JPS605885A - 希土類金属五燐酸塩基体表面のエツチング方法 - Google Patents
希土類金属五燐酸塩基体表面のエツチング方法Info
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- JPS605885A JPS605885A JP11171383A JP11171383A JPS605885A JP S605885 A JPS605885 A JP S605885A JP 11171383 A JP11171383 A JP 11171383A JP 11171383 A JP11171383 A JP 11171383A JP S605885 A JPS605885 A JP S605885A
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- JP
- Japan
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- crystal
- pentaphosphate
- rare earth
- etching
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/53—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone involving the removal of at least part of the materials of the treated article, e.g. etching, drying of hardened concrete
- C04B41/5338—Etching
- C04B41/5353—Wet etching, e.g. with etchants dissolved in organic solvents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/91—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics involving the removal of part of the materials of the treated articles, e.g. etching
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Weting (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、五1I3−1i酸ネオテ、Iミウム(Nd
P501+)およびそれと同類な材7゛1よりなる基体
表面を化学的にエツチングする方法に関するものである
。
P501+)およびそれと同類な材7゛1よりなる基体
表面を化学的にエツチングする方法に関するものである
。
五坊酸ネオディミウム(Nd I)、0.4)は、Nd
イオンを添加する、今壕でのレーザ材料と異なり、Nd
イオンを結晶0成原子として直接合む新しいタイプの固
体レーザ材料である。1972 tp、五燐酸ネオデイ
ミウム結晶で高効率なレーヤ発振の可能性が報じられて
以来(I EE E Journh ]of Quan
tum ElectroniCs Vnl、 QE−8
1972805p)、レーザ母体結晶や、それをエピタ
キシトル成長させるだめの基板用結晶を目ざして、希土
類金−・ハの五燐酸塩結晶が盛んに開発、育成されて来
た。結晶は希土類金属酸化物と+llB G2試薬を出
発原料とし、それらを耐燐酸性容器中で高温にイ11う
て信酸の脱水的重合反応を起させ、希土グエj金屈イオ
ンを含んだ重合済口λ(ボリメクin r >を生成さ
す形そ育成される。結晶寸法を太きくするためにルツボ
を密封して脱水を抑え、反応、7!E度を遅くしている
。
イオンを添加する、今壕でのレーザ材料と異なり、Nd
イオンを結晶0成原子として直接合む新しいタイプの固
体レーザ材料である。1972 tp、五燐酸ネオデイ
ミウム結晶で高効率なレーヤ発振の可能性が報じられて
以来(I EE E Journh ]of Quan
tum ElectroniCs Vnl、 QE−8
1972805p)、レーザ母体結晶や、それをエピタ
キシトル成長させるだめの基板用結晶を目ざして、希土
類金−・ハの五燐酸塩結晶が盛んに開発、育成されて来
た。結晶は希土類金属酸化物と+llB G2試薬を出
発原料とし、それらを耐燐酸性容器中で高温にイ11う
て信酸の脱水的重合反応を起させ、希土グエj金屈イオ
ンを含んだ重合済口λ(ボリメクin r >を生成さ
す形そ育成される。結晶寸法を太きくするためにルツボ
を密封して脱水を抑え、反応、7!E度を遅くしている
。
しかるに、この水蒸気制御は、重合反応の進行に伴う燐
酸の粘性増加と相侯って重合j!G rat、 、r、
・らの水蒸気の抜けを妨り“、そのために育成結晶中に
水魚気泡を含み易くし、結晶品質の大幅な低下を捷ね〈
結果となる。大型、かつ、高品質な結晶に育成するメヒ
めには、J)’i 酸中での結晶核生成メカニズノ・卦
よび気泡取込みに関連する結晶成育過程の理解が急務で
あり、結晶育成技術の早急な確立が期待されている。
酸の粘性増加と相侯って重合j!G rat、 、r、
・らの水蒸気の抜けを妨り“、そのために育成結晶中に
水魚気泡を含み易くし、結晶品質の大幅な低下を捷ね〈
結果となる。大型、かつ、高品質な結晶に育成するメヒ
めには、J)’i 酸中での結晶核生成メカニズノ・卦
よび気泡取込みに関連する結晶成育過程の理解が急務で
あり、結晶育成技術の早急な確立が期待されている。
化学エツチング(5olid sL+le phyr、
ics VoL 615’p )は、表面加工層の除去
や結晶欠陥観察のだめの有用な技法である。この方法は
結晶格子歪に対し、て極めて感度が高く、結晶中の不純
物や転位空:孔、傾角粒界など結晶育成技術確立の前段
階で遭遇する大力の結晶欠陥に対12て偉力を発揮甲る
。しかるに、この技法の問題点d化学的性り′(の夫々
違う対象結晶に対17て有効に作用するエンチャントを
見つりることで、総てはそれに掛っている。
ics VoL 615’p )は、表面加工層の除去
や結晶欠陥観察のだめの有用な技法である。この方法は
結晶格子歪に対し、て極めて感度が高く、結晶中の不純
物や転位空:孔、傾角粒界など結晶育成技術確立の前段
階で遭遇する大力の結晶欠陥に対12て偉力を発揮甲る
。しかるに、この技法の問題点d化学的性り′(の夫々
違う対象結晶に対17て有効に作用するエンチャントを
見つりることで、総てはそれに掛っている。
五m 敲ネオディミウム(Nd Pr、 014 )
および万fReネオディミウム・インドリウム(N d
x Y I−+rP5014>に対するエンチャントに
は、出発原料の一つである燐酸を250〜300℃で用
いる例が公知であった( Journa、l of C
rystal Grovyth Vol、 3791
p )。
および万fReネオディミウム・インドリウム(N d
x Y I−+rP5014>に対するエンチャントに
は、出発原料の一つである燐酸を250〜300℃で用
いる例が公知であった( Journa、l of C
rystal Grovyth Vol、 3791
p )。
しかし、Fi酸は五σ?化二燐<p、、o、)が捗々の
程度に水化した化合物(P2O,・7LH,O)の混合
体で、加熱によりオルト水酸(P、!0.・3H20)
かC,ピロ燐酸(P2O3・2H20)、メクfHF2
(J)205−JT20 )なδと脱水的に相変化し
、しかも、高温ではそれら数相が共存していて温度によ
ってその割合が変化するという極めて復雑な化合物であ
る。エツチング作用を持つのは、それらの中で主にピロ
燐酸成分と言われている。従って、盾酸試ソj≦(lオ
ル)iE12の85%溶液)を用いるエツチングで”は
、加熱によシ水(H2O)が蒸発してヒロfi敵、°が
生成され、それに伴ってエツチング作用が現れるため、
結晶欠陥観察に不可欠な「エツチング程度の微妙なコン
トロール」がQがしく、別な新しいエッチャントの開発
に対する覇望が大きい。
程度に水化した化合物(P2O,・7LH,O)の混合
体で、加熱によりオルト水酸(P、!0.・3H20)
かC,ピロ燐酸(P2O3・2H20)、メクfHF2
(J)205−JT20 )なδと脱水的に相変化し
、しかも、高温ではそれら数相が共存していて温度によ
ってその割合が変化するという極めて復雑な化合物であ
る。エツチング作用を持つのは、それらの中で主にピロ
燐酸成分と言われている。従って、盾酸試ソj≦(lオ
ル)iE12の85%溶液)を用いるエツチングで”は
、加熱によシ水(H2O)が蒸発してヒロfi敵、°が
生成され、それに伴ってエツチング作用が現れるため、
結晶欠陥観察に不可欠な「エツチング程度の微妙なコン
トロール」がQがしく、別な新しいエッチャントの開発
に対する覇望が大きい。
本発明は以上に鑑みなされたもので、結晶欠陥を観察す
るための新l〜いユーツチャントを提供することを目的
としたものである。以下、本発明について実施例に基づ
き詳π111に説明する。
るための新l〜いユーツチャントを提供することを目的
としたものである。以下、本発明について実施例に基づ
き詳π111に説明する。
エツチングは白金製ビー力を用いて行った3、対象の五
烟敲ネオデイミウム(Nd P2O14)および五燐酸
ランクニウム(La P4O10)結晶基体の表面(性
自然成長面咬グこは0.3μ2n研磨剤仕十げ面でを)
る。用いた試票の中、%’< fj、F (H,、、S
04 )は室温で液4.1ζ、K、 S20.および
弗化水素アンモニウム(NH,iF・l1F)は杭状お
よび石粒状の固体である。
烟敲ネオデイミウム(Nd P2O14)および五燐酸
ランクニウム(La P4O10)結晶基体の表面(性
自然成長面咬グこは0.3μ2n研磨剤仕十げ面でを)
る。用いた試票の中、%’< fj、F (H,、、S
04 )は室温で液4.1ζ、K、 S20.および
弗化水素アンモニウム(NH,iF・l1F)は杭状お
よび石粒状の固体である。
H,、SO,工lチの場合、白金ビー力に注いだ試築中
に結晶基体を沈め、室温から所定の温度迄−檜・湿する
。硫酸(H,S O,)は140〜1.50℃メ゛・た
りて熱分力了によるS06と考えらり、る白煙を発し7
始め、それと共にエツチング動水が現れる。発煙は温度
とともに徴しくなりエツチング速度も増大する。所定の
温度一時間糸旧でエツチングを行った後試砧を捨て、ヒ
−カJ、−」−び基体を冷却、充分水洗の後乾燥する○ 一方、固体試ぞ1らピロ硫酸カリウム(Iぐ、S2O−
1)および弗化水素アンモニラJ、 (NTI、I’i
’・IIF)の3.し合は、白金じ一力の几eこ試セ、
1!を入れて、その上に結晶基体を置き、試Jj名が始
めに融ffr+、、、その溶液中に結晶が浸るようにし
た。所定の温度一時間灸件でエツチングの後 溶融試打
≦を捨てて冷却し、固化した残留試票を温湯で清かl〜
去り、基体を取出して洗浄乾燥する1、 第1図に、五が1酵ネソテ・fミーラムは荀P、 0
、、)結晶の自然面に対する各エッチャントのエツチン
グ速度測定結果を示す。五灯酸ランクニウム(La p
、 o、、)は五燐酸ネオディミウム(Nd i’50
14)と殆ど同じエツチング速度であった。速度の測定
はMfA法に依った西エツチング時間は10分間一定と
し、顕做鏡写真より結晶の表面饋をめ1、前記I EE
E Journal of Quantum Fjec
tronjcs Vol、 QI4汁8805p 19
72による結晶密度3.57−/l:m3を1月いて計
算を行った。実験は溶液を橙はんせずにイ」っだが、攪
はんによ93〜5倍もの工・・ナンノ速度の増加が見ら
れた。 ″ 温度一時間糸件V」、注目する欠陥の71j 0迫や、
希望するエンチバクーンの程度なとにより当然y11な
る。実施例ではエツチング深さ1〜2ノLTnを目安と
して温度一時間の111合わせを選ん六。具体的には五
鱗酸ネメティミウム(N(l 1−% 0.、 ) 4
4晶の(100) 自然成長面をH2S 04でエツチ
ングする場合には、eljえば230″C7分の条件で
、10μm犬の結晶学的でシャープなエッチビットがr
2察され、ビットから結晶内部の気泡に連なる適状欠陥
の存在が確認されfCn 第1−図から明らかな通りこ
の条件は、K2 S20?ては170°07分間、弗化
水素アンモニウム(NII、F・HF)では160℃
7分間で再現される。
に結晶基体を沈め、室温から所定の温度迄−檜・湿する
。硫酸(H,S O,)は140〜1.50℃メ゛・た
りて熱分力了によるS06と考えらり、る白煙を発し7
始め、それと共にエツチング動水が現れる。発煙は温度
とともに徴しくなりエツチング速度も増大する。所定の
温度一時間糸旧でエツチングを行った後試砧を捨て、ヒ
−カJ、−」−び基体を冷却、充分水洗の後乾燥する○ 一方、固体試ぞ1らピロ硫酸カリウム(Iぐ、S2O−
1)および弗化水素アンモニラJ、 (NTI、I’i
’・IIF)の3.し合は、白金じ一力の几eこ試セ、
1!を入れて、その上に結晶基体を置き、試Jj名が始
めに融ffr+、、、その溶液中に結晶が浸るようにし
た。所定の温度一時間灸件でエツチングの後 溶融試打
≦を捨てて冷却し、固化した残留試票を温湯で清かl〜
去り、基体を取出して洗浄乾燥する1、 第1図に、五が1酵ネソテ・fミーラムは荀P、 0
、、)結晶の自然面に対する各エッチャントのエツチン
グ速度測定結果を示す。五灯酸ランクニウム(La p
、 o、、)は五燐酸ネオディミウム(Nd i’50
14)と殆ど同じエツチング速度であった。速度の測定
はMfA法に依った西エツチング時間は10分間一定と
し、顕做鏡写真より結晶の表面饋をめ1、前記I EE
E Journal of Quantum Fjec
tronjcs Vol、 QI4汁8805p 19
72による結晶密度3.57−/l:m3を1月いて計
算を行った。実験は溶液を橙はんせずにイ」っだが、攪
はんによ93〜5倍もの工・・ナンノ速度の増加が見ら
れた。 ″ 温度一時間糸件V」、注目する欠陥の71j 0迫や、
希望するエンチバクーンの程度なとにより当然y11な
る。実施例ではエツチング深さ1〜2ノLTnを目安と
して温度一時間の111合わせを選ん六。具体的には五
鱗酸ネメティミウム(N(l 1−% 0.、 ) 4
4晶の(100) 自然成長面をH2S 04でエツチ
ングする場合には、eljえば230″C7分の条件で
、10μm犬の結晶学的でシャープなエッチビットがr
2察され、ビットから結晶内部の気泡に連なる適状欠陥
の存在が確認されfCn 第1−図から明らかな通りこ
の条件は、K2 S20?ては170°07分間、弗化
水素アンモニウム(NII、F・HF)では160℃
7分間で再現される。
1、以上説明したように、本発明はエンチング技法゛を
用いて宿生頷金属五p・〒醒」−イ、X基体を評価する
に有効な、新しいエソナヤントを提供するもの:。
用いて宿生頷金属五p・〒醒」−イ、X基体を評価する
に有効な、新しいエソナヤントを提供するもの:。
士ある。
第1図は本発明の宿生117i金ス・1五灯酸隼基体表
面のエツチング方法によるエツチング速度の測定結果を
説すJするだめの図である。 指定代理人 電子技術総合研究所長 等々カフ1図 Temperature (’C)
面のエツチング方法によるエツチング速度の測定結果を
説すJするだめの図である。 指定代理人 電子技術総合研究所長 等々カフ1図 Temperature (’C)
Claims (1)
- 五燐酸ネオデイミウム、五灯口?ランクニウムおよび該
五Wiffネオテイミウム、五fileランクニウムと
同類の希土類金属五ガ′Fら′すjλよシなる基(、表
面を化学的にエツチングする方法において、硫酸寸たは
ピロ硫酸カリウム贅たは仰化水素アシモーウムを夫h
12(1〜250℃、210〜250℃、1.10〜2
00℃の温度範囲で前記’lu体と接触さぜることをq
″f徴とする希土ジ]金[(五燈口?塩基体表面のエツ
チング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11171383A JPS605885A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 希土類金属五燐酸塩基体表面のエツチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11171383A JPS605885A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 希土類金属五燐酸塩基体表面のエツチング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS605885A true JPS605885A (ja) | 1985-01-12 |
JPS6217035B2 JPS6217035B2 (ja) | 1987-04-15 |
Family
ID=14568271
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11171383A Granted JPS605885A (ja) | 1983-06-21 | 1983-06-21 | 希土類金属五燐酸塩基体表面のエツチング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS605885A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104498953A (zh) * | 2014-12-09 | 2015-04-08 | 西北稀有金属材料研究院 | 一种铍材表面化铣处理用化铣液及化铣处理方法 |
CN111171820A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-19 | 华南师范大学 | 一种稀土氟化物上转换纳米晶体的刻蚀方法 |
-
1983
- 1983-06-21 JP JP11171383A patent/JPS605885A/ja active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104498953A (zh) * | 2014-12-09 | 2015-04-08 | 西北稀有金属材料研究院 | 一种铍材表面化铣处理用化铣液及化铣处理方法 |
CN111171820A (zh) * | 2019-12-23 | 2020-05-19 | 华南师范大学 | 一种稀土氟化物上转换纳米晶体的刻蚀方法 |
CN111171820B (zh) * | 2019-12-23 | 2021-12-21 | 华南师范大学 | 一种稀土氟化物上转换纳米晶体的刻蚀方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6217035B2 (ja) | 1987-04-15 |
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