JPS6086273A - イオン源装置 - Google Patents

イオン源装置

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Publication number
JPS6086273A
JPS6086273A JP58193887A JP19388783A JPS6086273A JP S6086273 A JPS6086273 A JP S6086273A JP 58193887 A JP58193887 A JP 58193887A JP 19388783 A JP19388783 A JP 19388783A JP S6086273 A JPS6086273 A JP S6086273A
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JP
Japan
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ion
arc chamber
wall
vaporizer
injection apparatus
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Application number
JP58193887A
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English (en)
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JPH0418028B2 (ja
Inventor
Hideki Ishigaki
石垣　秀樹
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/48—Ion implantation

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （１）　発明の属する技術分野 本発明はイオン注入装置に係り、特に金属状態のベリリ
ウムなどをそのまま用いて効率良くイオン電流をとり出
すことが出来るイオン注入装置に関する。
（２）　従来技術の説明 従来、ベリリウムなどのイオン注入には熱陰極電子振動
形イオン源を有するイオン注入装置が用いられている。
熱陰極電子振動形イオン源として知られているイオン源
装置は、イオン化物質を高温で加熱して気化させ、その
気化ガスに６熱電子を衝突させてイオン化しこれを外部
に引出すものである。従来の装置はイオン化物質の加熱
の為にこれを熱オーブン内に収納し、ヒーターによって
加熱する様にしていた。この様々構成（一般にペイポラ
イザと呼ばれる）Ｋよれば、燐、砒素、アンチモンなど
の様なイオン化物質につい・ては容□易に気化させる事
ができる。
しかしながら、ベリリウム、銅、亜鉛などの金属は化合
物ガスの制御性が悪く、かつ毒性を有するためにその取
り扱いが困難であり、さらに精度の良いイオンビームを
とり出すことは困難であった。さらにペイポライザは大
量のガスを必要とする欠点も有する。
そこで、ベリリウム化合物ガスを用いる代り圧アークチ
ャンバをベリリウムで製造することによってフィラメン
トのエミッションを直接ベリリウムにあててベリリウム
イオンをとり出すことが考えられた。しかしながら、こ
のような構造のものはイオン電流のとり出し効率が悪く
、さらにチャンバ温度を高くするために熱によるチャン
バの変形などが生じてチャンバの寿命が大幅に低下する
。
（３）　発明の目的 本発明の目的は、かかる従来の欠点のないイオン源を備
えたイオン注入装置を提供することにある。
（４）　発明の特徴 本発明の特徴は、アークチャンバ内壁にイオン化物質を
設けてなるイオン発生装置を備えだイオン注入装置にお
いて、前記イオン発生装置に腐蝕性ガス、例えば３フツ
化ボロン（ＢＦ３）、　、フ、化水素（Ｉ（Ｆ）　、塩
化水素（ＨＣｔ）　、四塩化炭素（ＣＣｔ４）　。
フ、化メチル（ＣＨ３Ｆ）などを導入する手段が設けら
れているイオン注入装置にある。
（５）　発明の効果 本発明によれば、ペイボライザが不要で、かつ所望のイ
オンを極めて効率良くとり出すことが出来る。
（６）　実施例 以下、本発明の一実施例について図面と共に説明する０
第１図は、従来のイオン注入装置のイオン発生装置部分
のブロック図である。ペイポライザ１内にはイオン源が
設けられ、電源３によってこのイオン源が気化してアー
クチャンバ２へ導入てれる。そして、アークチャンバ２
内のアークに−よってイオン化し、イオンビーム４とし
て取り出される。
一方、本発明実施例によれば、第２図に示すよ。
うにイオン発生装置はイオン源７が内壁に付着されたア
ークチャンバ６によって構成されるので、その構造が極
めて簡単になる。そして腐蝕性ガス５がバイブ８からア
ークチャンバ６内へ導入されることによってアークチャ
ンバ内のフィラメント（図示せず）に流す電流をあまり
大きくすること々く、十分なイオンビーム流９をとり出
すことが出来る。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来のイオン注入装置に用いられるイオン発生
装置のブロック図、第２図は本発明実施例のイオン注入
装置に用いられるイオン発生装置のブロック図、である
。 なお図において、１　・ペンボライザー、２・・従来の
アークチャンバ、３・・電源、４・・・イオンビーム、
５・腐蝕性ガヌ、６・本発明実施例に用いられるアーク
チャンバ、７　イオン源、８　・ノシイブ、９１．イオ
ンビーム、である０ 第　１　図 ２ 第　２　図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アークチャンバ内壁にイオン化物質を設けて存るイオン
    発生装置を備えたイオン注入装置において、前記イオン
    発生装置に腐蝕性ガスを導入する手段が設けられている
    ことを特徴とするイオン注入装置。
JP58193887A 1983-10-17 1983-10-17 イオン源装置 Granted JPS6086273A (ja)

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JP58193887A JPS6086273A (ja) 1983-10-17 1983-10-17 イオン源装置

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JP5020821A Division JPH0765169B2 (ja) 1993-01-14 1993-01-14 イオン生成方法

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JPS6086273A true JPS6086273A (ja) 1985-05-15
JPH0418028B2 JPH0418028B2 (ja) 1992-03-26

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63211543A (ja) * 1987-02-25 1988-09-02 Nissin Electric Co Ltd イオン源装置
JPS63211542A (ja) * 1987-02-25 1988-09-02 Nissin Electric Co Ltd イオン源装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63211543A (ja) * 1987-02-25 1988-09-02 Nissin Electric Co Ltd イオン源装置
JPS63211542A (ja) * 1987-02-25 1988-09-02 Nissin Electric Co Ltd イオン源装置

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JPH0418028B2 (ja) 1992-03-26

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