JPS607792A - 耐熱性絶縁基板およびその製造法 - Google Patents

耐熱性絶縁基板およびその製造法

Info

Publication number
JPS607792A
JPS607792A JP11509483A JP11509483A JPS607792A JP S607792 A JPS607792 A JP S607792A JP 11509483 A JP11509483 A JP 11509483A JP 11509483 A JP11509483 A JP 11509483A JP S607792 A JPS607792 A JP S607792A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
metal plate
resistant
insulating
insulating substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11509483A
Other languages
English (en)
Inventor
沢野 達郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11509483A priority Critical patent/JPS607792A/ja
Publication of JPS607792A publication Critical patent/JPS607792A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、整流器、パワトランジスタなど大電流容量
の電子部品を搭載する耐熱性絶縁基板に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
従来、電子部品搭載用絶縁基板として、はうろう被俊基
板、鉄板にエポキシ樹脂を塗布した基板。
アルミニウム板にエポキシ[8剤により#iI箔を圧着
した基板などが知られCいる。
このうち、はうろう破P4基板は700℃以上の高温に
耐え、耐熱性は非常にすぐれているが、被々ぷの厚みが
140pm程度と厚いため放熱性がよくない。
また、基材に鉄板を用いるため、アルミニウム板を用い
た他の絶縁基板にくらべて基板全体の放熱性がよくない
鉄板にエポキシ樹脂を塗布した基板は、製作が容易であ
るが、耐熱性が連続150″Cを限度とし、連続高温に
耐えられず、また、放熱性もよくない。
アルミニウム板にエポキシ接着剤によシ銅箔を接着した
市販の基板は、熱伝導良好な金属板を使用し、かつ接着
剤中に熱伝導良好な側熱フィシを入れて放熱性を改良し
ているが、接着剤がエポキシ樹脂であるため、耐熱性が
よくない。
〔発明の目的〕
この発明は1800以上の高温に耐える放熱性のよい耐
熱性絶縁基板を提供することにある。
〔発明の概要〕
銅板などからなる第1金属板とアルミニウム物などから
なる第2金属板との間に耐熱フィシ含有ポリイミド接着
剤と耐熱フィラ含有ポリアミドイミド絶縁用フェスとか
らなる積層構造の絶縁Jtiiを介在させ、この絶縁層
により両金属板を一体に固着した。
この絶縁基板は、第1金属板に耐熱フィシを配合したポ
リイミド接着剤を塗布し、一方、第2金属板に耐熱フィ
シを配合したポリアミドイミド絶縁用フェノを塗布し焼
成したのち、これら接着剤および絶縁相ワニスを両金属
板間に介在させ−ご加熱圧着することにより容易に作る
ことができる。
放熱性のよい耐熱基板とするためには、耐P(フィシを
フィン配合ポリイミド接着剤固形分に対して50〜75
 sv 1%、また、例箪圧、放熱をよくするため(は
、ポリイミド接漸剤層の厚さを10〜60μm。
ポリアミドイミド絶縁用フェス層の厚さを20〜70μ
mnの厚さにするとよい。
〔発明の実施例〕
以下、この発明を実施例に基づいて説明する。
第1図はこの発明の一実施例図で、(1)d銅からなる
第1金属板、(2)は上記第1金属板の板面と平行に板
面が対向するアルミニウムからなる第2金属板、(3)
は上記第1.第2金属板間に介在して両金属板(1) 
(2+を一体に固着する積層構造の絶縁層であって、(
4)は第1金属板側に位置する耐熱フィシ含有ポリイミ
ド接着剤層、(5)は第2金属板側に位置する耐熱フィ
ラ含有ポリアミドイミド絶縁用フェス層である。
特に図示絶縁基板は電子部品搭載用として、上記第1金
属&(1)が第2金属板(2)にくらべて小面積に形成
され、絶縁層(3)はこの第1金属板(1)とほぼ同じ
面積に塗布されて、第1金属板と対向しない第2金属板
(2)の板面は絶縁層で被覆されることなく露出してい
る。かくして、整流素子などの電子部品は上記第1金属
板(1)上に取付けられる。
上記絶縁基板は下記のように製造される。
あらかじめ、耐熱フィシとしてたとえはα−M、03を
混練したポリアミドイミド絶縁用フェノを用意する。こ
の絶縁フェノはたとえば平均粒径4.1μm。
および13.4μmnのα−AL、0.を等h1混合し
、これを絶縁用フェノ固形分に対して55 wt%配合
して作られる。絶縁基板はまず任意の大きさに切断した
アルミニウム板を脱脂洗滌し乾燥したのち、その所要部
分に上記絶縁フェノをスクリーン印刷する。しかるのち
、このアルミニウム板を炉中に入れ、5°C/分の温度
勾配で275’0まで昇温し、この温度で10分間保持
して焼成する。そして、炉より取出して放冷する。
一方、無溶剤ポリイミド樹脂に接着剤固形分に対してた
とえばイ均粒径41μmのα−AL、0.f 6owt
 O//11配合し混練[7たポリイミド接着剤を用意
する。これを酸化処理した任意大きめ銅板に塗布し、v
/、燥したのち、この銅板を上記アルミニウム板より小
面積の所要の大きさに切断する。しかるのち、この所要
の大きさに切断された銅板を、接着剤層が上記アルミニ
ウム板上の絶縁フェス層と重なる如く位置ぎめして、ホ
ットプレスでg kg/cm2.200’Oで30分間
圧着し、その後220〜230°Cで30分間アフタキ
ュアして製作される。
第1表に上述のよ−うにして製作された絶縁基板の一例
をアルミニウム板に銅箔をエポキシ接着剤で接着した従
来の絶縁糸板と比較して示した。
第 1 表 この表に示した本発明の絶縁基板はアルミニウム板側に
形成したポリアミドイミド絶縁用ワニス層の厚さを25
μmとし、鋼板側のポリイミド接着剤層の厚さを60μ
mとした一例であって、耐電圧、耐熱性が従来の絶縁基
板よりすぐれていることが示されている。しかし、この
ポリアミドイミド絶縁ワニス層の厚さを20μm未満と
すると、150℃大気中における耐電圧が不十分となり
、また、70μmを越えると乾燥焼成時にピンホールを
発生しゃすく、安定した耐電圧を確保するためには20
〜35μmの厚さにすることが必夾である。まだ、合同
板側のポリイミド接着剤層の厚さは、耐電圧よりも耐熱
、放熱および接着性が重要な要因で、10μm以下では
加熱圧着しても、ポリアミドイミド絶縁用ワニス層との
接着が不足し、60μmを越えると放熱性の低下をおこ
すことが判明した。
また、ポリアミドイミド樹脂またはポリイミド樹脂と耐
熱フィシとの配合比については、α−Ai、03゛5Q
wt%以下では放熱性が低下し、 75wt%を越える
と他部材との接着が低下するとともK、乾燥中にクラッ
クが発生し、品質低下をまねくことが判明した。
さて、上述のように製作された絶縁基板はポリアミドイ
ミド絶縁相フェスおよびポリイミド接層剤からなる側熱
絶縁層を有するので、エポキシ接着剤を用いた従来の絶
縁基板にくらべて耐熱性がよ(,180℃以−ヒの高温
下で連続使用できる耐熱絶縁基板とすることができる。
特に耐熱フィシの適量の配合は耐熱、放熱性を向上させ
、AJ、03などの放熱性のよい耐熱フィシの配合は一
段とその性能を向上させる。また、第1金属板を第2金
九板より小面積とし、絶縁層を第1金属板とtlは同じ
面積として第2金属板の板面を露出したものは不要の被
覆がないためにさらに放熱性がよくなる。また第1.第
2金渾板としてアルミニウム、銅など熱伝カ1.のよい
全国板を使用すると、その効果が一段と向上する。
また、第2金属板にポリアミドイミド絶縁相フェスを塗
布して焼成し、一方、 i′AI金に板にポリイミド接
着剤を塗布し乾燥し、その後、両金属板を加熱圧着する
方法は、絶縁糸板の製作が容易であシ%゛産に適する。
〔発明の効果〕
(1)相対向する第1.第2金炉板間に耐熱フィシを配
合したポリアミドイミド絶縁用フェスとポリイミド接着
剤とからなる積層構造の絶縁層を形成して一体化すると
、180℃以上の高温に耐える耐熱性絶縁基板を容易に
製作することができる。
(2)一方の全国板にポリアミドイミド絶縁相フェスを
塗布して、乾燥焼成し、他方の金属板にポリイミド接層
剤を塗布し乾燥したのち、これらを加熱圧着すると所−
安の耐熱絶縁21号板を容易に製作することができる。
【図面の簡単な説明】
図面はこの発明の一実維例を示す斜視図である。 (1):第1金繻板 (2):第2金桓板 (3)二 市へ L紮 1曽 (4):ポリイミド接カー丁剤層 (5):ボリアミドイミド柄糸す用ソニス層代理人 弁
理士 則 近 憲 佑 (はか1名)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1金属板と、この第1金属板の板面と板面、が
    対向する第2金属板と、耐熱フィシ含有ポリイミド接着
    剤と耐熱フイラ含廟ポリアミドイミド絶縁用フェスとの
    積層構造からなシ、上記第1.第2金属板間に介在して
    −−−両金属 板を一体に固着する絶縁層とを具備することを特徴とす
    る耐熱性絶縁基板。
  2. (2)ポリイミド接着剤の厚さを10〜60μm、ポリ
    アミドイミド絶縁用フェスの厚さを20〜70μmとし
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の耐熱性
    絶縁基板。
  3. (3)第1金属板が銅板、第2金属板がアルミニウム板
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の耐
    熱性絶縁基板。
  4. (4)第1金属板は第2金属板より小m1槓であシ、絶
    縁層は主として上記第1.第2金属板間に介在して上記
    第1金属板と対向しない第2金腐板面が露出しているこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の耐熱性絶縁
    基板。
  5. (5)耐熱フYイを配合したポリイミド接着剤を第1金
    属板に塗布してポリイミド接着剤層を形成する方法と、
    耐熱フYンを配合したポリアミドイミド絶縁用フェスを
    第°2金属板に塗布し焼成して絶縁用フェス層を形成す
    る方法と、上記ポリイミド接着剤層と上記ポリアミドイ
    ミド絶縁用フェス層を重ね合せて上記第1.第2金属板
    間に介在させて加熱圧着する方法とを具備することを特
    徴とする耐熱性絶縁基板の製造法。
  6. (6)耐熱フィシを絶縁層固形分に対して各50〜75
    wt%配合したことを特徴とする特許請求の範囲第5項
    記載の耐熱性絶縁基板の製造法。
JP11509483A 1983-06-28 1983-06-28 耐熱性絶縁基板およびその製造法 Pending JPS607792A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11509483A JPS607792A (ja) 1983-06-28 1983-06-28 耐熱性絶縁基板およびその製造法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11509483A JPS607792A (ja) 1983-06-28 1983-06-28 耐熱性絶縁基板およびその製造法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS607792A true JPS607792A (ja) 1985-01-16

Family

ID=14654052

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11509483A Pending JPS607792A (ja) 1983-06-28 1983-06-28 耐熱性絶縁基板およびその製造法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS607792A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61189694A (ja) * 1985-02-19 1986-08-23 イビデン株式会社 金属基材プリント配線板およびその製造方法
JPH0387842A (ja) * 1989-08-31 1991-04-12 Canon Inc フルカラー画像形成方法
JPH03122571U (ja) * 1990-03-27 1991-12-13

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61189694A (ja) * 1985-02-19 1986-08-23 イビデン株式会社 金属基材プリント配線板およびその製造方法
JPH0387842A (ja) * 1989-08-31 1991-04-12 Canon Inc フルカラー画像形成方法
JPH03122571U (ja) * 1990-03-27 1991-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2921668B2 (ja) 熱伝導性かつ電気絶縁性の結合装置およびその製造方法
JPS607792A (ja) 耐熱性絶縁基板およびその製造法
JPS61154847A (ja) 高熱伝導性金属ベ−スプリント基板の積層方法
JPH07154068A (ja) 接着シートとその製造法及びその接着シートを用いた金属ベース配線板用基板の製造法並びにその接着シートを用いた金属ベース配線板の製造法
JP2510257Y2 (ja) 耐熱絶縁板
JPS61241151A (ja) 金属ベ−スプリント基板の製造方法
JP2734942B2 (ja) チップキャリアの製造方法
JPS60143585A (ja) 発熱体
JPS58213493A (ja) 電気絶縁基板
JPH025944Y2 (ja)
JPS6352496A (ja) 回路用基板
JPS61241149A (ja) 金属ベ−スプリント基板の製造方法
JPS61215056A (ja) 高熱伝導性金属ベ−スプリント基板の積層方法
JPH07276563A (ja) 金属箔張り積層板およびその製造法
JPS6330799B2 (ja)
JPS61176195A (ja) 放熱性電気絶縁基板の製造方法
JPH0828559B2 (ja) 印刷配線板
JPS61144098A (ja) 片側面絶縁型回路用基板の製造方法
JPH0214189B2 (ja)
JPH0391988A (ja) 金属基板
JPS62244197A (ja) 焼成済セラミツク板を使つた多層基板製造法
JPS60214953A (ja) 金属ベ−スプリント配線基板
JPS61241150A (ja) 金属ベ−スプリント基板の製造方法
JPS63166533A (ja) メタルコア金属張積層板の製造方法
JPH01241195A (ja) 金属ベース印刷配線板