JPS609871A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS609871A JPS609871A JP11923183A JP11923183A JPS609871A JP S609871 A JPS609871 A JP S609871A JP 11923183 A JP11923183 A JP 11923183A JP 11923183 A JP11923183 A JP 11923183A JP S609871 A JPS609871 A JP S609871A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- crucible
- deviation
- evaporation source
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａｌ 発明の技術分野
本発明は蒸着装置に係り、特に電子ビーム加熱型蒸着装
置の改良に関するものである。
置の改良に関するものである。
伽） 技術の背景
電子ビーム加熱型蒸着装置は、蒸発源材料表面に直接電
子ビームを偏向コイル等により誘導して集中照射し、局
部的に高温加熱して蒸着を行うものであるから、非常に
効率が良（、高融点材料の蒸着に特に適している。又蒸
発源材料表面が局部通に高温に加熱されるので、該蒸発
源材料と加熱源、又は坩堝等との反応による汚染が殆ど
なく、更に電子ビーム強度の制御により蒸発源材料の蒸
発速度を自由に制御できる特長を有している。
子ビームを偏向コイル等により誘導して集中照射し、局
部的に高温加熱して蒸着を行うものであるから、非常に
効率が良（、高融点材料の蒸着に特に適している。又蒸
発源材料表面が局部通に高温に加熱されるので、該蒸発
源材料と加熱源、又は坩堝等との反応による汚染が殆ど
なく、更に電子ビーム強度の制御により蒸発源材料の蒸
発速度を自由に制御できる特長を有している。
（Ｃ１従来技術と問題点
ところで上記の如き従来の電子ビーム加熱型蒸着装置に
あっては、第１図に示すように電子ビーム発生部１より
放射した電子ビームを、蒸発源坩堝２の周囲に配置され
たビーム偏向機構系、例えばＸ偏向コイル４と図示しな
いＹ偏向コイル等の各励磁電流を調整し、該蒸発源坩堝
２内の蒸発源材料３表面の所定位置に、目視により確認
しながら誘導照射せしめる構成が採られている。
あっては、第１図に示すように電子ビーム発生部１より
放射した電子ビームを、蒸発源坩堝２の周囲に配置され
たビーム偏向機構系、例えばＸ偏向コイル４と図示しな
いＹ偏向コイル等の各励磁電流を調整し、該蒸発源坩堝
２内の蒸発源材料３表面の所定位置に、目視により確認
しながら誘導照射せしめる構成が採られている。
従ってビーム偏向機構系、或いは電気回路系が不測に変
動したり、温度変化に起因する設定ずれ、或いは設定ミ
ス等によって前記電子ビームの照射位置が蒸発源坩堝２
外へずれた場合、目視によりビーム位置を観察しながら
手動によりビーム照射位置の修正を行うといった煩雑な
操作を必要とする欠点が有り、このようなビーム照射位
置のずれ状態を自動的に検知し、フィード・ハックして
修正コントロールし得る装置が要望されている。
動したり、温度変化に起因する設定ずれ、或いは設定ミ
ス等によって前記電子ビームの照射位置が蒸発源坩堝２
外へずれた場合、目視によりビーム位置を観察しながら
手動によりビーム照射位置の修正を行うといった煩雑な
操作を必要とする欠点が有り、このようなビーム照射位
置のずれ状態を自動的に検知し、フィード・ハックして
修正コントロールし得る装置が要望されている。
（ｄ＋ 発明の目的
本発明は上記従来の実情に鑑み、蒸発源坩堝内に誘導照
射された電子ビームの照射位置が該坩堝外へずれた場合
に、該ビームのずれ、或いはすれ方向を簡単に検知・検
出してオペレータに表示、警報或いは自動的に照射位置
ずれを修正制御し得る新規な電子ビーム加熱型蒸着装置
を提供することを目的とするものである。
射された電子ビームの照射位置が該坩堝外へずれた場合
に、該ビームのずれ、或いはすれ方向を簡単に検知・検
出してオペレータに表示、警報或いは自動的に照射位置
ずれを修正制御し得る新規な電子ビーム加熱型蒸着装置
を提供することを目的とするものである。
（ｅｌ 発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、装置内に配置された
蒸発源坩堝内に、電子ビーム発生部より放射した電子ビ
ームをＸ偏向コイルとＸ偏向コイルとにより誘導入射せ
しめて蒸発源材料を加熱し、かつ蒸発させる装置構成に
おいて、上記坩堝の開口周縁部上に沿って、単数又は複
数のビームずれ検知電極を配置して成ることを特徴とす
る蒸着装置を提供することによって達成される。
蒸発源坩堝内に、電子ビーム発生部より放射した電子ビ
ームをＸ偏向コイルとＸ偏向コイルとにより誘導入射せ
しめて蒸発源材料を加熱し、かつ蒸発させる装置構成に
おいて、上記坩堝の開口周縁部上に沿って、単数又は複
数のビームずれ検知電極を配置して成ることを特徴とす
る蒸着装置を提供することによって達成される。
（ｆｌ 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第２図は本発明に係る蒸着装置における蒸発坩堝部分の
一実施例を示す斜視図、第３図は第２図に示すＵ−Ｈ’
切断線に沿った断面図である。
一実施例を示す斜視図、第３図は第２図に示すＵ−Ｈ’
切断線に沿った断面図である。
なお、以下の図面において第１図と同等部分には同一符
号を付した。
号を付した。
これら両図により明らかなように、本発明においては装
置内に配置された蒸発源坩堝２の開口周縁部上に沿って
、リング状のビームずれ検出電極２１を配置し、図示し
ない電子ビーム発生部より蒸発源坩堝２内の蒸発源材料
３に誘導照射する電子ビームが該坩堝２外にずれた場合
に、該電子ビームの一部が前記リング状のビームずれ検
出電極２１に入射するように構成されている。
置内に配置された蒸発源坩堝２の開口周縁部上に沿って
、リング状のビームずれ検出電極２１を配置し、図示し
ない電子ビーム発生部より蒸発源坩堝２内の蒸発源材料
３に誘導照射する電子ビームが該坩堝２外にずれた場合
に、該電子ビームの一部が前記リング状のビームずれ検
出電極２１に入射するように構成されている。
従ってこのように配置されたビームずれ検出電極２１の
一端を、第５図に示すように、例えば増幅器５２．振幅
弁別器５３を経由して発光表示部５４、或いは検電針５
５、警報ブザ−５６等が配備された検出回路装置５１に
接続しておけば、前記電子ビームの照射位置ずれが簡単
に検知され、オペレータに表示・警報することが可能と
なる。
一端を、第５図に示すように、例えば増幅器５２．振幅
弁別器５３を経由して発光表示部５４、或いは検電針５
５、警報ブザ−５６等が配備された検出回路装置５１に
接続しておけば、前記電子ビームの照射位置ずれが簡単
に検知され、オペレータに表示・警報することが可能と
なる。
又第６図に示すように前記ビームずれ検出電極２１の一
端を、例えば増幅器５２、振幅弁別器５３、及び蒸発源
坩堝２の周囲に配置されたビーム偏向機構系、例えばＸ
偏向コイル４とＸ偏向コイル６２の各励磁制御回路６３
．６４と接続された制御系回路装置６１に接続しておく
ことにより、電子ビーム発生部１より蒸発源坩堝２内の
蒸発源材料３に誘導照射する電子ビームが該坩堝２外に
ずれて、該電子ビームの一部が前記リング状のビームず
れ検出電極２１に入射した場合、該検出電極２１にて発
生した信号が前記増幅器５２、振幅弁別器５３で検出さ
れ、更に該信号が制御系回路装置６１より例えばＸ偏向
コイル４とＸ偏向コイル６２の各励磁制御回路６３．６
４にフィードバンクされて前記電子ビームの照射位置ず
れを自動的に前記坩堝２内に修正制御することが可能と
なる。
端を、例えば増幅器５２、振幅弁別器５３、及び蒸発源
坩堝２の周囲に配置されたビーム偏向機構系、例えばＸ
偏向コイル４とＸ偏向コイル６２の各励磁制御回路６３
．６４と接続された制御系回路装置６１に接続しておく
ことにより、電子ビーム発生部１より蒸発源坩堝２内の
蒸発源材料３に誘導照射する電子ビームが該坩堝２外に
ずれて、該電子ビームの一部が前記リング状のビームず
れ検出電極２１に入射した場合、該検出電極２１にて発
生した信号が前記増幅器５２、振幅弁別器５３で検出さ
れ、更に該信号が制御系回路装置６１より例えばＸ偏向
コイル４とＸ偏向コイル６２の各励磁制御回路６３．６
４にフィードバンクされて前記電子ビームの照射位置ず
れを自動的に前記坩堝２内に修正制御することが可能と
なる。
第４図は本発明にもとずくもう一つの実施例を示す斜視
図であり、第２図と同等部分には同一符号を付した。第
４図の実施例が第２図の実施例と異なる点は、装置内に
配置された蒸発源坩堝２の開口周縁部上に沿って、複数
に分割されたビームずれ検知電極４１ａ〜４１ｈをリン
グ状に配置したことである。
図であり、第２図と同等部分には同一符号を付した。第
４図の実施例が第２図の実施例と異なる点は、装置内に
配置された蒸発源坩堝２の開口周縁部上に沿って、複数
に分割されたビームずれ検知電極４１ａ〜４１ｈをリン
グ状に配置したことである。
そしてこのように配置された複数のビームずれ分割検出
電極４１ （４１ａ〜４１ｈ）の各一端を、第７図に示
すようにそれぞれ増幅器７１ａ〜７１ｈと接続し、かつ
制御系回路装置６１を介して蒸発源坩堝２の周囲に配置
された例えばＸ偏向コイル４とＸ偏向コイル６２のＸ励
磁制御回路６３、Ｙ励磁制御回路６４と接続されたマル
チ・プレクサ７２に並列接続した構成にすれば、電子ビ
ーム発生部１より蒸発源坩堝２内の蒸発源材料３に誘導
照射する電子ビームが、該坩堝２外にずれて、該電子ビ
ームの一部が前記複数のビームずれ分割検出電極４１ａ
〜４１ｈの内の何れかに入射した場合、前記マルチ・プ
レクサ７２及び制御系回路装置６１によって該電子ビー
ムのずれ方向、及びずれ具合が検出される。又その検出
信号は自動的にＸ偏向コイル４とＹ偏向コイル６２の各
励磁制御回路６３．６４にフィードバックされて、前記
電子ビームの照射位置ずれを所定坩堝２内に容易に修正
制御することが可能となる。
電極４１ （４１ａ〜４１ｈ）の各一端を、第７図に示
すようにそれぞれ増幅器７１ａ〜７１ｈと接続し、かつ
制御系回路装置６１を介して蒸発源坩堝２の周囲に配置
された例えばＸ偏向コイル４とＸ偏向コイル６２のＸ励
磁制御回路６３、Ｙ励磁制御回路６４と接続されたマル
チ・プレクサ７２に並列接続した構成にすれば、電子ビ
ーム発生部１より蒸発源坩堝２内の蒸発源材料３に誘導
照射する電子ビームが、該坩堝２外にずれて、該電子ビ
ームの一部が前記複数のビームずれ分割検出電極４１ａ
〜４１ｈの内の何れかに入射した場合、前記マルチ・プ
レクサ７２及び制御系回路装置６１によって該電子ビー
ムのずれ方向、及びずれ具合が検出される。又その検出
信号は自動的にＸ偏向コイル４とＹ偏向コイル６２の各
励磁制御回路６３．６４にフィードバックされて、前記
電子ビームの照射位置ずれを所定坩堝２内に容易に修正
制御することが可能となる。
＋ｇ＋ 発明の効果
以」二の説明から明らかなように、本発明に係る蒸着装
置の構成によれば、蒸発源坩堝内の蒸発源材料に対する
電子ビームの照射位置ずれを、目視による手動操作によ
って修正する必要がなくなり、オペレータに前記電子ビ
ームの照射位置ずれを、表示・警報し得ることは勿論の
こと、常に自動修正制御することが可能になる等、実用
上優れた利点を有し、この種の蒸着装置に適用して極め
て有利である。
置の構成によれば、蒸発源坩堝内の蒸発源材料に対する
電子ビームの照射位置ずれを、目視による手動操作によ
って修正する必要がなくなり、オペレータに前記電子ビ
ームの照射位置ずれを、表示・警報し得ることは勿論の
こと、常に自動修正制御することが可能になる等、実用
上優れた利点を有し、この種の蒸着装置に適用して極め
て有利である。
第１図は従来の電子ビーム加熱型蒸着装置を説明する斜
視図、第２図は本発明に係る蒸着装置における蒸発坩堝
部分の一実施例を示す斜視図、第３図は第２図に示すｎ
−ｎ ’切断線に沿った断面図、第４図は本発明に係る
蒸着装置における蒸発坩堝部分の他の実施例を示す斜視
図、第５図は第２図のビームずれ検出電極によって、電
子ビームの照射位置ずれを検出する回路図、第６図は第
２図のビームずれ検出電極によって、電子ビームの照射
位置ずれを検出制御する制御回路図、第７図は第４図の
複数のビームずれ分割検出電極によって、電子ビームの
照射位置ずれを検出制御する制御回路図を示す。 図面において、１は電子ビーム発生部、２は蒸発源坩堝
、３は蒸発源材料、４はＸ偏向コイル、２１はビームず
れ検出電極、４１は複数のビームずれ分割検出電極、４
１ａ〜４１ｈはビームずれ分割検出電極、５１は検出回
路装置、５２及び７１ａ〜７１ｈは増幅器、５３は振幅
弁別器、５４は発光表示部、５５は検電針、５６は警報
ブザ−，６１は制御系回路装置、６２はＹ偏向コイル、
６３はＸ励磁制御回路、６４はＹ励磁制御回路、７２は
マルチ・プレクサを示す。 第４図 第５図 引 第６図 特開昭ＧＯ−９８７１（４） 第７図 １
視図、第２図は本発明に係る蒸着装置における蒸発坩堝
部分の一実施例を示す斜視図、第３図は第２図に示すｎ
−ｎ ’切断線に沿った断面図、第４図は本発明に係る
蒸着装置における蒸発坩堝部分の他の実施例を示す斜視
図、第５図は第２図のビームずれ検出電極によって、電
子ビームの照射位置ずれを検出する回路図、第６図は第
２図のビームずれ検出電極によって、電子ビームの照射
位置ずれを検出制御する制御回路図、第７図は第４図の
複数のビームずれ分割検出電極によって、電子ビームの
照射位置ずれを検出制御する制御回路図を示す。 図面において、１は電子ビーム発生部、２は蒸発源坩堝
、３は蒸発源材料、４はＸ偏向コイル、２１はビームず
れ検出電極、４１は複数のビームずれ分割検出電極、４
１ａ〜４１ｈはビームずれ分割検出電極、５１は検出回
路装置、５２及び７１ａ〜７１ｈは増幅器、５３は振幅
弁別器、５４は発光表示部、５５は検電針、５６は警報
ブザ−，６１は制御系回路装置、６２はＹ偏向コイル、
６３はＸ励磁制御回路、６４はＹ励磁制御回路、７２は
マルチ・プレクサを示す。 第４図 第５図 引 第６図 特開昭ＧＯ−９８７１（４） 第７図 １
Claims (1)
- 装置内に配置された蒸発源坩堝内に、電子ビーム発生部
より放射した電子ビームをビーム偏向機構系により誘導
入射せしめて蒸発源材料を加熱し、かつ蒸発させる装置
構成において、上記坩堝の開口周縁部上に沿って、単数
又は複数のビームずれ検知電極を配置して成ることを特
徴とする蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11923183A JPS609871A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11923183A JPS609871A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS609871A true JPS609871A (ja) | 1985-01-18 |
Family
ID=14756203
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11923183A Pending JPS609871A (ja) | 1983-06-29 | 1983-06-29 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS609871A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04160150A (ja) * | 1990-10-23 | 1992-06-03 | Nkk Corp | 電子ビームの加熱制御方法および制御装置 |
-
1983
- 1983-06-29 JP JP11923183A patent/JPS609871A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04160150A (ja) * | 1990-10-23 | 1992-06-03 | Nkk Corp | 電子ビームの加熱制御方法および制御装置 |
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