JPS6076535A - ポリオルガノシロキサンのシラノ−ル基マスキング方法 - Google Patents

ポリオルガノシロキサンのシラノ−ル基マスキング方法

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JPS6076535A
JPS6076535A JP58184378A JP18437883A JPS6076535A JP S6076535 A JPS6076535 A JP S6076535A JP 58184378 A JP58184378 A JP 58184378A JP 18437883 A JP18437883 A JP 18437883A JP S6076535 A JPS6076535 A JP S6076535A
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JP
Japan
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polyorganosiloxane
silanol groups
masking
group
ketal
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Pending
Application number
JP58184378A
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English (en)
Inventor
Takashi Imai
今井 高史
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Momentive Performance Materials Japan LLC
Original Assignee
Toshiba Silicone Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は、ポリオルガノシロキサンのシラノール基マス
キング方法に関し、更に詳しくは、ビニル基含有ポリオ
ルガノシロキサンとケタールを反応させることを特徴と
するビニル基含有ポリオルガノシロキサンのシラノール
基マスキング方法に関する。
[技術的背景とその問題点コ ビニル基含有ポリオルガノシロキサンは5通常、付加型
常温硬化性ポリオルガノシロキサンの主成分として使用
されることが知られている。
しかしながら、ビニル基含有ポリオルガノシロキサン中
にシラノール基が多く存在すると、かかるポリオルガノ
シロキサンを使用した組成物を成形した場合に、型から
の剥離性が悪く、又、その硬化物の耐熱性等が劣るとい
う問題点を有している。そこで、このような問題点を除
去するために、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンの
製造に際しては、原料からシラノール基生戒の原因とな
る水分を除去するために、加熱還流や合成ゼオライト処
理等が行なわれている。
しかしながら、ビニル基含有ポリオルガノシロキサンの
製造方法では、通常、アルカリ金属水酸化物を触媒とし
て使用しているために、水分除去しよるのみでは生成物
中に存在するシラノール基、(の含有量をある程度以下
にすることが困難である。そのため、上記問題点を完全
に解消し、優れた性能を有するポリオルガノシロキサン
を得る方法は未だ得られていない。
一方、X E JJFシリコーンオイル及びシリコーン
生ゴムとして知られている高粘度の直鎖状ポリジオルガ
ノシロキサンも同様に生成物中に存在するシラノール基
の含有量を抑えることが困難であり、そのため、使用目
的によっては、シリコーンオイルやシリコーンゴムの特
性に影響を及ぼすことがある。それを避けるためには、
反応系中の水分の混入を避ける等、厳しい反応条件の制
御が必要になる。
[発明の目的] 本発明の目的は1分子中にシラノール基が殆ど残存して
おらず、それを使用した場合に、成形時における型から
のM離性が優れ、且つ、硬化物の耐熱性等が優れたポリ
オルガノシロキサン、特にビニル基含有ポリオルガノシ
ロキサン及び高粘度ポリオルガノシロキサンを得ること
が可能な方法を提供することにある。
[発明の概要] 末完13I]@は上記問題点を解決するために鋭意検討
を重ねた結果、シラノール基をマスキングすることによ
り、本発明の目的が達成されることを見出し、本発明を
完成するに至った。
即ち、本発明のポリオルガノシロキサンのシラノール基
マスキング方法は、 ポリオルガノシロキサンと、次式 [I]:(式中、R
1及びR2は同一でも異なっていてもよく、炭素数l〜
4の一価の炭化水素基又はR1及びR2とが結合してこ
れらを含む5員環若しくは6員環を形成する二価の炭化
水素基を表わし l(3は一価の炭化水素基を表わす、
)−r%云七トス斤々−1しシE伏七静スーレル欣馬シ
+るものである。
以下において本発明を更に詳しく説明する。
本発明において反応成分の−として使用されるポリオル
ガノシロキサンは、特に限定されず、通常ポリオルガノ
シロキサンとして使用されているものであればいかなる
ものでもよい。即ち、その構造は直鎖状、分岐状、環状
又は三次元#l目状の何れのものであってもよく、これ
らの組合せであってもよい。又、ケイ素原子に結合した
有様基としては、置換又は非置換の炭化水素基であれば
特に限定されず、例えば、メチル基、エチル基及びプロ
ピル基等のアルキル基;ビニル基及び7リル基等のアル
ケニル基;フェこル基及びトリル基等のアリール基;ベ
ンジル基及びα−2エネチル基等のアラルキル基;メト
キシメチル基等のアルコキシアルキル基:及び3,3.
3−トリフルオロプロピル基及びクロロフェニル基等の
ハロゲン置換アルキル基及びアリール基等が挙げられる
これらのうちでも、ビニル基含有ポリオルガノ付加反応
によってゴム状弾性体を得る際に発泡の原因になるので
、特に本発明の方法を適用することが有効である。ビニ
ル基含有ポリオルガノシロキサンの中でも、付加型常温
硬化性シリコーンゴムの原料として使用される両末端ビ
ニル基封鎖ポリジオルガノシロギサンが最も大きな効果
が得られることから好ましく、とりわけ、両末端ビニル
基封鎖ポリジメチルシロキサンが好ましい。
又、25℃における粘度が5.00Q cP以上の高粘
度シリコーンオイルやシリコーン生ゴムのような鎖状シ
リコーンオイルやシリコーンゴムの耐熱性、耐薬品性、
作業性等に影響を及ぼすので本発明の方法が有効である
本発明において使用されるポリオルガノシロキサンのシ
ラノール基を刺鎖する機能を有するケタールは、上記式
IIIで示されるものである。式中、R1及びR2で表
わされる炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基又はブチル基等の炭素数1〜4の一価の炭化水
素基又はR1及びR2とで構成されるテトラメチレン基
又はペンタメチレン基等の二価の炭化水素基が挙げられ
る。又、R3で表わされる一価の炭化水素基としては、
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基及びオクチル基等が挙げられる。
このようなケタールとしてIよ、例えば、アセトンジメ
チルケタール、アセトンジエチルケタール、アセトンジ
オクチルケタール、メチルエチルケトンジメチルケター
ル、メチルイソブチルケトンジメチルケタール、シクロ
ペンタノンジメチルケタール、シクロヘキサノンジメチ
ルケタール及びシクロヘキサノンジエチルケタール等が
挙げられる。これらの中でも、入手が容易であること及
び反応時に副生するケトンの除去が容易であることから
アセトン及びメチルエチルケトンのケタールが好ましく
、特にアセトンジメチルケタールが好ましい。
又、アルデヒドのアセタールを用いた場合にも本発明と
同様のマスキングは可能であるが、反応副生物としてア
ルデヒドが生成するので好ましくない。
本発明のポリオルガノシロキサンのシラノール基マスキ
ング方法は、室温、常圧下において、上記ポリオルガノ
シロキサンとケタールを任意の割合で混合し、反応させ
ることによりシラノール基をマスキングすることが可能
なものである。このような処理により、シラノール基の
含有量が低減されたポリオルガノシロキサンを得ること
が可能である。ポリオルガノシロキサンとケタールの混
合比は、シラノール基とケタール基が等モル以上であれ
ば特に限定されないが、反応を速やかに進行させるため
には、ケタールを含有シラノール基に対して10倍モル
以上使用することが好ましい。
この場合、過剰のケタールは反応終了後、反応副生物の
ケトンと共に回収し、分離するか、或いは分離すること
なくケトンをケタール化し、本反応の出発原料として使
用してもよい、又、反応を速やかに進行させるためには
、加熱下において反応を行なうことが好ましく、ケター
ルの還流温度い。更に、本発明においては、無機酸の存
在下に反応を行なうことにより、反応がより速やかに進
行する。このような無a酸としては1例えば、塩酸、硫
酸等が挙げられ、その添加量は、反応基質に対して11
00pp以下の量で充分である。上記無機酸は、反応終
了後、中和又は吸着等により容易に除去することが可能
である。又、これらの中和、除去が困難な場合には、無
機酸を添加せず、反応を長時同行なう。
[発明の効果] 本発明のポリオルガノシロキサンのシラノール基マスキ
ング方法によれば、極めて簡便な方法でシラノール基が
アルコキシ化されたポリオルガノシロキサン、特にビニ
ル基含有ポリオルガ/シロキサンや高粘度直鎖状ポリオ
ルガノシロキサンを得ることが可能である。かかるポリ
オルガノシロキサンは、そのアルコキシ基が高分子鎖中
に組み込まれているために、高分子鎖の立体効果により
加水分解され難く、実際上、それがシラノール基られた
ポリオルガノシロキサンを使用した組成物は、成形時に
おける型からの剥離性が優れ、且つ、硬化物の耐熱性等
が優れたものであり、付加型常温硬化性ポリオルガノシ
ロキサン組成物の主成分として極めて有用なものである
。又、本発明により得られた高粘度の直鎖状ポリジオル
ガノシロキサンは、高粘度シリコーンオイルやシリコー
ン生ゴムとして優れた耐熱性、耐薬品性を有し、又それ
を用いたシリコーンゴムの作業性が優れている。
[発明の実施例] 以下において実施例を掲げ、本発明を更に詳しく説明す
る。尚、実施例中、部は重量部を表わし、粘度は25℃
における値を示した。
実施例1 2710 cPの粘度を有する両末端ビニル基封鎖ポリ
ジメチルシロキサン50部に、正ケイ11mn−プロピ
ル1部及びオクタン酸スズ0.5部を添加し、混合撹拌
した。 30分間放置した後、この組成物の粘度を測定
したところ、3050 cPであった。
一方、上記において、オクタン酸スズを添加せずに同様
の操作を施したものの粘度を測定したところ、2530
 cPであった。
これら両者の粘度の比、即ち、3050/2530 =
1.21をゲル化粘度比と呼び、この数値が1.0を超
えて、より大きい程、シラノール基を多く含有している
ことを意味する。このことから、」二記両末端ビニル基
封鎖ポリジメチルシロキサンにはシラノール基が含まれ
ていることが確認された。尚。
上記ポリシロキサンのシラノール基含有率をカール・フ
ィシャー法により測定したところ、測定限界値以下であ
った。
上記両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサン500
部に、アセトンジメチルケタール5部を加え、80℃で
6時間加熱撹拌した0次いで、8 mmHgの減圧下に
おいて80°Cで1時間加熱撹拌し、未反応の7セトン
ジメチルケタール及び反応副生物のアセトンを除去した
残留している油状物の粘度は2.Et30 cPであっ
た。このポリジメチルシロキサンのゲル化粘度比は1.
03であり、このことから、上記油状物にはシラノール
基が殆ど含まれていないことが確認された。
実施例2〜5 実施例1において、第1表に示す触媒を用い。
シラノール基のマスキング反応を第1表に示すような条
件に変えた他は全て同様の操作にて反応を行なった。
得られた反応物について実施例1と同様にしてシラノー
ル基の有無を調べたところ、ポリジメチルシロキサンの
ゲル化粘度比は低減しており、シラノール基は殆ど存在
していないことが確認された。
第1表 実施例6〜lO 実施例1において使用した粘度2710 cP、ゲル化
粘度比1.21の両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロ
キサン500部に、第2表に示す量のケタールと濃塩酸
0.005部を加え、 80℃で1時間加熱撹拌し、未
反応のケタールと反応副生物のケトンを除去した。得ら
れたポリシロキサンの粘度とゲル化粘度比を第2表に同
時に示す。
第2表 第2表から明らかなように、反応後のポリシロキサン中
には殆どシラノール基が含まれていないことが確認され
た。
実施例11−15 第3表に示すビニル基含有ポリオルガノシロキサン50
0部に、アセトンジメチルケタール7部とO塩酸o、o
os部を加え、80°Cで1時間加熱撹拌した。次いで
、6 mmHgの減圧下において80 ’Oで1時間加
熱撹拌し、未反応のアセトンジメチルケタールと反応副
生物のアセトンを除去した。得られたビニル基含有ポリ
シロキサンの粘度とゲル化粘度比を第3表に同時に示す
第3表 A:両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサンB:両
末端ビニル基封fi(ポリジメチルシロキサン)(ポリ
ジフェニルシロキサン) [メチル基/フェニル基=72/28 (モル比)]C
: 3100 cPの粘度を有する両末端ビニル基封鎖
ポリジメチルシロキサン50部と、(Ne3S+0.4
)s(V+tle+S+%)x(S+02)s f)平
均組成式で表わされる三次元網目状構造ポリシロキサン
50部の混合物第3表から明らかなように、反応後のポ
リシロキサン中には殆どシラノール基が含まれていない
ことが確認された。
実施例16 粘度150 cP 、ゲル化粘度比1.13及び30モ
ル%のフェニル基を含む両末端トリメチルシリル基封鎖
ポリ(ジメチル)(ジフェニル)シロキサン500部に
、アセトンジエチルケタール5部を加え。
100℃で5時間加熱撹拌した0次いで、6 ma+H
gの減圧下において100℃で1時間加熱撹拌し、未反
応の7セトンジエチルケタール及び反応副生物のアセト
ンを除去した。
残留している油状物の粘度は143 cP、ゲル化粘度
比は1.03であった。このことから、上記油状物には
シラノール基が含まれていないことが確認された。
実施例17 1.44の両末端トリメチルシリル基封鎖ポリジメチル
シロキサン500部に、アセトンジエチルケタール10
部を加え、 100℃で12時間加熱撹拌した0次いで
、6 +mmHHの減圧下において 100℃で4時間
加熱撹拌し、未反応の7セトンジエチルケタール及び反
応副生物のアセトンを除去した。
111られた高粘度シリコーンオイルの25℃における
粘度は、処理前と同様の98.500cPであり、ゲル
化粘度比は1.05であった。
比較例1〜3 実施例1において使用した粘度2.710 cP、ゲル
化粘度比1.21の両末端ビニル基封鎖ポリジメチルシ
ロキサン5oosに、ff54表に示すアルコールと濃
塩酸0.005部を加え、第4表に示す温度で4時間加
熱撹拌した。重曹によって酸を中和した後。
lQmmHgの減圧下に 100℃で1時間加熱撹拌し
、未反応のアルコールと反応副生物の水を除去した後、
更に芒硝により脱水、濾過を行なった。得られた両末端
ビニル基封鎖ポリジメチルシロキサンの粘度とゲル化粘
度比を第4表に示す。
第 4 表 第4表から明らかなように、シラノール基のアルコキシ
化反応は殆ど進行せず、両末端ビニル基封鎖ポリジメチ
ルシロキサンにはシラノール基が多く残存していること
が確認された。
比較例4 アセトン50部、メチルアルコール80部、水149の
混合液を、温度が20〜30℃に維持されるように調節
しながら、ジメチルジクロロシラン250部中に滴下し
、1時間撹拌を続けて、シランをメタツリシスすると共
に部分加水分解と縮合を行なった。100 m、mHg
の減圧下に30〜40°Cで2時間加熱撹拌することに
より、副生した環状シロキサンを留去し、次いで、14
1.5部を加えて常温で30分間撹拌を行ない、酸の中
和を行なった。更に、3hrsHgの減圧下に80 ’
Cで1時間加熱して低沸魚介を完全に除き、セライトを
用いて濾過し、101部の油状物を得た。
得られた油状物は25°Cにおける粘度が36.0cS
tの鎖状ポリジメチルシロキサンで、その末端には2.
1%のメトキシ基と0.20%の水は基が存在しており
、完全に末端メトキシ化したものは得られなかった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ポリオルガノシロキサンと、 次式:(式中、R1
    及びR2は同一でも異なっていてもよく、炭素数1〜4
    の一価の炭化水素基又は1(1及びR2とが結合してこ
    れらを含む5員環若しくは6員環を形成する二価の炭化
    水素基を表わし、R3は一価の炭化水素基を表わす、)
    で示されるケタールと反応させることを特徴とするポリ
    オルガノシロキサンのシラノール基マスキング方法。 2、ポリオルガノシロキサンがビニル基含有ポリオルガ
    ノシロキサンである特許請求の範囲第1項記載のポリオ
    ルガノシロキサンのシラノール基マスキング方法。 基封鎖ポリジオルガノシロキサンである特許請求の範囲
    第2項記載のポリオルガノシロキサンのシラノール基マ
    スキング方法。 4、ポリオルガノシロキサンが25℃において5.00
    0 cP以上の粘度を有する直鎖状のポリジオルガノシ
    ロキサンである特許請求の範囲第1項記載のポリオルガ
    ノシロキサンのシラノール基マスキング方法。 5、ケタールが7セトンジメチルケタールである特許請
    求の範囲第1項記載のポリオルガノシロキサンのシラノ
    ール基マスキンク方法。 6、反応が無a酸の存在下に行なわれる特許請求の範囲
    第1項記載のポリオルガノシロキサンのシラノール基マ
    スキング方法。 7、反応が50℃〜200℃の範囲で行なわれる特許請
    求の範囲第1項記載のポリオルガノシロキサンのシラノ
    ール基マスキンク方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02269771A (ja) * 1989-04-12 1990-11-05 Shin Etsu Chem Co Ltd 耐熱性シリコーンゲル組成物
WO2019059398A1 (ja) * 2017-09-25 2019-03-28 日産化学株式会社 保存安定性に優れたポリシロキサンの製造方法

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JPWO2019059398A1 (ja) * 2017-09-25 2020-11-05 日産化学株式会社 保存安定性に優れたポリシロキサンの製造方法

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