JPS6063451A - レ−ザ−を利用した表面欠陥検出装置 - Google Patents
レ−ザ−を利用した表面欠陥検出装置Info
- Publication number
- JPS6063451A JPS6063451A JP15528084A JP15528084A JPS6063451A JP S6063451 A JPS6063451 A JP S6063451A JP 15528084 A JP15528084 A JP 15528084A JP 15528084 A JP15528084 A JP 15528084A JP S6063451 A JPS6063451 A JP S6063451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- defect
- measured
- light receiving
- laser
- receiving terminals
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野Ｊ
本発明は、高精度の表面状態が要求される被測定対象物
の非接触による表面欠陥検出装置に関するものである。
の非接触による表面欠陥検出装置に関するものである。
〔発明の背景Ｊ
従来の表面欠陥検出法としては、大欠陥を検出するため
に一般的に行なわれている液体浸透法。
に一般的に行なわれている液体浸透法。
磁気探傷法に加えて、光線干渉法、超音波探傷法といっ
た微小欠陥検出法に至る数多くの方法が提案され、実施
されている。
た微小欠陥検出法に至る数多くの方法が提案され、実施
されている。
しかしながら、非接触で、かつ、高精度の欠陥検出を要
求される分野では、測定媒体である光線。
求される分野では、測定媒体である光線。
超音波の収束度の悪さおよび拡散性から、微小欠陥の検
出には不適当であり、充分な検出結果が得られず、また
、光線干渉法では、測定結果を連続記録することができ
ず、超音波探傷法では、検出結果の出力が欠陥大きさと
精閤のよい線形関係を持たないため、欠陥大きさの連続
検出が困難である等の問題がある。
出には不適当であり、充分な検出結果が得られず、また
、光線干渉法では、測定結果を連続記録することができ
ず、超音波探傷法では、検出結果の出力が欠陥大きさと
精閤のよい線形関係を持たないため、欠陥大きさの連続
検出が困難である等の問題がある。
本発明は、高精度の表面状態が要求される被測定対象物
に対し、収束度、直進性のすぐれたレーザー光線を用い
て、非接触で高精度の表面欠陥測定を連続的に行うこと
を目的としたものである。
に対し、収束度、直進性のすぐれたレーザー光線を用い
て、非接触で高精度の表面欠陥測定を連続的に行うこと
を目的としたものである。
〔発明の複製Ｊ
本発明は、対物レンズを介してレーザー光線を被測定物
表面に照射するレーザー発信器と、受光レンズを介して
被測定物で反射されたレーザーブＣＩ％！を受光する２
個の受光端子を設け、被測定物表面の欠陥により生ずる
２個の受光端子の検出単流のビーク値の位相差を検出す
ることによって、欠陥の大きさを被測定物全面にわたっ
て連続的に検出するようにしたものである。
表面に照射するレーザー発信器と、受光レンズを介して
被測定物で反射されたレーザーブＣＩ％！を受光する２
個の受光端子を設け、被測定物表面の欠陥により生ずる
２個の受光端子の検出単流のビーク値の位相差を検出す
ることによって、欠陥の大きさを被測定物全面にわたっ
て連続的に検出するようにしたものである。
〔発明の実施例Ｊ
以下、本発明によるレーザーを利用した表面欠陥検出装
置の一実施例を図面によって説明すると、第１図におい
て、１は被測定物、２は対物レンズ、３は対物レンズ２
を介してレーザー光線４ａを被測定物１表面に照射する
レーザー発信器、６，７は被測定物１で反射されたレー
ザー光線４ｂの反射光軸に対し直角に２個配置され、受
光レンズ５を介して反射されたレーザー光線４ｂを受光
する受光端子、８は被測定物１表面の欠陥であって、レ
ーザー発信器３より発信され、対物レンズ２で収束され
たレーザー光線４ａは被測定物表面に照射され、被測定
物１表面で反射されたレーザー光線４ｂは、受光レンズ
５を介して２個の受光端子６．７に受光される。第２図
は被測定物１の表面に欠陥８がある場合、１個の受光端
子に生ずる電流変化を示す線図である。
置の一実施例を図面によって説明すると、第１図におい
て、１は被測定物、２は対物レンズ、３は対物レンズ２
を介してレーザー光線４ａを被測定物１表面に照射する
レーザー発信器、６，７は被測定物１で反射されたレー
ザー光線４ｂの反射光軸に対し直角に２個配置され、受
光レンズ５を介して反射されたレーザー光線４ｂを受光
する受光端子、８は被測定物１表面の欠陥であって、レ
ーザー発信器３より発信され、対物レンズ２で収束され
たレーザー光線４ａは被測定物表面に照射され、被測定
物１表面で反射されたレーザー光線４ｂは、受光レンズ
５を介して２個の受光端子６．７に受光される。第２図
は被測定物１の表面に欠陥８がある場合、１個の受光端
子に生ずる電流変化を示す線図である。
しかして、装置の走査中に被測定物１の表面に欠陥８が
ない場合には、２個の受光端子６．７に生ずる検出電流
の間における位相のずれはなく、被測定物１の表面に欠
陥８がある場合には、受光端子６．７における検出電流
は第３図に示す如く位相のずれを生ずる。したがって、
第３図に示すように、受光端子６，７の検出電流の差を
とると、欠陥８０個所では電流偏差が線形となり、電流
偏差値および位相ずれの時間により欠陥８の大きさおよ
び欠陥範囲を検出することができる。また、検出結果を
電流変化として出力するため、被測定物１の全面にわた
って連続的に検出することができる。更に、検出電流全
自動制御系に結合することにより、位置合わせ等の自動
制御を行なわせることも可能である。
ない場合には、２個の受光端子６．７に生ずる検出電流
の間における位相のずれはなく、被測定物１の表面に欠
陥８がある場合には、受光端子６．７における検出電流
は第３図に示す如く位相のずれを生ずる。したがって、
第３図に示すように、受光端子６，７の検出電流の差を
とると、欠陥８０個所では電流偏差が線形となり、電流
偏差値および位相ずれの時間により欠陥８の大きさおよ
び欠陥範囲を検出することができる。また、検出結果を
電流変化として出力するため、被測定物１の全面にわた
って連続的に検出することができる。更に、検出電流全
自動制御系に結合することにより、位置合わせ等の自動
制御を行なわせることも可能である。
本発明は以上述べたように、対物レンズを介してレーザ
ー光線を被測定物表面に照射するレーザー発信器と、受
光レンズを介して被測定物で反射されたレーザー光線を
受光する２個の受光端子を設けて、被測定物表面の欠陥
により生ずる２個の受光端子の検出電流の位相ずれを検
出することにより、欠陥の大きさを被測定物全面にわた
って検出するようにしたものであるから、高精度の表面
状態が要求される被測定対象物に対し、非接触で高精度
の表面欠陥測定を連続的に行うことができる０
ー光線を被測定物表面に照射するレーザー発信器と、受
光レンズを介して被測定物で反射されたレーザー光線を
受光する２個の受光端子を設けて、被測定物表面の欠陥
により生ずる２個の受光端子の検出電流の位相ずれを検
出することにより、欠陥の大きさを被測定物全面にわた
って検出するようにしたものであるから、高精度の表面
状態が要求される被測定対象物に対し、非接触で高精度
の表面欠陥測定を連続的に行うことができる０
第１図は本発明によるレーザーを利用した表面欠陥検出
装置の一実施例を示す説明図、第２図（は１個の受光端
子が欠陥検出時に生ずる電流変化を示す線図、第３図は
第２図に示すような特性を持つ２個の受光端子で欠陥検
出した場合の検出電流の位相ずれを示す線図である。 １・・・被測定物、２・・・対物レンズ、３・・・レー
ザー発信器、４ａ、４ｂ・・・レーザー光線、５・・・
受光レンズ、６．７・・・受光端子、８・・・欠陥）ｔ
′１閏 Ｔ２図 ′才３ｔ２１ 第１頁の続き ＠発明者 宣告 啓− 〇発明者後藤 国親 下松市大字東豊井７９４番地 株式会社日立製作所笠戸
工場内
装置の一実施例を示す説明図、第２図（は１個の受光端
子が欠陥検出時に生ずる電流変化を示す線図、第３図は
第２図に示すような特性を持つ２個の受光端子で欠陥検
出した場合の検出電流の位相ずれを示す線図である。 １・・・被測定物、２・・・対物レンズ、３・・・レー
ザー発信器、４ａ、４ｂ・・・レーザー光線、５・・・
受光レンズ、６．７・・・受光端子、８・・・欠陥）ｔ
′１閏 Ｔ２図 ′才３ｔ２１ 第１頁の続き ＠発明者 宣告 啓− 〇発明者後藤 国親 下松市大字東豊井７９４番地 株式会社日立製作所笠戸
工場内
Claims (1)
- １、対物レンズを介してレーザー光線全被測定物表面に
照射するレーザー発信器と、受光レンズを介して被測定
物で反射されたレーザー光線を受光する２個の受光端子
を設けたことを特徴とするレーザーを利用した表面欠陥
検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15528084A JPS6063451A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | レ−ザ−を利用した表面欠陥検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15528084A JPS6063451A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | レ−ザ−を利用した表面欠陥検出装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6063451A true JPS6063451A (ja) | 1985-04-11 |
Family
ID=15602446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15528084A Pending JPS6063451A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | レ−ザ−を利用した表面欠陥検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6063451A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5344236A (en) * | 1992-01-23 | 1994-09-06 | Fishman Iiya M | Method for evaluation of quality of the interface between layer and substrate |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5242136A (en) * | 1975-09-30 | 1977-04-01 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Optical process for detecting seams |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP15528084A patent/JPS6063451A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5242136A (en) * | 1975-09-30 | 1977-04-01 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Optical process for detecting seams |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5344236A (en) * | 1992-01-23 | 1994-09-06 | Fishman Iiya M | Method for evaluation of quality of the interface between layer and substrate |
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