JPS6095467A - Preventing method of deterioration of electrophotographic sensitive body - Google Patents
Preventing method of deterioration of electrophotographic sensitive bodyInfo
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- JPS6095467A JPS6095467A JP58121519A JP12151983A JPS6095467A JP S6095467 A JPS6095467 A JP S6095467A JP 58121519 A JP58121519 A JP 58121519A JP 12151983 A JP12151983 A JP 12151983A JP S6095467 A JPS6095467 A JP S6095467A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子写真用感光体に関する。更に詳しくは、本
発明は非晶質シリコンを光導電性材料として利用した電
子写真用感光体の性能を維持するための方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor. More specifically, the present invention relates to a method for maintaining the performance of an electrophotographic photoreceptor using amorphous silicon as a photoconductive material.
従来から、電子写真用感光体にはSe、CdS、ZnO
等の無機光導電性材料を初め、ポリビニルカルバゾール
等の有機半導体を使用する単層型、又は積層型の有機光
導電性材料が広く使用されている。しかしながら、近年
、アモルファスシリコン半導体(以下、a−3t半導体
と略す)を光導電性材料として使用した場合には、上記
の如き、従来汎用されていた光導電性材料を使用した場
合に比し、機械的耐久性、耐熱性、耐湿性、耐コロナイ
オン性等において優れた性能を有する可能性が大きく、
又、毒性が全くないことから、電子写真用感光体へ応用
するための活発な開発がなされてきたく例えば、特開昭
55−87154.56−83748.5’1l155
59)。Conventionally, electrophotographic photoreceptors include Se, CdS, and ZnO.
Single-layer type or laminated type organic photoconductive materials using organic semiconductors such as polyvinyl carbazole are widely used. However, in recent years, when amorphous silicon semiconductors (hereinafter abbreviated as a-3T semiconductors) are used as photoconductive materials, compared to the case where conventionally widely used photoconductive materials such as those mentioned above are used, It is highly likely to have excellent performance in terms of mechanical durability, heat resistance, moisture resistance, corona ion resistance, etc.
In addition, since it is completely non-toxic, active development has been carried out to apply it to photoreceptors for electrophotography.
59).
これらの開発研究の結果、はぼa−3i半導体を電子写
真用感光体の光導電層として使用し得ることが可能にな
ったが、尚、耐コロナ性が十分ではなく、我国の夏期に
相当する環境、即ち気温的30℃、相対温度約85%で
連続複写を行なった場合には解像力が減少すると共に画
像ボケを生し、特にこの傾向は負のコロナ放電を用いる
場合に顕著となるという欠点があった。As a result of these development studies, it has become possible to use the Habo A-3i semiconductor as a photoconductive layer in electrophotographic photoreceptors, but the corona resistance is not sufficient and it is equivalent to the temperature in summer in Japan. When continuous copying is performed in an environment where the image quality is 30°C and a relative temperature of about 85%, the resolution decreases and image blurring occurs, and this tendency is particularly noticeable when negative corona discharge is used. There were drawbacks.
従って、本発明の第1の目的は、高温多湿下における連
続複写によっても、コピーの画像ボケを生ずることのな
いように、a−3t半導体を光導電層として利用した電
子写真用感光体の性能の劣化を防止するための方法を提
供することである。Therefore, the first object of the present invention is to improve the performance of an electrophotographic photoreceptor using an a-3T semiconductor as a photoconductive layer, so as to prevent blurring of copied images even during continuous copying under high temperature and high humidity conditions. An object of the present invention is to provide a method for preventing the deterioration of.
本発明の第2の目的は、a−3l半導体を光導電層とし
て利用した電子写真用感光体を使用して高温、多湿下の
連続複写に耐え得る電子写真プロセスを提供することに
ある。A second object of the present invention is to provide an electrophotographic process that can withstand continuous copying under high temperature and high humidity using an electrophotographic photoreceptor using an a-3l semiconductor as a photoconductive layer.
本発明のかかる目的は、a−3l半導体を光導電層とし
て利用した電子写真用感光体の表面を、複写プロセス中
、高温に維持することにより容易に達成された。This object of the present invention was easily achieved by maintaining the surface of an electrophotographic photoreceptor using an a-3l semiconductor as a photoconductive layer at a high temperature during the copying process.
本発明で使用するa−3i半導体とは、一つのSt環原
子着目した場合、その原子の近傍では原子が一定の秩序
を有して配列しているが、長距離秩序は有しない、所謂
非晶質シリコン半導体を意味する。このようなa−3i
半導体の薄膜は一般に、グロー放電法、スパッタリング
法、CVD法、イオンブレーティング法等の公知の方法
により容易に得ることができる。In the a-3i semiconductor used in the present invention, when focusing on a single St ring atom, the atoms are arranged in a certain order in the vicinity of that atom, but do not have long-range order, which is the so-called non-regular structure. means crystalline silicon semiconductor. a-3i like this
Generally, a semiconductor thin film can be easily obtained by a known method such as a glow discharge method, a sputtering method, a CVD method, or an ion blating method.
本発明で使用する感光体には、これらの方法の内、特に
グロー放電法又はCVD法を用いることが便利であるが
、この場合に使用するシラン及び/又はシラン誘導体と
して、例えば、シラン、ジシラン、トリシラン、テトラ
シラン、シリコエチレン、シリコアセチレン、ジシロキ
サン、シリルアミン、モノクロルシラン、ジクロルシラ
ン、トリクロルシラン、テトラクロルシラン、ヘキサク
ロルジシラン、オクタクロルトリシラン、デカクロルテ
トラシラン、ドデカクロルペンタシラン、モノフルオル
シラン、ジブロムシラン、トリフルオルシラン、テトラ
フルオルシラン、ヘキサフルオルジシラン、オクタフル
オルトリシラン、モノブロムシラン、ジブロムシラン、
トリブロムシラン、テトラブロムシラン、ヘキサブロム
ジシラン、オクタブロムトリシラン、モノヨードシラン
、ショートシラン、トリヨードシラン、テトラヨードシ
ラン、ヘキサヨードジシラン、オクタヨードトリシラン
、及び−分子中に珪素原子と二辺上のハロゲン原子を含
む化合物(例えば5iBrCI13、sicβ2 F2
)等を挙げることができる。Among these methods, it is particularly convenient to use the glow discharge method or the CVD method for the photoreceptor used in the present invention. , trisilane, tetrasilane, silicoethylene, silicoacetylene, disiloxane, silylamine, monochlorosilane, dichlorosilane, trichlorosilane, tetrachlorosilane, hexachlorodisilane, octachlortrisilane, decachlortetrasilane, dodecachlorpentasilane, monofluor Silane, dibromosilane, trifluorosilane, tetrafluorosilane, hexafluorodisilane, octafluorotrisilane, monobromosilane, dibromosilane,
Tribromosilane, tetrabromosilane, hexabromodisilane, octabromotrisilane, monoiodosilane, short silane, triiodosilane, tetraiodosilane, hexaiododisilane, octaiodotrisilane, and Compounds containing halogen atoms on the sides (e.g. 5iBrCI13, sicβ2F2
) etc.
これらの化合物は単独もしくは混合して用いることがで
き、又、必要により更に水素ガスなどを併用することも
できる。These compounds can be used alone or in combination, and if necessary, hydrogen gas or the like can also be used in combination.
本発明で使用するa−3i層には、電子写真用感光体と
しての性能を十分にするために、不純物をドーピングす
ることが好ましい。このような不純物として例えば、H
,FSC,N、O,及び元素周期率表第V族Bの元素、
並びに元素周期率表第V族Bの元素等を使用することが
でき、これらは公知の方法でa−31層に導入すること
ができる。The a-3i layer used in the present invention is preferably doped with impurities to ensure sufficient performance as an electrophotographic photoreceptor. Such impurities include, for example, H
, FSC, N, O, and elements of Group V B of the Periodic Table of Elements,
In addition, elements of Group V B of the Periodic Table of Elements can be used, and these can be introduced into the a-31 layer by a known method.
本発明において、ra−3i半導体を光導電層として利
用する」とは、a−3liiを単一の層として利用する
場合のみならず、特開昭54−78135号公報に記載
されている如<PN接舎を形成する場合、或いは特開昭
54−116930の如(a−51層の上に有機又は無
機の電荷担体輸送層を設ける場合をも包含する。In the present invention, "using an RA-3I semiconductor as a photoconductive layer" does not mean only when using an RA-3I semiconductor as a single layer; It also includes the case where a PN layer is formed, or the case where an organic or inorganic charge carrier transport layer is provided on the a-51 layer (as described in JP-A-54-116930).
又、本発明のra−3l半導体を光導電層として利用し
た電子写真用感光体」は、単に導電性支持体の上に光導
電層を設ける場合のみならず、光導電層と導電性支持体
の間及び/又はこれと反対側の光導電層の表面に、電荷
の流れを防止し、帯電を良好なものとするための障壁層
を設けている場合、或いは感光体の摩耗を防ぐための保
護層、その他光反射防止層等を設ける感光体である場合
をも包含する。Further, the "electrophotographic photoreceptor using the RA-3L semiconductor of the present invention as a photoconductive layer" is applicable not only when a photoconductive layer is simply provided on a conductive support, but also when a photoconductive layer and a conductive support are provided. If a barrier layer is provided between and/or on the surface of the photoconductive layer on the opposite side to prevent charge flow and improve charging, or to prevent abrasion of the photoreceptor. It also includes the case where the photoreceptor is provided with a protective layer, other anti-reflection layer, etc.
これら障壁層や保護層等として作用する絶縁層に関して
は、例えば、米国特許第2.860.048号公報、特
公昭41−16,429号公報、同3B−15,446
号公報、同46−3.713号公報、同42−23,9
10号公報、同43−24.748号公報、同42−1
9,747号公報、同36−4.121号公報、特開昭
55−87154号公報、同56−83748号公報及
び同57−115559号公報等に記載されている。Regarding the insulating layers that act as barrier layers, protective layers, etc., for example, U.S. Pat.
Publication No. 46-3.713, Publication No. 42-23,9
No. 10, No. 43-24.748, No. 42-1
It is described in JP-A No. 9,747, JP-A No. 36-4.121, JP-A-55-87154, JP-A No. 56-83748, and JP-A No. 57-115559.
本発明で用いられる導電性支持体は、例えば、ガラス、
セラミック、プラスチックスの如き絶縁性材料の板又は
フィルム等の表面に、例えば、Ni、/1などの金属、
ニクロム等の合金、又は酸化スズ等の電導性を有する無
機酸化物等の導電層を形成せしめた支持体、或いは導電
性物質のみからなる板、フィルムもしくはホイル等の中
から任意に選ぶことができる。The conductive support used in the present invention is, for example, glass,
For example, a metal such as Ni, /1,
It can be arbitrarily selected from a support on which a conductive layer is formed, such as an alloy such as nichrome, an inorganic oxide having conductivity such as tin oxide, or a plate, film, or foil made only of a conductive substance. .
これらの種々の材料からなる電子写真用感光体の中でも
、本発明においては特に耐久性の観点から、導電性支持
体上に順次、障壁層として炭素原子を不純物として含有
するアモルファスシリコン層(a−3i+Cと略記する
)、光導電層としてのa”−5iiis更にa−3t層
の保護層を兼ねた表面障壁層としてのa−5t:0層を
設ける構成を有する感光体が好ましく、更に、上記障壁
層及び/又は表面障壁層には1〜50原子%のハロゲン
原子を含有せしめる(これをa−3l:C:Xと略記す
る。但しXはハロゲン原子であり、原子%は 100
XX/ (S l +C+X)を表す。)ことが好まし
い。上記障壁層及び/又は表面障壁層に含有される炭素
原子は約5〜約90原子%であることが好ましく、更に
好ましくは約40〜約60原子%である(この場合の原
子%は他の不純物の有無にかかわらず100XC/(S
l+C)によって表される)。又ハロゲン原子を含有せ
しめる場合には特に弗素原子を含有せしめることが好ま
しい。Among electrophotographic photoreceptors made of these various materials, in the present invention, from the viewpoint of durability in particular, an amorphous silicon layer (a- (abbreviated as 3i+C), a photoreceptor having a structure in which an a''-5iiis as a photoconductive layer and an a-5t:0 layer as a surface barrier layer that also serves as a protective layer for the a-3t layer is preferable; The barrier layer and/or the surface barrier layer contains 1 to 50 atomic % of halogen atoms (abbreviated as a-3l:C:X, where X is a halogen atom and the atomic % is 100 atomic %).
XX/ represents (S l +C+X). ) is preferred. The carbon atoms contained in the barrier layer and/or the surface barrier layer are preferably about 5 to about 90 atom%, more preferably about 40 to about 60 atom% (in this case, the atom% is 100XC/(S) with or without impurities
(represented by l+C)). Further, when a halogen atom is contained, it is particularly preferable to contain a fluorine atom.
このような障壁層は、例えば、真空容器内に前述したよ
うな珪素原子を含有する化合物と共に、炭素原子を含有
する化合物(同時にハロゲン原子、特に弗素原子も有し
ていることが好ましい)の一定量を導入してグロー放電
を行うことにより容昂に形成せしめることが出来る。こ
のようにして使用される炭素原子を含有する化合物とし
ては、例えば、メタン、エタン、プロパン、n−ブタン
、イソブタン、n−ペンタン、イソペンタン、エチレン
、プロピレン、1−ブテン、イソブチレン、1−ペンテ
ン、2−ペンテン、アセチレン、メチルアセチレン、ブ
チンなどの炭素数1〜5の炭化水素、及び弗化メチル、
弗化エチル、弗化プロピル、塩化メチル、塩化エチル、
臭化メチル、臭化エチル、沃化メチル、弗化メチレン、
塩化メチレン、ヘキサフルオルエタンなどのハロゲン化
アルキル等を挙げることが出来るが、これらの中でも特
に弗化メチレン、ヘキサフルオロエタン等の弗化アルキ
ルが好ましい。これらの化合物は、単独で用いることも
任意に混合して用いることも出来る。この場合、珪素含
有化合物と炭素含有化合物の混合比率によってa−3t
層中に含有される炭素原子の比率(ハロゲン原子を有す
る化合物を使用する場合には、ハロゲン原子の比率も)
が決定される。Such a barrier layer may, for example, contain a certain amount of a compound containing carbon atoms (preferably also containing halogen atoms, especially fluorine atoms) together with a silicon atom-containing compound as described above in the vacuum vessel. By introducing a certain amount and performing a glow discharge, it can be formed in a rich manner. Compounds containing carbon atoms used in this way include, for example, methane, ethane, propane, n-butane, isobutane, n-pentane, isopentane, ethylene, propylene, 1-butene, isobutylene, 1-pentene, Hydrocarbons having 1 to 5 carbon atoms such as 2-pentene, acetylene, methylacetylene, butyne, and methyl fluoride,
Ethyl fluoride, propyl fluoride, methyl chloride, ethyl chloride,
Methyl bromide, ethyl bromide, methyl iodide, methylene fluoride,
Examples include alkyl halides such as methylene chloride and hexafluoroethane, and among these, alkyl fluorides such as methylene fluoride and hexafluoroethane are particularly preferred. These compounds can be used alone or in any combination. In this case, depending on the mixing ratio of the silicon-containing compound and the carbon-containing compound, a-3t
Ratio of carbon atoms contained in the layer (or ratio of halogen atoms if a compound containing halogen atoms is used)
is determined.
本発明においては、特に上記障壁層の厚さは約0.00
5μ〜約0.3μが好ましく、a−3層層の厚さは約5
〜約100μの範囲から任意に選択される。In the present invention, in particular, the thickness of the barrier layer is about 0.00
5μ to about 0.3μ is preferable, and the thickness of the a-3 layer is about 5μ.
˜about 100μ.
しかしながら、a−3i光導電層の表面に上記表面障壁
層をさらに設けることのない感光体を使用した場合であ
っても、感光体の表面温度を高温に維持する本発明の方
法によって、高温多湿下における連続複写による解像力
の劣化及び画像のボケを防止することが出来るので、感
光体の構成を単純にし、製造コストを下げることができ
るこの場合も、本発明の好ましい態様である。However, even when using a photoreceptor that does not further provide the above-mentioned surface barrier layer on the surface of the a-3i photoconductive layer, the method of the present invention that maintains the surface temperature of the photoreceptor at a high temperature can reduce the temperature and humidity. This case is also a preferred embodiment of the present invention since it is possible to prevent deterioration of resolution and blur of the image due to continuous copying at the bottom, thereby simplifying the structure of the photoreceptor and reducing manufacturing costs.
一般に、電子写真プロセスにおいては、帯電、露光、現
像及びクリーニングが1組となって繰り返される。この
場合、最初の帯電が正の帯電である場合には、クリーニ
ングの時に負の帯電プロセスが組み込まれ、最初の帯電
が負の帯電である場合には、クリーニングの時に正の帯
電プロセスが組み込まれ、残留電荷が消去されるのが普
通である。Generally, in an electrophotographic process, charging, exposure, development, and cleaning are repeated as a set. In this case, if the initial charge is positive, a negative charging process is incorporated during cleaning, and if the initial charge is negative, a positive charging process is incorporated during cleaning. , the residual charge is usually erased.
本発明において使用する感光体が、a−3t半導体を光
導電性層として利用する感光体である場合には、一般に
コロナ放電に対する耐久性に欠け、特に高温多湿で負の
コロナ放電が行なわれる環境下においてはこの傾向が著
しく、解像力の低下と画像のボケが生ずる。この原因に
ついては必ずしも明らかではないが、最初の帯電量及び
感度等については異常がないことからすれば、コロナ放
電によって生ずる、例えばNOx−のごとき活性種が感
光体の表面に付着しく更に、空気中の水分も関与してい
る可能性もあるが)、感光体の表面方向の電気伝導性を
高めることによるとも考えられる。When the photoreceptor used in the present invention is a photoreceptor that utilizes an a-3T semiconductor as a photoconductive layer, it generally lacks durability against corona discharge, particularly in environments where negative corona discharge occurs in high temperature and humidity. This tendency is remarkable at the bottom, resulting in a decrease in resolution and blurring of the image. The cause of this is not necessarily clear, but considering that there are no abnormalities in the initial charge amount and sensitivity, it is assumed that active species such as NOx generated by corona discharge adhere to the surface of the photoreceptor, and that air (Although moisture inside may also be involved), it is also thought to be due to increasing electrical conductivity in the direction of the surface of the photoreceptor.
即ち、帯電に継ぐ画像露光によって、画像様に分布した
筈の電荷が感光体表面に分散するために解像力の低下と
画像濃度の低下が起こり、画像ボケが発生すると解され
る。That is, it is understood that due to the imagewise exposure that follows charging, the charges that should have been distributed in an imagewise manner are dispersed on the surface of the photoreceptor, resulting in a decrease in resolution and a decrease in image density, resulting in image blurring.
本発明においては、感光体の表面温度が高温に維持され
ているために、前記の如きNOx−等の活性種や空気中
の水分が感光体に一度付着しても再び脱離し易く、実質
的に感光体の劣化をもたらすこれら活性種の感光体表面
への絶対付着量が減少すると解され、この効果によって
高温多湿下の連続複写においても画像ボケが防止される
ものと考えられる。In the present invention, since the surface temperature of the photoreceptor is maintained at a high temperature, even if active species such as the aforementioned NOx and moisture in the air are once attached to the photoreceptor, they are easily desorbed again, and substantially It is understood that the absolute amount of these active species adhering to the surface of the photoreceptor, which causes deterioration of the photoreceptor, is reduced, and this effect is thought to prevent image blurring even in continuous copying under high temperature and humidity.
本発明の加熱の効果は残留電荷を消去する場合と異なり
、感光体表面がa−3i層である場合に特に効果的であ
る。従って、加熱されるべき感光体表面の温度は、感光
体を劣化せしめる活性種が1
感光体表面から脱離するための活性化エネルギー以上で
あることが必要であると解されるが、実際、a−5i半
導体を光導電性層として利用する電子写真用感光体であ
って、感光体の表面がa−3i層又はこれに炭素原子及
び/又はハロゲン原子を不純物として含有するa−3i
層である場合には、感光体表面を35°Cに加熱しても
画像ボケが発生し、40℃以上で初めて明確な効果が認
められる。The heating effect of the present invention is different from the case of erasing residual charges, and is particularly effective when the surface of the photoreceptor is an a-3i layer. Therefore, it is understood that the temperature of the surface of the photoreceptor to be heated needs to be higher than the activation energy required for the active species that degrade the photoreceptor to desorb from the surface of the photoreceptor. An electrophotographic photoreceptor using an a-5i semiconductor as a photoconductive layer, wherein the surface of the photoreceptor is an a-3i layer or an a-3i layer containing carbon atoms and/or halogen atoms as impurities.
In the case of a layer, image blurring occurs even if the surface of the photoreceptor is heated to 35°C, and a clear effect is only observed at 40°C or higher.
しかしながら、必要以上に(例えば100℃以上に)感
光体表面を加熱することは不経済である上、現像トナー
が感光体表面に融着するために好ましくなく、本発明に
おいては約り0℃〜約60℃に加熱すれば足りる。However, heating the photoreceptor surface more than necessary (for example, 100°C or more) is not only uneconomical but also undesirable because the developing toner fuses to the photoreceptor surface. It is sufficient to heat it to about 60°C.
本発明で行う感光体表面の加熱は、例えば赤外線により
直接加熱することができる他、感光体の支持体側からヒ
ーター及び/又は赤外線等で加熱することも出来る。加
熱が接触ヒーターで行なわれる場合には、感光体全体を
加熱できるようにヒーターを配置することが必要である
が、赤外線等により非接触に行なわれる場合には、回転
している感光体の一部分を加熱する方法を採用すること
もできる。この場合、加熱工程は帯電−露光一現像一転
写一クリーニングの画像形成工程のどこかに加えられれ
ばよいが、装置をコンパクトにまとめる上で、又、帯電
直前の感光体を最良の条件とするために、帯電の直前に
加熱することが好ましい。このような画像形成プロセス
は、例えば第1図によって示される。In the present invention, the surface of the photoreceptor can be heated directly with, for example, infrared rays, or can also be heated from the support side of the photoreceptor with a heater and/or infrared rays. When heating is performed using a contact heater, it is necessary to arrange the heater so that it can heat the entire photoreceptor, but when heating is performed non-contact using infrared rays, etc., a portion of the rotating photoreceptor is heated. It is also possible to adopt a method of heating. In this case, the heating step may be added to any part of the image forming process of charging, exposure, development, transfer, and cleaning, but in order to make the device compact, it is best to apply the heating process to the photoreceptor immediately before charging. Therefore, it is preferable to heat immediately before charging. Such an image forming process is illustrated, for example, by FIG.
本発明の方法は極めて簡単な方法であるにもかかわらず
、電子写真の画像品質を維持する効果が大きく、苛酷な
条件下においても解像力の低下や画像ボケが発生するの
を防止することが出来る。Although the method of the present invention is extremely simple, it is highly effective in maintaining the image quality of electrophotography, and can prevent a decrease in resolution and image blurring even under severe conditions. .
この方法は、特にa−3i半導体を光導電性層として利
用する感光体を簡単な方法により実際に使用可能とする
ものであり、その意義は大きい。This method is of great significance because it makes it possible to actually use a photoreceptor using an a-3i semiconductor as a photoconductive layer by a simple method.
次に本発明を実施例により更に詳述するが、本発明はこ
れによって限定されるものではない。EXAMPLES Next, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例1゜
真空系、ガス供給配管系、ガスリーク系、ヒーター、グ
ロー放電装置等を備えたペルジャー型の2
非晶質シリコン製造用グロー放電装置を用いて導電性支
持体の上に順次、光導電性層のa−3i層及びa−3i
:C障壁層を形成した。Example 1 Using a Pelger-type glow discharge device for manufacturing amorphous silicon, which is equipped with a vacuum system, a gas supply piping system, a gas leak system, a heater, a glow discharge device, etc., light was sequentially applied onto a conductive support. a-3i layer and a-3i of conductive layer
:C barrier layer was formed.
表面を研磨したアルミニウム製ドラム(支持体:外径1
20mm、長さ410龍)をペルジャー内の回転支持台
上の石英板にセットしたのら、ペルジャーの内部を排気
し、又ペルジャーに備えられたガス配管系内も排気して
、これらの系内の真空度を約3XIO−5Torr (
mHg)とした。Aluminum drum with polished surface (support: outer diameter 1
20 mm, length 410 mm) is set on the quartz plate on the rotating support inside the Pel Jar, the inside of the Pel Jar is evacuated, and the gas piping system provided with the Pel Jar is also evacuated. The degree of vacuum is approximately 3XIO-5Torr (
mHg).
次に、アルミニウム製ドラムをペルジャー内部に備えら
れたヒーターにより温度を250℃に制御しながら加熱
した。尚、温度の制御はアルメルクロメル熱電対によっ
てドラムの温度を測定しながら行なった。Next, the aluminum drum was heated while controlling the temperature to 250° C. using a heater provided inside the Pelger. The temperature was controlled while measuring the temperature of the drum with an alumel-chromel thermocouple.
次に、リークパルプを僅かに開き、ペルジャー内の真空
度を約0.3Torrになるように調整し、負の脈流高
圧電源(以後、高圧電源と略記する)によりアルミニウ
ム製ドラムとガス吹き出し板との間で30Wのグロー放
電を5分間行ない、ドラムの表面に吸着されているガス
を除去した。Next, the leak pulp was slightly opened, the vacuum level inside the Pel jar was adjusted to about 0.3 Torr, and a negative pulsating high voltage power source (hereinafter abbreviated as high voltage power source) was used to connect the aluminum drum and gas blowing plate. A glow discharge of 30 W was performed for 5 minutes between the drum and the gas adsorbed on the surface of the drum.
高圧電源を切って、リークバルブを閉じた後、再びペル
ジャー内部を約lXl0 5Torrの真空度とした。After turning off the high-voltage power supply and closing the leak valve, the inside of the Pelger was again brought to a vacuum level of about 1X105 Torr.
次いで、290容積ppm水素希釈のB2H15/H2
(以後、B7H5/H2と略記する)をガス供給配管系
から、マスフローメーターで流量を調節しながら4cc
/分(SCCM)の流量にて供給した。又SiH4ガス
供給配管系のバルブを徐々に開き、マスフローメーター
で流量を調節しながら150cc/分の流量にて供給し
た。尚、この操作においてペルジャー内圧力をバイパス
バルブの調整により4.5xlO−’Torrにした。Then B2H15/H2 with 290 vol ppm hydrogen dilution
(hereinafter abbreviated as B7H5/H2) from the gas supply piping system while adjusting the flow rate with a mass flow meter.
/min (SCCM). Further, the valve of the SiH4 gas supply piping system was gradually opened, and the gas was supplied at a flow rate of 150 cc/min while adjusting the flow rate with a mass flow meter. In this operation, the pressure inside the Pelger was adjusted to 4.5xlO-'Torr by adjusting the bypass valve.
供給ガスの流量が一定になったところで、回転している
ドラムとガス吹き出し板との間で、入力電力100Wで
グロー放電を5時間行ない、非晶質シリコン光導電性層
の形成を行なった。When the flow rate of the supplied gas became constant, glow discharge was performed between the rotating drum and the gas blowing plate at an input power of 100 W for 5 hours to form an amorphous silicon photoconductive layer.
次に、障壁層の形成を開始する前にガス供給配管系を閉
じ、ペルジャーの内部の真空度を1×10 5Torr
にした。Next, before starting the formation of the barrier layer, the gas supply piping system is closed and the vacuum inside the Pelger is set to 1 × 10 5 Torr.
I made it.
ペルジャー内部の真空度がlXl0 5Tor「になっ
たところで、SiH4ガス供給配管系のマスフローメー
ターを30cc/分に、又C2F5ガス供給配管系のマ
スフローメーターを8 cc / 分に調整し、ペルジ
ャー内にこれらのガスを供給した。次いで、ペルジャー
内の真空度が5X10−3To r rになった時点で
、SiH4ガス供給配管系のマスフローメーターを15
0cc/分に、又C2F5ガス供給配管系のマスフロー
メーターを 32cc/分に調整した。それらのガスの
流量が設定値になったところでバイパスバルブを利用し
てペルジャー内の圧力を4.5X10−’Torrにし
た。When the degree of vacuum inside the Pel Jar reached 1X10 5 Tor, adjust the mass flow meter of the SiH4 gas supply piping system to 30 cc/min and the mass flow meter of the C2F5 gas supply piping system to 8 cc/min, and add these to the Pel Jar. Next, when the degree of vacuum inside the Pelger reached 5X10-3 Torr, the mass flow meter of the SiH4 gas supply piping system was
The mass flow meter of the C2F5 gas supply piping system was adjusted to 32 cc/min. When the flow rates of these gases reached the set values, the pressure inside the Pelger was set to 4.5 x 10-' Torr using a bypass valve.
次に、高圧電源により入力電力100Wでグロー放電を
6分間実施し、障壁層の形成を行なった。Next, a glow discharge was performed for 6 minutes with an input power of 100 W using a high voltage power supply to form a barrier layer.
高圧電源を切って、グロー放電を終了させた後、ペルジ
ャー内の圧力が5xlO2Torrになった時点で、更
に真空度をlXl0 5Torrとして10分間排気を
行なった。次いで、ヒーターを切り、ドラムの温度が1
00℃になるのを待って、ドラムをペルジャー内から取
り出した。After the high-voltage power supply was turned off and the glow discharge was terminated, when the pressure inside the Pelger reached 5×10 2 Torr, the vacuum level was further increased to 1×10 5 Torr and evacuation was performed for 10 minutes. Next, turn off the heater and bring the temperature of the drum to 1.
After waiting for the temperature to reach 00°C, the drum was taken out from inside the Pelger.
D
ドラム上に形成された非晶質シリコン層の厚さは全体と
して37μmであり、この内、障壁層は約0.21μm
であった。この障壁層における炭素原子比率は約30原
子パーセントであった。The total thickness of the amorphous silicon layer formed on the D drum is 37 μm, of which the barrier layer is about 0.21 μm.
Met. The carbon atomic ratio in this barrier layer was approximately 30 atomic percent.
上記のようにして得られた電子写真用感光体に対して、
印加電圧プラス6kvで帯電時間0.08秒のコロナ放
電を行ない、直ちに画像露光を1゜5ルツクス・秒行な
った。次に、マイナス荷電性のトナーとキャリヤーとか
らなる現像剤を磁気ブラシ法によって感光体のドラム表
面にのせ、プラスのコロナ放電により転写紙上に転写し
、コピーの画像を得た。For the electrophotographic photoreceptor obtained as described above,
Corona discharge was performed at an applied voltage of plus 6 kV for a charging time of 0.08 seconds, and immediately image exposure was performed at 1.degree. 5 lux.seconds. Next, a developer consisting of negatively charged toner and carrier was placed on the surface of the photoreceptor drum using a magnetic brush method, and transferred onto transfer paper by positive corona discharge to obtain a copy image.
次いで残存トナー清浄のため、印加電圧マイナス5.’
5kvで帯電時間0.08秒のコロナ帯電を行なった後
、クリーニングブレードで感光体表面を清浄した。この
画像形成プロセスを(A)とする。この画像形成プロセ
ス(A)の全工程を、温度30℃、相対湿度85%の環
境の下で3000回行なったところ、コピー画像に著し
いボケが発生した。Next, to clean the remaining toner, the applied voltage is reduced by minus 5. '
After corona charging was performed at 5 kV for a charging time of 0.08 seconds, the surface of the photoreceptor was cleaned with a cleaning blade. This image forming process is referred to as (A). When all steps of this image forming process (A) were performed 3000 times in an environment of a temperature of 30° C. and a relative humidity of 85%, significant blurring occurred in the copied image.
6
一方、画像形成プロセス(A)においてトナークリーニ
ングの後、200Wの赤外ランプを取り付け、感光体表
面温度を40℃に保つように制御しながら感光体を加熱
する操作を付加したプロセスをプロセス(B)とする。6 On the other hand, in the image forming process (A), after toner cleaning, a process was added in which a 200W infrared lamp was attached and the photoconductor was heated while controlling the surface temperature of the photoconductor to be maintained at 40°C. B).
当然、このプロセスの間中(帯電からトナークリーニン
グまで)も、感光体表面は40℃に保たれていた。Naturally, the surface of the photoreceptor was kept at 40° C. throughout this process (from charging to toner cleaning).
このプロセス(B)で、温度30℃、相対湿度85%の
環境の下で3000回コピーを行なったところ、得られ
たコピー画像は鮮明で、解像力は当初のものと異ならず
5〜6 j! p / 顛であった。Using this process (B), when copies were made 3000 times in an environment with a temperature of 30°C and a relative humidity of 85%, the resulting copied images were clear and the resolution was 5 to 6 J! It was p/fashion.
更に、この環境の下で5万回のコピーを行なったが、得
られたコピー画像は鮮明で、解像力は5〜61p/1m
であり、プロセス(B)が極めて優れていることが実証
された。Furthermore, after 50,000 copies were made under this environment, the resulting copied images were clear and had a resolution of 5 to 61p/1m.
It was demonstrated that process (B) is extremely superior.
実施例2゜
実施例1の方法で作製した感光体を用い、実施例1の(
B)のプロセスの感光体表面温度を50℃とした他は、
実施例1と全く同様にして、実施例1の結果と同様の結
果が得られた。Example 2゜Using the photoreceptor produced by the method of Example 1,
Except that the photoreceptor surface temperature in process B) was 50°C.
In exactly the same manner as in Example 1, results similar to those in Example 1 were obtained.
実施例3゜
実施例2の場合の感光体表面を60℃、コピー繰り返し
回数を7万回とした場合も、画像ボケも解像力の低下も
生じなかった。Example 3 Even when the surface of the photoreceptor in Example 2 was set at 60° C. and the number of copies was repeated 70,000 times, neither image blurring nor reduction in resolution occurred.
これらの結果により、本発明の方法がa−31を用いた
感光体の劣化を防止する上で、極めて有効であることが
実証された。These results demonstrated that the method of the present invention is extremely effective in preventing deterioration of photoreceptors using a-31.
第1図は本発明に係る画像形成プロセスの1例である。
図中符号1はa−3tを用いた感光体ドラム、2は画像
形成のためのコロナ帯電装置、3は画像露光、4は磁気
ブラシ法によるトナー現像装置、5は転写前ランプ、6
は転写紙、7は転写用コロナ帯電装置、8は紙をドラム
から剥がすためのコロナ帯電装置、9はプレクリーニン
グのためのコロナ帯電装置、10はクリーニングブレー
ド、11は表面温度針、12は赤外線ヒーター、13は
温度制御装置を表わす。
9
第 1 ズ
2FIG. 1 is an example of an image forming process according to the present invention. In the figure, 1 is a photosensitive drum using a-3t, 2 is a corona charging device for image formation, 3 is an image exposure device, 4 is a toner developing device using a magnetic brush method, 5 is a pre-transfer lamp, 6
is a transfer paper, 7 is a corona charging device for transfer, 8 is a corona charging device for peeling the paper from the drum, 9 is a corona charging device for pre-cleaning, 10 is a cleaning blade, 11 is a surface temperature needle, 12 is an infrared ray Heater 13 represents a temperature control device. 9 1st part 2
Claims (1)
真用感光体の連続使用による性能劣化を防止する方法で
あって、該感光体の表面温度を高温に維持することを特
徴とする電子写真用感光体の劣化防止方法。 2)感光体の表面温度を40”C〜60℃に維持するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の電子写真
用感光体の劣化防止方法。[Claims] 1) A method for preventing performance deterioration due to continuous use of an electrophotographic photoreceptor using amorphous silicon as a photoconductive layer, characterized by maintaining the surface temperature of the photoreceptor at a high temperature. A method for preventing deterioration of an electrophotographic photoreceptor. 2) The method for preventing deterioration of an electrophotographic photoreceptor according to claim 1, which comprises maintaining the surface temperature of the photoreceptor at 40''C to 60C.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58121519A JPS6095467A (en) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | Preventing method of deterioration of electrophotographic sensitive body |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58121519A JPS6095467A (en) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | Preventing method of deterioration of electrophotographic sensitive body |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6095467A true JPS6095467A (en) | 1985-05-28 |
Family
ID=14813224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58121519A Pending JPS6095467A (en) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | Preventing method of deterioration of electrophotographic sensitive body |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6095467A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6095551A (en) * | 1983-10-31 | 1985-05-28 | Mita Ind Co Ltd | Electrophotographic method |
JPS61128270A (en) * | 1984-11-27 | 1986-06-16 | Mita Ind Co Ltd | Electrophotographic method |
JPS61130963A (en) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Mita Ind Co Ltd | Electrophotographic method and apparatus using amorphous silicon type photosensitive body |
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JPS6340181A (en) * | 1986-08-06 | 1988-02-20 | Canon Inc | Electrophotographic image forming method |
JPH01191883A (en) * | 1988-01-27 | 1989-08-01 | Ricoh Co Ltd | Electrophotographic process |
-
1983
- 1983-07-06 JP JP58121519A patent/JPS6095467A/en active Pending
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