JPS6096597A - 液相エピタキシアル成長装置の操作棒封止装置 - Google Patents

液相エピタキシアル成長装置の操作棒封止装置

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Publication number
JPS6096597A
JPS6096597A JP20032783A JP20032783A JPS6096597A JP S6096597 A JPS6096597 A JP S6096597A JP 20032783 A JP20032783 A JP 20032783A JP 20032783 A JP20032783 A JP 20032783A JP S6096597 A JPS6096597 A JP S6096597A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
packing
operation shaft
operating rod
shaft
phase epitaxial
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20032783A
Other languages
English (en)
Inventor
Shoichi Watanabe
庄一 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP20032783A priority Critical patent/JPS6096597A/ja
Publication of JPS6096597A publication Critical patent/JPS6096597A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B19/00Liquid-phase epitaxial-layer growth
    • C30B19/06Reaction chambers; Boats for supporting the melt; Substrate holders
    • C30B19/062Vertical dipping system

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 不発りJは半尋体製造に用いられるスライド式液相エピ
タキシアル成長装置の操作棒封止装置に関するものであ
る。
従来例の構成とその問題点 従来、スライド式液相エピタキシアル成長装置のボート
操作棒の封1Fには0リングを使用している。以下に従
来の操作棒封止装置について説明する。
第1図は従来の操作棒封止装置全示すものであり、1は
パツキン箱、2は操作棒、3は0リングである。
この装置の一方を雰囲気ガス、他方を人気中となるよう
な装置に取り付りて操作棒2を回転または軸方向に移動
させることができる。
しかしながら上記のような構成では、Oリング3の接触
圧力により操作棒2の運動は円滑さを欠き、特に手動で
操作棒2を動かすときは停止に位置を正確に設定するこ
とが極めて困難であるという問題点を有していた。
発明の目的 本発明は上記問題点を解消するもので、特にスライド式
液相エピタキシアル成長装置のように停止位置を正確に
規制する必要がある装置に使用できる液相エピタキシア
ル成長装置の操作棒封止装置を提供することを目的とす
る。
発明の構成 本発明の液相エピタキシアル成長装置の操作棒封止装置
はV形ゴムパツキンと、振れILめリング全備えた操作
棒封止装置であり、V形ゴムバッキングで操作棒の接触
抵抗を軽減すると共に、振れ止めリングを配置して操作
棒の移動を円滑にすることができるものである。
実施例の説明 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
第2図は本発明の一実施例における操作棒封止装置の・
4ツキン箱の内部構造を示すものである。
第2図において11はパツキン箱、12は操作棒、13
はV形ゴムパツキン、14は振れ止めリング、15はパ
ツキンの間隔を保持するだめのパツキン受け、15は端
面部の蓋、17は押えねじである。
また、第3図は振れ止めリング14の平面形状を示す。
以上のように構成された操作棒封止装置について、以下
その動作を説明する。
第2図において、ゴムパツキン13は操作棒12との接
触部断面4v形に成形し、その内径を操作棒12の外径
よりもやや小さくして封止機能をもたせである。ゴムパ
ツキン13の断面r、 V形に成形したのは、封止機能
を有しながら操作棒12との摩擦を最少限にするためで
ある。振れ止めリング14は、ガス抜は効果と操作棒1
2との接触面積を減小させるため第3図のような形状と
し、その内径は操作棒12と軽く摺動する程度に仕上げ
る。これらを第2図のように配列してパッキン箱11全
構成する。
このパツキン箱11の一方を雰囲気ガス側に、他方を大
気側になるように設置して操作棒12を軸方向に操作す
る。
以上のように本実施例によればV形のゴムパツキン13
と振れ止めリング14を設けることにより、操作棒12
は芯振れを起すことなく、かつ滑らかに軸方向に移動す
る。また雰囲気ガスが洩れることもない。
第4図は本発明のスライド式液相エピタキシアル装置反
応管への実装図である。
同図において21は反応管、22は雰囲気ガスの出入口
、23は加熱炉、24は第2図で詳細を示したパツキン
箱、26は0リング、26はボート、27は基板、28
はソースタンク、29は操作棒である。
上記のように構成されたスライド式液和エピタキシアル
装置について以下本発明関連部分の動作全説明するっ ソースタンク28には数種類のソースを用意しており、
このソースを基板27上に順次移動して多層の結晶成長
を行なう。このソースタンク28の移動は外部から操作
棒29により行うが、その移動はスムーズで基板27と
ソースの対面位置は正確でなければならない。なお反応
管21内部は雰囲気ガスで保護され人気と遮断されてい
る。
この反工し、菅21と操作棒29挿入部分の封止手段と
して第2図のパツキン箱24f:装備している。
発明の効果 以上のように本発明はV形ゴムパツキンと振れ止めリン
グを配列することにより、スライド式液イ11エピタキ
シアル装置の操作棒の移動を円滑かつ正確に行なうこと
ができ、その実用的効果は太きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のスライド式液相エピタキシアル成艮装置
操作棒の封止部断面図、第2図は本発明の実施例におけ
る操作棒封止部断面図、第3図は第2図の中に使用する
振れ止めリングの平面図、第4図はスライド式液相エビ
タキ7アル成長装置の反応管内部を示す断面図である。 11.24・川・・パツキン箱、12,29・・・・・
・操作棒、13・・・・・・V形ゴムパツキン、14・
川・・振れ止メリング、16・・印・パッキン受、16
・・・・・・蓋、17・・・・・・押えねじ、21・・
・・・・反応管、22・・・・・・ガス出入口、23・
・・・・・加熱炉、26・川・・0リング、26・・・
・・・ホー1−127・旧・・Jan、28・・・・・
・ソースタンク。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 操作棒の外周面に断面がV形のゴムバッキングが、前記
    V形の先端部が接触するように設けられるとともに、前
    記V形ゴムバッキングに隣接して振れ止めリングが前記
    操作棒の外周面に設けられテイルコとを特徴とする液相
    エピタキシアル成長装置の操作棒封止装置。
JP20032783A 1983-10-26 1983-10-26 液相エピタキシアル成長装置の操作棒封止装置 Pending JPS6096597A (ja)

Priority Applications (1)

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JP20032783A JPS6096597A (ja) 1983-10-26 1983-10-26 液相エピタキシアル成長装置の操作棒封止装置

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JP20032783A JPS6096597A (ja) 1983-10-26 1983-10-26 液相エピタキシアル成長装置の操作棒封止装置

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Publication Number Publication Date
JPS6096597A true JPS6096597A (ja) 1985-05-30

Family

ID=16422449

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JP20032783A Pending JPS6096597A (ja) 1983-10-26 1983-10-26 液相エピタキシアル成長装置の操作棒封止装置

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JP (1) JPS6096597A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7204689B2 (en) 2003-02-05 2007-04-17 Kobe Steel, Ltd. Seal structure of solid feeding screw, and method of manufacturing reduced metal using the seal structure

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7204689B2 (en) 2003-02-05 2007-04-17 Kobe Steel, Ltd. Seal structure of solid feeding screw, and method of manufacturing reduced metal using the seal structure

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