JPS61106531A - ジヒドロキシベンゼン誘導体 - Google Patents
ジヒドロキシベンゼン誘導体Info
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- JPS61106531A JPS61106531A JP22935084A JP22935084A JPS61106531A JP S61106531 A JPS61106531 A JP S61106531A JP 22935084 A JP22935084 A JP 22935084A JP 22935084 A JP22935084 A JP 22935084A JP S61106531 A JPS61106531 A JP S61106531A
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- Japan
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- group
- formula
- resorcinol
- lower alkyl
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は医療、殊に５Ｒ８−Ａ （ＳＩＯＷ ｒｅａｃ
ｔｉｎｇ ５ｕｂｓ−ｔａｎｃｅ ｏｆ ａｎａｐｈｙ
ｌａｘｉｓ）抑制剤や、その中間体として有用な新規ジ
ヒドロキシベンゼン誘導体に関する。
ｔｉｎｇ ５ｕｂｓ−ｔａｎｃｅ ｏｆ ａｎａｐｈｙ
ｌａｘｉｓ）抑制剤や、その中間体として有用な新規ジ
ヒドロキシベンゼン誘導体に関する。
〈発明の構成〉
本発明の化合物は２次の一般式（Ｉｌで示される。
（式中の記号は以下の意味を示す。
ＲＩ：水素原子又は低級アルキル基
で示される基はレゾルシノール−２−イル基、レゾルシ
ノール−４−イル基、レゾルシ／−ルー５−イルＬ、又
はピロカテコール−３−イル基を意味し、 Ｒ１が低
級アルキル基であるときは２式−ＯＲ＋で示される基は
フェニル基の２位又は４位に結合する）〈目的物の具体
的説明〉 上記一般式の用語をさらに説明すると以下の通りである
。
ノール−４−イル基、レゾルシ／−ルー５−イルＬ、又
はピロカテコール−３−イル基を意味し、 Ｒ１が低
級アルキル基であるときは２式−ＯＲ＋で示される基は
フェニル基の２位又は４位に結合する）〈目的物の具体
的説明〉 上記一般式の用語をさらに説明すると以下の通りである
。
Ｒ１が意味する低級アルキル基としては、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソブチル基。
チル基、プロピル基、イソブチル基。
ブチル基、イソブチル基、 ５ｅｅ−ブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基等の炭素数が１乃至５
個の直鎖又は分岐状のアルキル基が挙げられる。
ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基等の炭素数が１乃至５
個の直鎖又は分岐状のアルキル基が挙げられる。
また、Ｒ２カ意味するヒドロキシアルキル基は。
水酸基が任意の位置で置換した炭素数が５乃至２０個、
好ましくは７乃至１５個の直鎖又は分岐状のアルキレン
基であり、直鎖状のアルキレン基の例としては、たとえ
ばペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレ
ン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレ
ン基。
好ましくは７乃至１５個の直鎖又は分岐状のアルキレン
基であり、直鎖状のアルキレン基の例としては、たとえ
ばペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレ
ン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレ
ン基。
；、 ウンデカメチレフ基、ドデカメチレン基。
トリテカメチレン基、ペンタデカメチレン基。
ヘプタデカメチレン基、ノナデカメチレン基。
エイコサメチレン基等が挙げられる。
また分岐状のアルキレン基としては２代表的なものを挙
げれば２−ヘキシルエチレン基、２−ヘブチルエチレン
基、２−オクチルエチレン基、２−ノニルエチレン基、
３−エチルトリメチレン基、３−プロピルトリメチレン
基、３−インプロピルトリメチレン基、３−ブチルトリ
メチレン基、３−（１−メチルプロピル）トリメチレン
基、３−ペンチルトリメチレン基、３−イソペンチルト
リメチレン基、３−（１−メチルブチル）トリメチレン
基、３−へキシルトリメチレン基、３−（１−メチルペ
ンチル）トリメチレン基、３−ヘプチルトリメチレン基
。
げれば２−ヘキシルエチレン基、２−ヘブチルエチレン
基、２−オクチルエチレン基、２−ノニルエチレン基、
３−エチルトリメチレン基、３−プロピルトリメチレン
基、３−インプロピルトリメチレン基、３−ブチルトリ
メチレン基、３−（１−メチルプロピル）トリメチレン
基、３−ペンチルトリメチレン基、３−イソペンチルト
リメチレン基、３−（１−メチルブチル）トリメチレン
基、３−へキシルトリメチレン基、３−（１−メチルペ
ンチル）トリメチレン基、３−ヘプチルトリメチレン基
。
３−（１−メチルヘキシル）トリメチレン基。
３＝（１−エチルペンチル）トリメチレン基。
３−オクチルトリメチレン基、３＝（１−メチルヘフチ
ル）トリメチレン基、３−（１−エチ／、、、、ヤ、ｚ
、））ヮ、ｆ、７カ＋ ３− ／＝、ｔ、）、 ＋）
’。
ル）トリメチレン基、３−（１−エチ／、、、、ヤ、ｚ
、））ヮ、ｆ、７カ＋ ３− ／＝、ｔ、）、 ＋）
’。
メチレン基、３−デシルトリメチレン基、３−ドデシル
トリメチレン基、３−テトラデシルトリメチレン基、４
−ペンチルテトラメチレン基。
トリメチレン基、３−テトラデシルトリメチレン基、４
−ペンチルテトラメチレン基。
４−へキシルテトラメチレン基、４−へブチルテトラメ
チレン基、５−ブチルペンタメチレン基、Ｓ−ペンチル
ペンタメチレン基、５−へキノルペンタメチレン基、８
−メチルオクタメチレン基・等が挙げられる。
チレン基、５−ブチルペンタメチレン基、Ｓ−ペンチル
ペンタメチレン基、５−へキノルペンタメチレン基、８
−メチルオクタメチレン基・等が挙げられる。
上記一般式ｆＩ）で示される化合物には不斉炭素原子を
有する化合物が含まれている。このような化合物には不
斉炭素原子に基づく立体異性体が存在する。本発明化合
物は立体異性体の分離されたものおよびこれらの混合物
を包含する。
有する化合物が含まれている。このような化合物には不
斉炭素原子に基づく立体異性体が存在する。本発明化合
物は立体異性体の分離されたものおよびこれらの混合物
を包含する。
〈発明の背景〉
ヒトのアレルギー性喘息やその他のアトヒー性疾患、あ
るいは動物のアナフィラキシ−ショックにおいて１種々
の化学伝達物質が肺やその他の組織から遊離され、気管
支筋、肺血管などの平滑筋を収縮したり、皮膚血管の透
過性を光通するなどして生体に障害をひきおこすと考え
られている。このような化学伝達物質としてヒスタミン
およびＳＲ８−Ａがあげられる。ヒスタミンはモルモッ
トのアナフィラキシ−ショックにおいては重要な役割を
はたしているが、ヒトアレルギー性喘息においてはあま
り重要な化学伝達物質ではない（Ｅｉｓｅｒ、 Ｐｈａ
ｒｍａｃ、 Ｔｈｅｒ−＋ １７＋ ２３９−２５０（
１９８２））。
るいは動物のアナフィラキシ−ショックにおいて１種々
の化学伝達物質が肺やその他の組織から遊離され、気管
支筋、肺血管などの平滑筋を収縮したり、皮膚血管の透
過性を光通するなどして生体に障害をひきおこすと考え
られている。このような化学伝達物質としてヒスタミン
およびＳＲ８−Ａがあげられる。ヒスタミンはモルモッ
トのアナフィラキシ−ショックにおいては重要な役割を
はたしているが、ヒトアレルギー性喘息においてはあま
り重要な化学伝達物質ではない（Ｅｉｓｅｒ、 Ｐｈａ
ｒｍａｃ、 Ｔｈｅｒ−＋ １７＋ ２３９−２５０（
１９８２））。
一方、５Ｒ８−Ａがヒトのアレルギー性喘息において最
も重４要な化学伝達物質であることを示唆する多（の証
拠がある（ Ｂｒｏｃｋｌｅｈｕｒｓｔ、 Ｊ、 Ｐｈ
ｙｓｉｏｌ、＋１５１、４１６−４３５（１９６０）
； Ａｕ５ｔｅｎおよびＯｒａｎｇｅ。
も重４要な化学伝達物質であることを示唆する多（の証
拠がある（ Ｂｒｏｃｋｌｅｈｕｒｓｔ、 Ｊ、 Ｐｈ
ｙｓｉｏｌ、＋１５１、４１６−４３５（１９６０）
； Ａｕ５ｔｅｎおよびＯｒａｎｇｅ。
Ａｍ、 Ｒｅｖ、 Ｒｅ５ｐ、 Ｄｉｇ、、 １２＋
４２３−４３６（１９７５） ； ＡｄａｍｓおよびＬ
ｊｃｈｔｅｎａｔｅｉｎ＋ Ｊ、 Ｉｍｍｕｎｏｌ、
・１２２＋ ５５５−５６２（１９７９））。
４２３−４３６（１９７５） ； ＡｄａｍｓおよびＬ
ｊｃｈｔｅｎａｔｅｉｎ＋ Ｊ、 Ｉｍｍｕｎｏｌ、
・１２２＋ ５５５−５６２（１９７９））。
アレルギー性反応の症状を予防ないし除去。
または軽減するための薬剤の開発はかがる化学伝達物質
の産生、放出を抑制することまたはそれらの効果に拮抗
することを目標として行われていた。ヒスタミンの放出
を抑制する薬剤としてはジンジウム クロモグリク−１
） （ｄｉｓｏｄｉｕｍｃｒｏｍｏｇｌｙｃａｔｅ、
ＤＳＣＧ ）が著名であり、ヒスタミンに拮抗する薬剤
としては、多数の抗ヒスタミン剤が市販されている。一
方、 ５Ｒ８−Ａは、ヒスタミンが速効性で持続時間
が短い化学伝達体であるのに対し、遅効性で持続時間が
長（・化学伝達体として知られていたが、最近Ｓａｍｕ
ｅｌｓｓｏｎが構造決定したロイコトリエンＣ，，Ｄ４
およびＲ４の混合物であることが明らかにされた。ＳＲ
８−Ａ即ちロイコトリエン（Ｌｅｕｋｏｔｒｉｅｎｓ
）は多価不飽和脂肪酸（特にアラキドン酸）のりボキシ
ゲナーゼによる代謝物であり、前記アレルギー性反応に
おける化学伝達体としての作用以外に粘液分泌元通作用
、繊毛運動低下作用、冠血管収縮作用、心収縮力低下作
用等の作用があることが明らかにされている。このよう
な５Ｒ８−Ａの産生。
の産生、放出を抑制することまたはそれらの効果に拮抗
することを目標として行われていた。ヒスタミンの放出
を抑制する薬剤としてはジンジウム クロモグリク−１
） （ｄｉｓｏｄｉｕｍｃｒｏｍｏｇｌｙｃａｔｅ、
ＤＳＣＧ ）が著名であり、ヒスタミンに拮抗する薬剤
としては、多数の抗ヒスタミン剤が市販されている。一
方、 ５Ｒ８−Ａは、ヒスタミンが速効性で持続時間
が短い化学伝達体であるのに対し、遅効性で持続時間が
長（・化学伝達体として知られていたが、最近Ｓａｍｕ
ｅｌｓｓｏｎが構造決定したロイコトリエンＣ，，Ｄ４
およびＲ４の混合物であることが明らかにされた。ＳＲ
８−Ａ即ちロイコトリエン（Ｌｅｕｋｏｔｒｉｅｎｓ
）は多価不飽和脂肪酸（特にアラキドン酸）のりボキシ
ゲナーゼによる代謝物であり、前記アレルギー性反応に
おける化学伝達体としての作用以外に粘液分泌元通作用
、繊毛運動低下作用、冠血管収縮作用、心収縮力低下作
用等の作用があることが明らかにされている。このよう
な５Ｒ８−Ａの産生。
放出を抑制する薬剤またはそれらの効果に拮抗する薬剤
は現在迄わずかの物質しか知られておらず、現在臨床的
には使用されていない。
は現在迄わずかの物質しか知られておらず、現在臨床的
には使用されていない。
〈発明の効果〉
１・１ 本発明者等は５Ｒ８−Ａｆ７）産生・ 放
出を抑制する薬剤またはこれらの効果に拮抗する薬剤の
探索を進めて来た。その結果９本発明化合物ｆＩｌが５
Ｒ３−Ａの産生、放出を極めて強力に抑制する薬剤及び
／又はこれらの効果に拮抗する抗ＳＲ８−Ａ剤やその中
間体として有用であることを見出し２本発明を完成した
。
出を抑制する薬剤またはこれらの効果に拮抗する薬剤の
探索を進めて来た。その結果９本発明化合物ｆＩｌが５
Ｒ３−Ａの産生、放出を極めて強力に抑制する薬剤及び
／又はこれらの効果に拮抗する抗ＳＲ８−Ａ剤やその中
間体として有用であることを見出し２本発明を完成した
。
本発明化合物（Ｉｌは前述のとおり、５ＲＳ−Ａの産生
、放出を極めて強力に抑制するのでＳＲ３−Ａに起因す
る種々のアレルギー性疾患（例えば気管支喘息、アレル
ギー性鼻炎、じん麻疹）や５Ｒ８−Ａに起因°する虚血
性心疾患、炎症などの予防、治療に有用である。
、放出を極めて強力に抑制するのでＳＲ３−Ａに起因す
る種々のアレルギー性疾患（例えば気管支喘息、アレル
ギー性鼻炎、じん麻疹）や５Ｒ８−Ａに起因°する虚血
性心疾患、炎症などの予防、治療に有用である。
本発明化合物（Ｉｌは、そのままもしくは自体公知の薬
学的に許容されうる担体、賦形剤などと混合した医薬組
成物［例；錠剤、カプセル剤（ソフトカプセル、マイク
ロカプセルを含ム）。
学的に許容されうる担体、賦形剤などと混合した医薬組
成物［例；錠剤、カプセル剤（ソフトカプセル、マイク
ロカプセルを含ム）。
散剤、顆粒剤、丸剤、軟膏剤、シｏ 、７プ剤、注射剤
、吸入剤、坐剤］として経口的もしくは非経口的［例；
注射、塗布、吸入］に安全に投与することができる。投
与量は投与対象、投与ルート、症状などによっても異る
が９通常成人１日当り０．１〜５００ｍｇ、好ましくは
１〜２ｏｏＩＴ１ｇであり、これを１日２〜３回に分け
て経口または非経口投与する。
、吸入剤、坐剤］として経口的もしくは非経口的［例；
注射、塗布、吸入］に安全に投与することができる。投
与量は投与対象、投与ルート、症状などによっても異る
が９通常成人１日当り０．１〜５００ｍｇ、好ましくは
１〜２ｏｏＩＴ１ｇであり、これを１日２〜３回に分け
て経口または非経口投与する。
〈目的物の製造法の具体的説明〉
本発明化合物（Ｉｌはたとえば次の反応式で示される方
法により製造される。
法により製造される。
（式中、Ｒ３は容易に脱離しうる水酸基の保護基又は低
級アルキル基を、Ｒ４及びＲ５は同−又は異って容易に
脱離しうる水酸基の保護基を。
級アルキル基を、Ｒ４及びＲ５は同−又は異って容易に
脱離しうる水酸基の保護基を。
Ｙはカルボニル基又はヒドロキシメチレン基を、ＡＩは
炭素数が４乃至１９個の直鎖又は分岐状のアルキレン基
又は炭素数が４乃至１９個の直鎖又は分岐状のアルケニ
レン基を、Ａ２は炭素数が５乃至２０個煉鎖又は分岐状
のアルキレン基を、Ａ３は炭素数が４乃至１９個の直鎖
又は分岐状のアルキレン基を、Ａ４は単結合又は炭素数
が１乃至８個の直鎖又は分岐状のアルキレン基を、Ｒ６
は炭素数が１乃至１７個の直鎖又は分岐状のアルキル基
を、 Ｒ１及びＲ２，並る基の結合位置は前記と同じ
意味を表わす。
炭素数が４乃至１９個の直鎖又は分岐状のアルキレン基
又は炭素数が４乃至１９個の直鎖又は分岐状のアルケニ
レン基を、Ａ２は炭素数が５乃至２０個煉鎖又は分岐状
のアルキレン基を、Ａ３は炭素数が４乃至１９個の直鎖
又は分岐状のアルキレン基を、Ａ４は単結合又は炭素数
が１乃至８個の直鎖又は分岐状のアルキレン基を、Ｒ６
は炭素数が１乃至１７個の直鎖又は分岐状のアルキル基
を、 Ｒ１及びＲ２，並る基の結合位置は前記と同じ
意味を表わす。
但し、Ｒ３が容易に脱離しうる水酸基の保護基ルシノー
ルー２−イル基、レゾルシノール−４−イル基、レゾル
シノール−５−イル基又はピロカテコール−３−イル基
を意味し、Ｒ３が低級アルキル基であるときは式−ＯＲ
’ で示される基はフェニル基の２位又は４位に結合
する） 本製造法で使用される水酸基の保護基としては。
ルー２−イル基、レゾルシノール−４−イル基、レゾル
シノール−５−イル基又はピロカテコール−３−イル基
を意味し、Ｒ３が低級アルキル基であるときは式−ＯＲ
’ で示される基はフェニル基の２位又は４位に結合
する） 本製造法で使用される水酸基の保護基としては。
たとえばベンジル基、ｐ−メトキンベンジル基。
ベンジルオキシカルボニル基、アセチル基、ヘンジイル
基、フランー２−イル基、ピラン−２−イル基のほかア
セタール系の保護基（たとえばメトキシメチル基、エト
キシメチル基、メトキシエトキシメチル基など）が好ま
、しい。
基、フランー２−イル基、ピラン−２−イル基のほかア
セタール系の保護基（たとえばメトキシメチル基、エト
キシメチル基、メトキシエトキシメチル基など）が好ま
、しい。
また、Ａ１が示す炭素数が４乃至１９個リすルケニレン
基は、そのアルケニレン基を有する化合物（ＩＩ）など
を還元し、その炭素−炭素不飽和結合を飽和化させるこ
とにより、Ｒ２が炭素数５乃至２０個のヒドロキシアル
キル基である（あるいはＡ３が炭素数４乃至１９個のア
ルキレン基である）化１、 金物に誘導することが
できる基である。
基は、そのアルケニレン基を有する化合物（ＩＩ）など
を還元し、その炭素−炭素不飽和結合を飽和化させるこ
とにより、Ｒ２が炭素数５乃至２０個のヒドロキシアル
キル基である（あるいはＡ３が炭素数４乃至１９個のア
ルキレン基である）化１、 金物に誘導することが
できる基である。
また、炭素数が１乃至４個までの直鎖又は分岐状のアル
キレン基の具体例としてはメチレンレン基、■−メチル
トリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチ
ルトリメチレン基。
キレン基の具体例としてはメチレンレン基、■−メチル
トリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチ
ルトリメチレン基。
■−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基などが挙
げられる。
げられる。
さらに、 Ｒ６の炭素数が１乃至１７個の直鎖又は分
岐状のアルキル基としては上記低級アルキル基の具体例
に加えて、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−エ
チルペンチル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、
ｌ−エチルペンチル基、オクチル基、■−メチルヘプチ
ル基、１−エチルヘキシル基、ノニル基、■−メチルオ
クチル基、１．３−ジメチルヘプチル基、１−エチルヘ
プチル基、デシル基、１−メチルノニル基、ドデシル基
、１−メチルウンデシル基、テトラデシル基、ｌ−メチ
ルトリデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基等が
挙げられる。
岐状のアルキル基としては上記低級アルキル基の具体例
に加えて、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−エ
チルペンチル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、
ｌ−エチルペンチル基、オクチル基、■−メチルヘプチ
ル基、１−エチルヘキシル基、ノニル基、■−メチルオ
クチル基、１．３−ジメチルヘプチル基、１−エチルヘ
プチル基、デシル基、１−メチルノニル基、ドデシル基
、１−メチルウンデシル基、テトラデシル基、ｌ−メチ
ルトリデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基等が
挙げられる。
本発明化合物（Ｉｌは印一般式（Ｉｆ）で示されるヒド
ロキシ保護ジ置換保護ヒドロキシアルキルケトン又はヒ
ドロキシ保護ジ置換フェニル保護ヒドロキシアルカノー
ルを還元するか、又は（１１）一般式（ＩＶ）で示され
るヒドロキシ保護ジ置換フェニルアルケニルアルキルケ
トンを還元することにより製造することができる。
ロキシ保護ジ置換保護ヒドロキシアルキルケトン又はヒ
ドロキシ保護ジ置換フェニル保護ヒドロキシアルカノー
ルを還元するか、又は（１１）一般式（ＩＶ）で示され
るヒドロキシ保護ジ置換フェニルアルケニルアルキルケ
トンを還元することにより製造することができる。
これらの還元には、（イ）水酸基の保護基の除去。
（ロ）Ｙが意味するカルボニル基又はヒドロキシメチレ
ン基のメチレン基への還元、及び（ハ）アルケニレン基
のアルキレン基への還元が含まれる。
ン基のメチレン基への還元、及び（ハ）アルケニレン基
のアルキレン基への還元が含まれる。
本発明化合物の製造法における水酸基の保護基の除去は
、保護基の種類によって異なる。保護基としてベンジル
基、ｐ−メトキシベンジル基、ベンジルオキシカルボニ
ル基、アセタール系の保護基、アセチル基、ベンゾイル
基等が採用されているときはその除去には通常、パラジ
ウム−炭素を触媒とする接触還元または液体アンモニア
中金属ナトリウムによる（イ）の還元や酸加水分解ある
いはアルカリ加水分解などの還元によらない脱離方法が
採用される。ビラン−２−イル基、フラン−２−イル基
等が採用されていルトキは、ピリジニウムｐ−）ルエン
スルホナート（ＰＰＴＳ ）で処理してもよい。
、保護基の種類によって異なる。保護基としてベンジル
基、ｐ−メトキシベンジル基、ベンジルオキシカルボニ
ル基、アセタール系の保護基、アセチル基、ベンゾイル
基等が採用されているときはその除去には通常、パラジ
ウム−炭素を触媒とする接触還元または液体アンモニア
中金属ナトリウムによる（イ）の還元や酸加水分解ある
いはアルカリ加水分解などの還元によらない脱離方法が
採用される。ビラン−２−イル基、フラン−２−イル基
等が採用されていルトキは、ピリジニウムｐ−）ルエン
スルホナート（ＰＰＴＳ ）で処理してもよい。
また、（ロ）のカルボニル基のメチレン基へノ変換は、
水素化アルミニウムリチウム（ＬｉＡｌＨ４）ｒ水酸化
ホウ素ナトリウム（Ｎａ ＢＨ，）等を用いる化学還元
によりカルボニル基を対応するヒドロキシメチレジ基に
した後、ヒドロキシメチレン基をパラジウム等を用い接
触還元するか、またはカルボニル基を直接パラジウム等
を触媒としてメチレン基へ還元することにより行われる
。
水素化アルミニウムリチウム（ＬｉＡｌＨ４）ｒ水酸化
ホウ素ナトリウム（Ｎａ ＢＨ，）等を用いる化学還元
によりカルボニル基を対応するヒドロキシメチレジ基に
した後、ヒドロキシメチレン基をパラジウム等を用い接
触還元するか、またはカルボニル基を直接パラジウム等
を触媒としてメチレン基へ還元することにより行われる
。
さらに、（／→のアルケニレン基のアルキレン基への変
換は、ラネーニッケル、白金黒、パラジウム−炭素等を
用いる接触還元を適用して行われる。
換は、ラネーニッケル、白金黒、パラジウム−炭素等を
用いる接触還元を適用して行われる。
これらの還元は、任意の順序であるいは同時に行うこと
ができる。また９条件を適宜選択することにより２部分
的な還元に止めることができる。
ができる。また９条件を適宜選択することにより２部分
的な還元に止めることができる。
つぎに２本発明の化合物およびその製造法をさらに説明
するため実施例を揚起するが２本発明はこの実施例に限
定されるものでない。
するため実施例を揚起するが２本発明はこの実施例に限
定されるものでない。
なお、以下の実施例で使用する原料化合物の製法を参考
例で説明する。
例で説明する。
実施例及び参考例中にお（・て次に示す省略記号を用い
る。
る。
Ｂｎ；ベンジル基 （ＣｘＣＨ２−）
参考例 １
２、３− ジベンジルオキシベンズアルデヒド２ｇをテ
トラヒドロフラン２０ ｍｌ Ｋ溶解した溶液に １０
−ベンジルオキシデシルクロリド２．７ｇとマグネシウ
ム０．２７ｇから常法により得た １０−ベンジルオキ
、１ ７デシルマグネシウムクロリドのエーテル溶液”
’ （Ｘ”３８ ｍｌ ）ヶ。・〜５゜。１ケ。、ヨ
エ、えよ、あうに５°〜１０’Ｃで３０分間かきまぜた
。反応液和水素化リチウムアルミニウム０．１ ｇを加
え、室温で３０分間かきまぜた抜水１０ｍｔを徐々に加
えた。反応液にトルエン３０ｍ１． ５％塩酸３０ｍｔ
を加え、ふりまぜた後トルエン層を水洗、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付しトルエン−酢酸エチル（１
９：１）で溶出し １１−ベンジルオキシ−１−（２，
３−ジベンジルオキシフェニル）−１−ウンデカノール
２ｇを得た。油状物。
トラヒドロフラン２０ ｍｌ Ｋ溶解した溶液に １０
−ベンジルオキシデシルクロリド２．７ｇとマグネシウ
ム０．２７ｇから常法により得た １０−ベンジルオキ
、１ ７デシルマグネシウムクロリドのエーテル溶液”
’ （Ｘ”３８ ｍｌ ）ヶ。・〜５゜。１ケ。、ヨ
エ、えよ、あうに５°〜１０’Ｃで３０分間かきまぜた
。反応液和水素化リチウムアルミニウム０．１ ｇを加
え、室温で３０分間かきまぜた抜水１０ｍｔを徐々に加
えた。反応液にトルエン３０ｍ１． ５％塩酸３０ｍｔ
を加え、ふりまぜた後トルエン層を水洗、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーに付しトルエン−酢酸エチル（１
９：１）で溶出し １１−ベンジルオキシ−１−（２，
３−ジベンジルオキシフェニル）−１−ウンデカノール
２ｇを得た。油状物。
核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣ１３，ＴＭＳ 、 ｐｐ
ｍ）１．０−１．９ （１８Ｈ，（ＣＨ２）ｏ ）ｔ
３．３〜３．７（２）Ｉ。
ｍ）１．０−１．９ （１８Ｈ，（ＣＨ２）ｏ ）ｔ
３．３〜３．７（２）Ｉ。
−ＣＨ，−） 、 ４．４−４．６ （２Ｈ，−ＣＨ，
−） 、 ４．７〜５．１（ＩＨ。
−） 、 ４．７〜５．１（ＩＨ。
＝ＣＴ（−）、 ５．０〜５．２（４Ｈ，２Ｘ−ＣＨ，
−）、 ６．８〜７．６（１４Ｈ，芳香環のＨ）。
−）、 ６．８〜７．６（１４Ｈ，芳香環のＨ）。
参考例１と同様にして次表の参考例２〜４の化合物を得
た。
た。
参考例 ５
（ａ） 油性水素化ナトリウム（６０％） ２００ｍ
ｇと１．２−ジメトキシエタン２５ｍ１の混液にかきま
ぜながらジメチル（３−メチル−２−オキシ）ペプチル
ホスホネート１．５３ｇとジメトキシエタン５ ｒｎｌ
の混液を０〜５℃で滴下する。
ｇと１．２−ジメトキシエタン２５ｍ１の混液にかきま
ぜながらジメチル（３−メチル−２−オキシ）ペプチル
ホスホネート１．５３ｇとジメトキシエタン５ ｒｎｌ
の混液を０〜５℃で滴下する。
滴下後１時間室温でかきまぜた後反応液を５〜７°Ｃに
冷却し、２．３−ジベンジルオキシベンズアルデヒド１
．５９ ｇとジメトキシエタン５ ｍｌの混液を滴下す
る。
冷却し、２．３−ジベンジルオキシベンズアルデヒド１
．５９ ｇとジメトキシエタン５ ｍｌの混液を滴下す
る。
室温で４時間かきまぜた後反応液に水２００ ｍｌを加
え、ｎ−ヘキサン−エチルエーテル（１：１）３０ ｍ
ｌで３回抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得られる油状物をシリカゲル（３５ｇ
）カラムクロマトグラフィーに付ｕ、ｎ−ヘキサン−エ
チルエーテル（１０：１）で溶出し、油状の１−（２，
３−ジベンジルオキシフェニル）−４−メチル−１−オ
クテン−３−オン１．９５ ｇを得る。
え、ｎ−ヘキサン−エチルエーテル（１：１）３０ ｍ
ｌで３回抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、減圧濃縮して得られる油状物をシリカゲル（３５ｇ
）カラムクロマトグラフィーに付ｕ、ｎ−ヘキサン−エ
チルエーテル（１０：１）で溶出し、油状の１−（２，
３−ジベンジルオキシフェニル）−４−メチル−１−オ
クテン−３−オン１．９５ ｇを得る。
核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣＩ３ 、 ＴＭＳ 、
ｐｐｍ）６．７（ＬＨ，＝ＣＨＣ−）、 ７．０〜７
．６（１３Ｈ，ベンゼン環）Ｈ） 、 ７．９（ＩＨ，
Ｑ−ｃｐ）ｆｂｌ 水素化リチウムアルミニウム０．
２１ｇヲエチルエーテル４０ｍ１に加えた混液に氷冷下
１−（２，３−ジベンジルオキシフェニル）−４−メチ
ル−１−オクｒンー３−オン１．１５ｇトエチルエーテ
：１ ″”°”ｔｃｏａＷ’；ｉ″０ ；ｔ ＋ ｉ
ｌ ’０″″′”Ｆｔｊ ｆ’ｓ’ｌ ａ ｆｆ’ ｉ
６゜反応液に１０％塩酸水２０ｍ１を加えた後エーテ
ル層を分取、水洗後減圧濃縮して油状の１−（２，３−
ジベンジルオキシフェニル）−４−メチル−３−オクタ
ツール１．１５ｇを得る。
ｐｐｍ）６．７（ＬＨ，＝ＣＨＣ−）、 ７．０〜７
．６（１３Ｈ，ベンゼン環）Ｈ） 、 ７．９（ＩＨ，
Ｑ−ｃｐ）ｆｂｌ 水素化リチウムアルミニウム０．
２１ｇヲエチルエーテル４０ｍ１に加えた混液に氷冷下
１−（２，３−ジベンジルオキシフェニル）−４−メチ
ル−１−オクｒンー３−オン１．１５ｇトエチルエーテ
：１ ″”°”ｔｃｏａＷ’；ｉ″０ ；ｔ ＋ ｉ
ｌ ’０″″′”Ｆｔｊ ｆ’ｓ’ｌ ａ ｆｆ’ ｉ
６゜反応液に１０％塩酸水２０ｍ１を加えた後エーテ
ル層を分取、水洗後減圧濃縮して油状の１−（２，３−
ジベンジルオキシフェニル）−４−メチル−３−オクタ
ツール１．１５ｇを得る。
核磁気共鳴スペクトル（ＣＤＣＩ、、 ＴＭＳ、 ｐｐ
ｍ）２．７（２Ｈ，ｏ−ｃＨ２ＣＨ２）、 ３．３５
（ＩＨ，：）ＣＨ・ＯＨ）。
ｍ）２．７（２Ｈ，ｏ−ｃＨ２ＣＨ２）、 ３．３５
（ＩＨ，：）ＣＨ・ＯＨ）。
５．０〜５．２（４Ｈ，Ｑ−Ｃｊｌ−ｘ ２） 、
６７〜７．５ （１３Ｈ。
６７〜７．５ （１３Ｈ。
ベンゼン環のＨ）
実施例 １
１１−ベンジルオキシ−１−（２，３−ジベンジルオキ
シフェニル）−１−ウンデカノール０．８ｇ’４［酸２
０ｍ７に溶解し １０％パラジウム炭素０．２ｇを触媒
として水素の吸収が止むまで常温、常圧で接触還元した
。触媒をＰ別しｒ液に氷冷下水４０ｍｔを徐々 ８に
加え、３０分間放置した。析出した結晶をＰ取。
シフェニル）−１−ウンデカノール０．８ｇ’４［酸２
０ｍ７に溶解し １０％パラジウム炭素０．２ｇを触媒
として水素の吸収が止むまで常温、常圧で接触還元した
。触媒をＰ別しｒ液に氷冷下水４０ｍｔを徐々 ８に
加え、３０分間放置した。析出した結晶をＰ取。
乾燥後トルエンから再結晶して １ｌ−（３，４−ジヒ
ドロキ７フエニルー１−ウンデカノール０．３ ｇヲ４
た。融点９０〜９３°ｃ０ 元素分析値（Ｃｌ７Ｈ２８０３として）Ｃ（％）Ｈ（％
） 理論値 ７２．８２ １０．０６ 実験値 ７２．７１ １０．１３ 実施例 ２〜４ 実施例１と同様に処理して実施例２〜４の化合物を得た
。
ドロキ７フエニルー１−ウンデカノール０．３ ｇヲ４
た。融点９０〜９３°ｃ０ 元素分析値（Ｃｌ７Ｈ２８０３として）Ｃ（％）Ｈ（％
） 理論値 ７２．８２ １０．０６ 実験値 ７２．７１ １０．１３ 実施例 ２〜４ 実施例１と同様に処理して実施例２〜４の化合物を得た
。
実施例 ５
１ （２，３−ジベンジルオキシフェニル）−４−メ
チル−３−オクタツール１．１ｇを酢酸１５ｍ４とメタ
ノール５ ｒｎｌの混液に溶解し、 １０％パラジウ
ム炭素を触媒として水素の吸収が止むまで接触還元する
。触媒をＰ別、Ｐ液を減圧濃縮して得られる残留物をシ
リカゲル（２７ｇ使用）カラムクロマトグラフィーに付
し、トルエン−酢酸エチル（１０：１）で溶出し、油状
の１−（２，３−ジヒドロキシフェニル）−４−メチル
−３−オクタツール２８０■を得る。
チル−３−オクタツール１．１ｇを酢酸１５ｍ４とメタ
ノール５ ｒｎｌの混液に溶解し、 １０％パラジウ
ム炭素を触媒として水素の吸収が止むまで接触還元する
。触媒をＰ別、Ｐ液を減圧濃縮して得られる残留物をシ
リカゲル（２７ｇ使用）カラムクロマトグラフィーに付
し、トルエン−酢酸エチル（１０：１）で溶出し、油状
の１−（２，３−ジヒドロキシフェニル）−４−メチル
−３−オクタツール２８０■を得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中の記号は以下の意味を示す。 Ｒ＾１：水素原子又は低級アルキル基 Ｒ＾２：ヒドロキシアルキル基。 但し、Ｒ＾１が水素原子であるときは、式▲数式、化学
式、表等があります▼で示される基は、レゾルシノール
−２−イル基、レゾルシノール−４−イル基、レゾルシ
ノール−５−イル基、又はピロカテコール−３−イル基
を意味し、Ｒ＾１が低級アルキル基であるときは、式−
ＯＲ＾１で示される基はフェニル基の２位又は４位に結
合する） で示されるジヒドロキシベンゼン誘導体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22935084A JPS61106531A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | ジヒドロキシベンゼン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22935084A JPS61106531A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | ジヒドロキシベンゼン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61106531A true JPS61106531A (ja) | 1986-05-24 |
Family
ID=16890785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22935084A Pending JPS61106531A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | ジヒドロキシベンゼン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61106531A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5191108A (en) * | 1987-10-01 | 1993-03-02 | Hoffmann-La Roche Inc. | Catechol carboxylic acids |
| JP2020117458A (ja) * | 2019-01-23 | 2020-08-06 | 国立大学法人宇都宮大学 | レゾルシノール誘導体およびこれを含むチロシナーゼ活性阻害剤 |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP22935084A patent/JPS61106531A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5191108A (en) * | 1987-10-01 | 1993-03-02 | Hoffmann-La Roche Inc. | Catechol carboxylic acids |
| JP2020117458A (ja) * | 2019-01-23 | 2020-08-06 | 国立大学法人宇都宮大学 | レゾルシノール誘導体およびこれを含むチロシナーゼ活性阻害剤 |
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