JPS6063839A - 温度ヒユ−ズ - Google Patents
温度ヒユ−ズInfo
- Publication number
- JPS6063839A JPS6063839A JP17156983A JP17156983A JPS6063839A JP S6063839 A JPS6063839 A JP S6063839A JP 17156983 A JP17156983 A JP 17156983A JP 17156983 A JP17156983 A JP 17156983A JP S6063839 A JPS6063839 A JP S6063839A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal case
- plating layer
- temperature
- copper
- layer
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、特定温度で溶融する絶縁性化学物質よりな
る感温ベレ、l−を月1いた無復帰型の温度ヒユーズの
改良に関する。
る感温ベレ、l−を月1いた無復帰型の温度ヒユーズの
改良に関する。
背景技(ホす
電気機器の安全性のnlA点から温度i6V、+昇防止
装脳が使用されるようになってきているが、最近では特
定温度で溶副1する絶縁1’l化学物質よりなる感温ベ
レノ1−を用いた無IM帰型の?fiilL度ヒユーズ
が賞用されている。この種のlK111度ヒユーズの代
表的なものは、第1図に示す構造を有する。図において
、1は銅、黄銅等の良導電1イ1かつ良熱伝導1−′I
金金属りなる円筒状の金属ケースで、その一端に銅より
なるリード線2がかしめ固定されている。3は特定温度
で溶融する絶縁1ト1化学物質よりなる円柱状の感温ベ
レ71・、4および5id後述する強圧縮ばね(6)9
弾力を前記感温ベレット8および後述する可動接点(7
)に平均化して与えるための銅等よりなる押圧板、6は
前記押圧板4,5の間に圧縮状昨で介在されている閉路
J−j+の強圧縮ばね、7は良導る可動接点で、その周
囲に複数個の舌片7aをr丁し、各舌片7aは金属ケー
71の内面に抑圧接触している。前記感温ペレット3な
いし+jJ動接点7は、先に述べた順序で金属り゛−ス
1内に収容さhている。8は金属ケース1の開11端を
閉塞するセラミック等よりなる絶縁ブッシングで、その
人1η部8aの内方端は金属ケース1に形成された段部
1aVc係合されており、かつ金属ケース1の開ITI
端の絶縁ブッシング8よりもはみ出す部分1 bは中心
軸に向って屈曲されており、絶縁ゾリシング8が内方お
よび外方に向って移動するのを1りノ+L: している
。9は+lJ記絶縁ブリシング8の中心化をE1通する
リード線で、その内方端にnI前記+、iJ動ji点7
と接触する固定接点lOを備えており、かっこの固定接
点10の近傍および絶縁ブッシング8の外側に隣接する
部分に膨大部9a、、91rを設けて、リード線9が外
方および内方に移動するのを防止している。12は絶縁
ブッシング8の外側面に被着されたエポキシ樹脂等より
なる封1−1樹脂である。
装脳が使用されるようになってきているが、最近では特
定温度で溶副1する絶縁1’l化学物質よりなる感温ベ
レノ1−を用いた無IM帰型の?fiilL度ヒユーズ
が賞用されている。この種のlK111度ヒユーズの代
表的なものは、第1図に示す構造を有する。図において
、1は銅、黄銅等の良導電1イ1かつ良熱伝導1−′I
金金属りなる円筒状の金属ケースで、その一端に銅より
なるリード線2がかしめ固定されている。3は特定温度
で溶融する絶縁1ト1化学物質よりなる円柱状の感温ベ
レ71・、4および5id後述する強圧縮ばね(6)9
弾力を前記感温ベレット8および後述する可動接点(7
)に平均化して与えるための銅等よりなる押圧板、6は
前記押圧板4,5の間に圧縮状昨で介在されている閉路
J−j+の強圧縮ばね、7は良導る可動接点で、その周
囲に複数個の舌片7aをr丁し、各舌片7aは金属ケー
71の内面に抑圧接触している。前記感温ペレット3な
いし+jJ動接点7は、先に述べた順序で金属り゛−ス
1内に収容さhている。8は金属ケース1の開11端を
閉塞するセラミック等よりなる絶縁ブッシングで、その
人1η部8aの内方端は金属ケース1に形成された段部
1aVc係合されており、かつ金属ケース1の開ITI
端の絶縁ブッシング8よりもはみ出す部分1 bは中心
軸に向って屈曲されており、絶縁ゾリシング8が内方お
よび外方に向って移動するのを1りノ+L: している
。9は+lJ記絶縁ブリシング8の中心化をE1通する
リード線で、その内方端にnI前記+、iJ動ji点7
と接触する固定接点lOを備えており、かっこの固定接
点10の近傍および絶縁ブッシング8の外側に隣接する
部分に膨大部9a、、91rを設けて、リード線9が外
方および内方に移動するのを防止している。12は絶縁
ブッシング8の外側面に被着されたエポキシ樹脂等より
なる封1−1樹脂である。
18は必要により絶縁ブッシング8の外側面に封口樹脂
12を介して接着固定されたセヲミノク等よりなる絶縁
筒体である。
12を介して接着固定されたセヲミノク等よりなる絶縁
筒体である。
上記の構成において、常温時は感温ペレット3が固体で
あり、強圧縮ばね6は弱圧縮ばね11の弾性力に抗して
可動接点7を固定接点10に強く押圧接触せしめている
。したかって、リード線2−金属ケースト可#l接点7
−固定接点10− IJ−ド線9の経路で、リード線2
および9間が導通伏熊に保持されている。
あり、強圧縮ばね6は弱圧縮ばね11の弾性力に抗して
可動接点7を固定接点10に強く押圧接触せしめている
。したかって、リード線2−金属ケースト可#l接点7
−固定接点10− IJ−ド線9の経路で、リード線2
および9間が導通伏熊に保持されている。
周囲温度が異常士別して感温ペレット3の融点に達する
と、1さ温ベレノ’18が溶融し、かつ従って強圧縮ば
ね6が伸張してその弾は力が減少する結果、弱圧縮ばね
IJの+711性力が弾圧縮ばね6の弾性力を凌駕して
、弱圧絡i ’t−J、ね11が伸張するので、可動接
点7が第2図に示すように固定接点10かも南開して、
リード線2および9間が非導通状態になる。
と、1さ温ベレノ’18が溶融し、かつ従って強圧縮ば
ね6が伸張してその弾は力が減少する結果、弱圧縮ばね
IJの+711性力が弾圧縮ばね6の弾性力を凌駕して
、弱圧絡i ’t−J、ね11が伸張するので、可動接
点7が第2図に示すように固定接点10かも南開して、
リード線2および9間が非導通状態になる。
上記の温度ヒューヌ冒d、絶縁1生化学物質よりなる感
温ペレット8の安定な融点を利用して、精度の高い動作
が得られるのみならず、感温ベレット8として所望の融
点のものを用いれば、同一構造で任意の動作温度の温度
ヒユーズが得らり、るという利点がある。
温ペレット8の安定な融点を利用して、精度の高い動作
が得られるのみならず、感温ベレット8として所望の融
点のものを用いれば、同一構造で任意の動作温度の温度
ヒユーズが得らり、るという利点がある。
ところで、上記のように金属ケースlそのものを導電路
の一部として用い、かつ金Jar!:ケーヌIと可動接
点7とを当接して電気的に接続する場合、金属ケース1
と可動接点7との接触抵抗を小さくするために、第8図
に示すように、金属ケース本体14の全面に厚さ5μ程
度の銀メノギ層15を形成している。しかしながら、こ
の4’li、 i+l’+ 没ヒ、−ズは動作温度によ
っては、評価試験費使月l法部で100℃以上の高温に
曝されることがあり、銅や黄銅等の銅系材料よりなる金
属、ケース本体14の構成材料である銅が銀メリギ11
’+115に拡散し−Cふ艮メ、キ層15の表面に滲出
して酸化さノすることにより、金属ケースIの内面では
+iJ動接点7との屡触抵抗の増加をきたし、外面でに
1変巴((より商品価直を落とし捺印表示が不可・明に
なるという欠1【ζLがあった。このような問題点を解
決するためには、filジげ鴇メ 、キ圓IFIの1グ
七か−1−4)聞/子J+ 1.−1’ I・いが、銀
メッキ層15を厚くすると著しく原価高となるのみなら
ず、金属ケースlの内面に対する可動接点7の摺動性が
悪くなるという問題点があった。
の一部として用い、かつ金Jar!:ケーヌIと可動接
点7とを当接して電気的に接続する場合、金属ケース1
と可動接点7との接触抵抗を小さくするために、第8図
に示すように、金属ケース本体14の全面に厚さ5μ程
度の銀メノギ層15を形成している。しかしながら、こ
の4’li、 i+l’+ 没ヒ、−ズは動作温度によ
っては、評価試験費使月l法部で100℃以上の高温に
曝されることがあり、銅や黄銅等の銅系材料よりなる金
属、ケース本体14の構成材料である銅が銀メリギ11
’+115に拡散し−Cふ艮メ、キ層15の表面に滲出
して酸化さノすることにより、金属ケースIの内面では
+iJ動接点7との屡触抵抗の増加をきたし、外面でに
1変巴((より商品価直を落とし捺印表示が不可・明に
なるという欠1【ζLがあった。このような問題点を解
決するためには、filジげ鴇メ 、キ圓IFIの1グ
七か−1−4)聞/子J+ 1.−1’ I・いが、銀
メッキ層15を厚くすると著しく原価高となるのみなら
ず、金属ケースlの内面に対する可動接点7の摺動性が
悪くなるという問題点があった。
そこで、このような問題点を解決するために、本出願人
は先に、第4図に示すように、銅系材料。
は先に、第4図に示すように、銅系材料。
すなわち銅または黄銅等よりなる金属ケース本体140
表面に厚さ1μ以」二の無電解のニッケルメッキ層1゛
7を形成し、この二・ノヶルメ・ツギ層17の上に厚さ
1〜2μ程度の銀メIキ層18を形成した金属ケース1
6を用いることを提案した。
表面に厚さ1μ以」二の無電解のニッケルメッキ層1゛
7を形成し、この二・ノヶルメ・ツギ層17の上に厚さ
1〜2μ程度の銀メIキ層18を形成した金属ケース1
6を用いることを提案した。
上記の構成によれば、銅系の金旙1ケース本体14の全
面に無電解ニッケルメッキ層17を介して銀メッキ層1
8を形成しているので、評価試験や1吏/(I状態で1
00℃以−にの高温に1収さitk際に、金属ケース本
体14の銅が銀メッキ層18へ拡散しようとしても無電
解ニッケIV層17によって阻114されるので、銀メ
ッキ層18の表面に銅が滲出してくることがなく、かつ
したがって、銅の酸化によって可動接点7との接触抵抗
が増大したり、外観不良となったり表示捺印が不1!1
F明になるといったことか皆無となる。また、銀メッキ
層18を従来の銀メッキ層15よりも格段に薄くできる
ので原価低減も図れる。
面に無電解ニッケルメッキ層17を介して銀メッキ層1
8を形成しているので、評価試験や1吏/(I状態で1
00℃以−にの高温に1収さitk際に、金属ケース本
体14の銅が銀メッキ層18へ拡散しようとしても無電
解ニッケIV層17によって阻114されるので、銀メ
ッキ層18の表面に銅が滲出してくることがなく、かつ
したがって、銅の酸化によって可動接点7との接触抵抗
が増大したり、外観不良となったり表示捺印が不1!1
F明になるといったことか皆無となる。また、銀メッキ
層18を従来の銀メッキ層15よりも格段に薄くできる
ので原価低減も図れる。
ところが、無電解ニッケルメッキ層17 i、I−1表
面の活性化が困難であり、&lJノノキ層18との密着
性が悪いために、剥れや高温保管時にフクレを発生して
、商品価値が低下するのみならず、勃に感温ペレツト3
の溶融時に0■動接点7の円滑fLjljl+作が困難
に方り、温度ヒユーズの信頼1イ1:が低下するという
新たな問題に遭遇した。
面の活性化が困難であり、&lJノノキ層18との密着
性が悪いために、剥れや高温保管時にフクレを発生して
、商品価値が低下するのみならず、勃に感温ペレツト3
の溶融時に0■動接点7の円滑fLjljl+作が困難
に方り、温度ヒユーズの信頼1イ1:が低下するという
新たな問題に遭遇した。
発明の開示
〔目的〕
この発明は、金属ケースの銀メッキ層表面に銅が滲出酸
化することがなく、しかも銀メッキ層の剥れやフクレを
生じない温度ヒユーズをIj+冒ノ(することを目的と
する 〔構成〕 この発明は銅系の材料よりなる金属ケース本体に無電解
ニッケルメッキ層と?E気二・ノケルメ・ツキ層とを介
して銀メッキ層を形成した金属ケースを用いることを特
徴とするものである。
化することがなく、しかも銀メッキ層の剥れやフクレを
生じない温度ヒユーズをIj+冒ノ(することを目的と
する 〔構成〕 この発明は銅系の材料よりなる金属ケース本体に無電解
ニッケルメッキ層と?E気二・ノケルメ・ツキ層とを介
して銀メッキ層を形成した金属ケースを用いることを特
徴とするものである。
この発明によれば、銅系の)l′A判よりなる全1萬ケ
ーヌ本体に、捷ず無電解ニッケルメッキ層を形成するの
で、一端が閉じたイ〕底円筒状の金属ケース本体の外面
はもちろん内面にも−・様な無電解ニッケルメッキ層を
Jし成することができる。1だ、」ニ記無電解ニッケル
メッキ層十に電りC二、ケルメッキ層を形成して銀メノ
ギ層を形成するので、無電解ニッケルメッキ層と電気工
、ノケルメノキ層は共にニッケルメッキ層のため密着性
がよく、電気ニッケルメ・フキ層は無電解二、ソケルメ
・ツキ層よりも表面が活性であるため、電気工・ノケル
メ・ツキ層と銀メッキ層との密着性もよく、銀メ・ツキ
層の剥れや高温保管によるフクレが発生しない。また、
高温保管時に銅系4z料よりなる金属ケース本体の銅が
銀メッキ層へ拡散しようとしても、無電解ニッケlレノ
1.キ層および電気ニソケルメ・ツキ層で二重に阻止さ
れるため、銀メツキ層表面への銅の拡散滲出および酸化
は確実に防止され、内771Sヤ(抗の増大や変色によ
る商品価値の低下が発生しなくなる。
ーヌ本体に、捷ず無電解ニッケルメッキ層を形成するの
で、一端が閉じたイ〕底円筒状の金属ケース本体の外面
はもちろん内面にも−・様な無電解ニッケルメッキ層を
Jし成することができる。1だ、」ニ記無電解ニッケル
メッキ層十に電りC二、ケルメッキ層を形成して銀メノ
ギ層を形成するので、無電解ニッケルメッキ層と電気工
、ノケルメノキ層は共にニッケルメッキ層のため密着性
がよく、電気ニッケルメ・フキ層は無電解二、ソケルメ
・ツキ層よりも表面が活性であるため、電気工・ノケル
メ・ツキ層と銀メッキ層との密着性もよく、銀メ・ツキ
層の剥れや高温保管によるフクレが発生しない。また、
高温保管時に銅系4z料よりなる金属ケース本体の銅が
銀メッキ層へ拡散しようとしても、無電解ニッケlレノ
1.キ層および電気ニソケルメ・ツキ層で二重に阻止さ
れるため、銀メツキ層表面への銅の拡散滲出および酸化
は確実に防止され、内771Sヤ(抗の増大や変色によ
る商品価値の低下が発生しなくなる。
発明を実施するだめの最良の形態
以下に、この発明の実施例を図面を参照して説明する。
第5図は温度ヒユーズの断面図を示し、第6図は金属ケ
ース19の要部拡大断面図を示す。
ース19の要部拡大断面図を示す。
第5図において、次の点を除いては第1図と同様であり
、同一部分には同−参1!(符号をf、1シている。第
1図との相違点は、金属ケース1に代えて金属ケー71
9を用いていることである。1)11記金属ケース19
は、第6図に示すように、銅または黄銅等の銅系利料よ
りなる金属ケース本体14の内外両面に、次亜リン酸塩
の還元反応を利用して厚さ1μ以上の無電解ニッケルメ
ッキ層20を形成し、この無電解二1.ケルメリキ層2
0上に塩化ニッケル浴を用いて厚さ0..0571以上
の電気工。
、同一部分には同−参1!(符号をf、1シている。第
1図との相違点は、金属ケース1に代えて金属ケー71
9を用いていることである。1)11記金属ケース19
は、第6図に示すように、銅または黄銅等の銅系利料よ
りなる金属ケース本体14の内外両面に、次亜リン酸塩
の還元反応を利用して厚さ1μ以上の無電解ニッケルメ
ッキ層20を形成し、この無電解二1.ケルメリキ層2
0上に塩化ニッケル浴を用いて厚さ0..0571以上
の電気工。
ケルメッキ層21を形成し、さらに、この電気ニッケル
メッキ層21上に厚さ1〜2μ程度の銀メケルメッキ層
21は無電解ニッケルメッキ層20の表面を活性化する
ためのものであるから余り厚くする必要はないが、0.
05μ以上ないとピンホールやばらつきにより全面に形
成できない。
メッキ層21上に厚さ1〜2μ程度の銀メケルメッキ層
21は無電解ニッケルメッキ層20の表面を活性化する
ためのものであるから余り厚くする必要はないが、0.
05μ以上ないとピンホールやばらつきにより全面に形
成できない。
上記の構成によれば、銅系の金属ケース本体14に無電
解ニッケルメッキ層20および電気ニッケル774層2
1を介在して銀メ・ツキ層22を形成゛しているので、
高温保管′:qの¥1′価試験や使Jjl状態で100
℃以上の高温に曝されて、全独1ケース本体14の銅が
銀メッキ層22の表面へ拡散滲出することが防止され、
かつしたがって銅の酸化によって、金属ケース19の内
面側では、可動接点7との接触抵抗の増大に起因する内
部抵抗の増大が防止され、外面側では銀メツキ層22表
面の父色による外観不良や表示捺印が不鮮明になるとい
ったことが皆無になる。
解ニッケルメッキ層20および電気ニッケル774層2
1を介在して銀メ・ツキ層22を形成゛しているので、
高温保管′:qの¥1′価試験や使Jjl状態で100
℃以上の高温に曝されて、全独1ケース本体14の銅が
銀メッキ層22の表面へ拡散滲出することが防止され、
かつしたがって銅の酸化によって、金属ケース19の内
面側では、可動接点7との接触抵抗の増大に起因する内
部抵抗の増大が防止され、外面側では銀メツキ層22表
面の父色による外観不良や表示捺印が不鮮明になるとい
ったことが皆無になる。
また、無電解ニッケルメッキ層20の表面を電気ニッケ
ルメ・フキ1#21によって活性化して銀メ7 キ層2
2を形成したので、銀メ・lキ腑22(7)密感温ベレ
ノ1−8の溶融時に可動接点7が円滑に移動する信頼性
の高い温度ヒユーズが得らノ1.る。
ルメ・フキ1#21によって活性化して銀メ7 キ層2
2を形成したので、銀メ・lキ腑22(7)密感温ベレ
ノ1−8の溶融時に可動接点7が円滑に移動する信頼性
の高い温度ヒユーズが得らノ1.る。
第1図は従来の温度ヒユーズの断面図である。
第2図は第1図の温度ヒユーズの動作後の快適を示す断
面図である。 第3図は第1図の温度ヒユーズにおける金属ケースの要
部拡大断面図である。 第4図はこの発明の背景となる温度ヒユーズにおける金
属ケースの要部拡大11ノ1而図である。1第5図はこ
の発明の一実施例のl1fu’t 1.lJヒユーズの
断面図である。 第6図は第5図の温度ヒユーズVこJl、lいらノLる
金属ケースの要部拡大断面図である。 3 ・・・・1さ温ぺ1ノ、1−1 6 ・・・ ・強圧縮ばね、 7 ・・・・・・・可動接点、 8 ・・・・・・絶縁ブッシング、 9 ・・・・・・ リード線、 10・ ・ 固定接点、 11・・−・・・弱圧縮ばね、 14・ ・ 金属ケース本体、 19 ・・・・・金属ケース、 20・・・・・・無電解ニッケルメ・ツキ層、21 ・
・・・電気ニノグルメリキ層、22・ ・・・銀メッキ
層。 第1図 第2図 第3図 14 耶 第5図 図 ]9
面図である。 第3図は第1図の温度ヒユーズにおける金属ケースの要
部拡大断面図である。 第4図はこの発明の背景となる温度ヒユーズにおける金
属ケースの要部拡大11ノ1而図である。1第5図はこ
の発明の一実施例のl1fu’t 1.lJヒユーズの
断面図である。 第6図は第5図の温度ヒユーズVこJl、lいらノLる
金属ケースの要部拡大断面図である。 3 ・・・・1さ温ぺ1ノ、1−1 6 ・・・ ・強圧縮ばね、 7 ・・・・・・・可動接点、 8 ・・・・・・絶縁ブッシング、 9 ・・・・・・ リード線、 10・ ・ 固定接点、 11・・−・・・弱圧縮ばね、 14・ ・ 金属ケース本体、 19 ・・・・・金属ケース、 20・・・・・・無電解ニッケルメ・ツキ層、21 ・
・・・電気ニノグルメリキ層、22・ ・・・銀メッキ
層。 第1図 第2図 第3図 14 耶 第5図 図 ]9
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 金属ケースと、金属ケース内に収容さノしたハぎ/il
Aベレット、強圧縮ばねおよび川!IH# l’!’点
と、金属ケースの開口端を閉塞するX(へ縁ブッシング
と、この絶縁ブッシングを貫通し内力端に1)11記川
動接点と接触する固定接点を備えたI+ −1’線と、
uil ij+、!絶縁ブッシングと可動接点との間に
介在さノ]、た弱1.1: &iばねとを有するものに
おいて、 前記金属ケースが銅系AA本1よりなる金属ケース内体
の表面に無電解ニッケルメッキ層ト、’ilj’、 ’
、xにノケルメ ツキ層とを介して銀メ ツキ層をノし
成したものであることを特徴とするン晶度ヒュース”。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17156983A JPS6063839A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 温度ヒユ−ズ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17156983A JPS6063839A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 温度ヒユ−ズ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6063839A true JPS6063839A (ja) | 1985-04-12 |
JPS6336094B2 JPS6336094B2 (ja) | 1988-07-19 |
Family
ID=15925570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17156983A Granted JPS6063839A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 温度ヒユ−ズ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6063839A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102187421A (zh) * | 2009-11-30 | 2011-09-14 | 宝商株式会社 | 温敏颗粒型温度熔断器 |
WO2022178002A1 (en) * | 2021-02-18 | 2022-08-25 | Therm-O-Disc Incorporated | Thermal cut-off device having a single-sided silver-plated housing |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57190636U (ja) * | 1981-05-28 | 1982-12-03 |
-
1983
- 1983-09-16 JP JP17156983A patent/JPS6063839A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57190636U (ja) * | 1981-05-28 | 1982-12-03 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102187421A (zh) * | 2009-11-30 | 2011-09-14 | 宝商株式会社 | 温敏颗粒型温度熔断器 |
WO2022178002A1 (en) * | 2021-02-18 | 2022-08-25 | Therm-O-Disc Incorporated | Thermal cut-off device having a single-sided silver-plated housing |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6336094B2 (ja) | 1988-07-19 |
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