4.6
3.4.97 (2H, ABq, J=14Hz>, 5
.. 43 (2H, m), 8.93 (IH, s) 2-ethoxyimino-2-(2-aminothiazole-4
-yl) acetic acid (syn isomer) (0,215g) N,N
- Diisopropylethylamine (0,258 g) and mesyl chloride (
0.229 g) was added at -30° C. and the mixture was stirred at the same temperature for 1 hour to obtain an activated acid solution. 7-amino-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)
Thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (0,39
The activated acid solution obtained above was added to a mixture of 6g), water (6g), and tetrahydrofuran (611) under cooling in an ice bath, and the mixture was diluted with an aqueous sodium bicarbonate solution at -7g.
, and then adjust the pH value to 7 with sodium bicarbonate.
.. Stir for 1.5 hours while keeping the temperature between 0 and 8.0 while cooling. The solution was adjusted to pH 3.0 with 6N hydrochloric acid, saturated with sodium chloride and diluted with tetrahydrofuran (101 nll').
) and ethyl acetate (100111).
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥した後蒸発きせ、残渣
をジエチルエーテル中で粉砕して、7−[2−エトキシ
イミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド]−3−(1,2,4−チアジアゾール−5−
イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(シ
ン異性体) (0,110g )を得る。The extract was dried over magnesium sulfate and then evaporated, and the residue was triturated in diethyl ether to give 7-[2-ethoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-(1, 2,4-thiadiazole-5-
yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (0,110 g) is obtained.
融点210℃(分解)
LR(スジツール) ! 3300. 1780.
1670. 1630゜1530 cm−’
NMR(DMSO−ds、6 ) ’ 1−22 (3
H,t、J=6Hz)、 3.74(2H,m)、 4
.12 (2H,q、J=6Hz)、 4.30.4.
64(2H,ABq、J=14Hz)、 5.18 (
IH,d、J=5Hz)。Melting point: 210℃ (decomposition) LR (striped tool)! 3300. 1780.
1670. 1630°1530 cm-' NMR (DMSO-ds, 6)' 1-22 (3
H, t, J=6Hz), 3.74 (2H, m), 4
.. 12 (2H, q, J=6Hz), 4.30.4.
64 (2H, ABq, J=14Hz), 5.18 (
IH, d, J = 5Hz).
5.76 (IH,dd、JニアHz、5Hz)、 6
.78 (18,s)。5.76 (IH, dd, J near Hz, 5Hz), 6
.. 78 (18, s).
8.71 (IH,s)、 9.57 (IH,d、J
=7Hz>1崖■1
実施例1の方法に準じて、下記の化合物を得る。8.71 (IH, s), 9.57 (IH, d, J
=7Hz>1 cliff ■1 According to the method of Example 1, the following compound is obtained.
7−[2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミトコ−3−(1,2,4−チ
アジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)
融点205℃〈分解)
IR(Xジ1−L) ’ 1780. 1670.
1630 cm−1に菖忽ニ
ア−[2−メトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]セファ0スボラン#(シ
ン異性体) (4,55g ) 、カリウム1.2.4
−チアジアゾール−5−チオラート(1,36g)、炭
酸水素ナトリウム(0,84g)およびリン酸緩衝液(
pH6,86、LQOml )の混合物を65℃で5.
5時間攪拌し、冷却して、6N塩酸でpH3,0にv4
!!する。得られる沈殿を濾取し、炭酸水素ナトリウム
水溶液に溶解し、この溶液にさらに6N塩酸を加えて沈
殿を得る。沈殿を濾取し、炭酸水素ナトリウム水溶液に
溶解した後、水溶液を非イオン性吸着樹脂1ダイヤイオ
ンHP−20J’ (商標、三菱化成工業社製) (1
00111)のカラムクロマトグラフィに付す。7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamitoco-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-
4-Carboxylic acid (syn isomer) Melting point 205°C (decomposition) IR (Xdi1-L)' 1780. 1670.
At 1630 cm-1, Iris Ni-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]cephalosborane # (synisomer) (4.55 g), potassium 1.2.4
-thiadiazole-5-thiolate (1,36 g), sodium bicarbonate (0,84 g) and phosphate buffer (
pH 6.86, LQOml) mixture at 65°C for 5.
Stir for 5 hours, cool and adjust to pH 3.0 with 6N hydrochloric acid v4.
! ! do. The resulting precipitate is collected by filtration and dissolved in an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and 6N hydrochloric acid is further added to this solution to obtain a precipitate. After filtering the precipitate and dissolving it in an aqueous sodium bicarbonate solution, the aqueous solution was mixed with a nonionic adsorption resin 1 Diaion HP-20J' (trademark, manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) (1
00111) is subjected to column chromatography.
カラムを水洗した後、10%イソプロピルアルコール水
溶液で溶出する。目的化合物を含む溶出画分を集め、塩
化ナトリウムで飽和し、テトラヒドロフランで抽出する
。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥した後蒸発きせ、残
渣をジエチルエーテル中で粉砕して、7−[2−メトキ
シイミノ−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミトコ−3−(1,2,4−チアジアゾール−5
−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カルボン酸(
シン異性体)(0,75g)を得る。After washing the column with water, it is eluted with a 10% aqueous isopropyl alcohol solution. The eluted fractions containing the target compound are collected, saturated with sodium chloride, and extracted with tetrahydrofuran. The extract was dried over magnesium sulfate and then evaporated, and the residue was triturated in diethyl ether to give 7-[2-methoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamitoco-3-(1,2 ,4-thiadiazole-5
-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (
Syn isomer) (0.75 g) is obtained.
融点205℃(分解)
IR(Xジ*−h) : 1780. 1670.
1630 cm−1HMR(DMSO−d6.8
) : 3.53.3.79 (2H,ABq。Melting point 205°C (decomposition) IR (Xdi*-h): 1780. 1670.
1630 cm-1HMR (DMSO-d6.8
): 3.53.3.79 (2H, ABq.
J=181(z)、 3.86 (3H,s)、 4.
30.4.60 (2H。J=181(z), 3.86 (3H,s), 4.
30.4.60 (2H.
ABq、J=14Hz>、 5.13 (LH,d、J
=5Hz)、 5.74(IH,dd、J=7Hz、5
Hz>、 6.76 (IH,s)、 8.68(LH
,s)、 9.58 (IH,d、、C7Hz>実施例
4
実施例3の方法に準じて、下記の化合物を得る。ABq, J=14Hz>, 5.13 (LH, d, J
=5Hz), 5.74(IH, dd, J=7Hz, 5
Hz>, 6.76 (IH, s), 8.68 (LH
,s), 9.58 (IH,d,,C7Hz>Example 4 According to the method of Example 3, the following compound is obtained.
7−[2−エトキシイミノ−2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)アセトアミド]−3−(1,2,4−チ
アジアゾール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸(シン異性体)
融点210℃(分解)
IR(スジヲール) : 3300. 1780.
1670. 1630゜1530 cm−17-[2-ethoxyimino-2-(2-aminothiazol-4-yl)acetamide]-3-(1,2,4-thiadiazol-5-yl)thiomethyl-3-cephem-
4-Carboxylic acid (synisomer) Melting point: 210°C (decomposition) IR (Sujiwor): 3300. 1780.
1670. 1630°1530 cm-1
Claims (1)
^2は低級アルキル、R^3はカルボキシまたは保護さ
れたカルボキシ基である)で示される新規セフェム化合
物およびその塩。 2、(1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^3はカルボキシまたは保護されたカルボキ
シ基である)で示される化合物またはそのアミノ基にお
ける反応性誘導体またはその塩を、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1はアミノまたは保護されたアミノ基、R
^2は低級アルキルである)で示される化合物またはそ
のカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩と反
応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3はそれぞれ前記と同義
である)で示される化合物またはその塩を得るか、また
は (2)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3はそれぞれ前記と同義
であり、Yは酸残基である)で示される化合物またはそ
の塩を、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される化合物またはその塩と反応させて、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3はそれぞれ前記と同義
である)で示される化合物またはその塩を得ることを特
徴とする式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1、R^2、R^3はそれぞれ前記と同義
である)で示される新規セフェム化合物またはその塩の
製造法。[Claims] 1. Formulas: ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R^1 is amino or a protected amino group, R
^2 is lower alkyl, R^3 is carboxy or a protected carboxy group) and salts thereof. 2. Formula (1): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^3 is carboxy or a protected carboxy group) Compound or its reactive derivative at the amino group or its salt , formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1 is amino or a protected amino group, R
^2 is lower alkyl) or its reactive derivative at the carboxy group or its salt to form a compound represented by the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (where R^1, R^ 2, R^3 have the same meanings as above) or a salt thereof, or formula (2): ▲There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^ 2, R^3 have the same meanings as above, Y is an acid residue) or a salt thereof, and a compound or a salt thereof represented by the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ By reacting, a compound represented by the formula: ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (in the formula, R^1, R^2, and R^3 each have the same meaning as above) or a salt thereof is obtained. Featured formulas: ▲Mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, R^1, R^2, R^3 each have the same meanings as above) A method for producing a novel cephem compound or its salt .
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8501159 | 1985-01-17 | ||
GB858501159A GB8501159D0 (en) | 1985-01-17 | 1985-01-17 | Cephem compounds |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61165394A true JPS61165394A (en) | 1986-07-26 |
Family
ID=10572984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29758985A Pending JPS61165394A (en) | 1985-01-17 | 1985-12-26 | Novel cephem compound and preparation thereof |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61165394A (en) |
GB (1) | GB8501159D0 (en) |
-
1985
- 1985-01-17 GB GB858501159A patent/GB8501159D0/en active Pending
- 1985-12-26 JP JP29758985A patent/JPS61165394A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8501159D0 (en) | 1985-02-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5401734A (en) | Cephem compounds | |
US5302712A (en) | Intermediates for cephem compounds | |
HU202540B (en) | Process for producing new cefem derivatives and pharmaceutical compositions comprising same | |
US5366970A (en) | Cephem compounds and pharmaceutically acceptable salts thereof | |
JP2817203B2 (en) | Novel cephem compound and method for producing the same | |
JPH0261479B2 (en) | ||
WO1992021683A1 (en) | New cephem compounds | |
JPH0240679B2 (en) | ||
JPH0323554B2 (en) | ||
JP2827260B2 (en) | Novel cephem compound and method for producing the same | |
JPH02790A (en) | Production of 7-(2-(2-aminothiazol-4yl)-2-hydroxyiminoacetamide)-3-cephem compound | |
JPS59122497A (en) | Novel cephem compound and its preparation | |
JPH05178862A (en) | New cephew compound | |
JPH04288086A (en) | New cephem compound | |
JPH0733777A (en) | New cephem compound | |
JPS61165394A (en) | Novel cephem compound and preparation thereof | |
JPH05222058A (en) | New cephem compound and its salt | |
JPS6236387A (en) | 3,7-disubstituted-3-cephem compound and production thereof | |
JPH06135972A (en) | New cephem compound | |
KR970010070B1 (en) | Cephem compounds | |
JPS6141918B2 (en) | ||
JPH0359076B2 (en) | ||
JPH0426692A (en) | Novel cephem compound | |
JPS61106581A (en) | Novel cephem compound and preparation thereof | |
JPH0330597B2 (en) |