JPS605522A - レチクルの検査方法 - Google Patents

レチクルの検査方法

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JPS605522A JP58113230A JP11323083A JPS605522A JP S605522 A JPS605522 A JP S605522A JP 58113230 A JP58113230 A JP 58113230A JP 11323083 A JP11323083 A JP 11323083A JP S605522 A JPS605522 A JP S605522A
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正五 松井
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    • G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （ａｌ　発明の技術分野 本発明は、レチクルの検査方法に係り、特に、データベ
ースとの比較で検査する方法に関す。
（ｂ）　技術の背景 半導体装置の高集積化等に伴い、ウェハプロセスで使用
されるフォトマスクはパターンが微細化・高集積化して
、その品質確保が一段と重要になってきている。
このフォトマスクの製造工程前段において製造されるレ
チクルのパターンは、該フォトマスクのパターンの基盤
になるもので、欠陥の存在が許されない。
このため、レチクルパターンの検査には、近年、設計値
をデータベースとして、例えば磁気テープに収録し、レ
チクルテスターを使用して、該パターンを直接該データ
ベースと比較する方式が採用されるようになった。
ｆｃ）　従来技術と問題点 第１図はレチクルの一例の平面図、第２図は従来のレチ
クルテスターの主要部構成図で、１はレチクル、２ａ・
２ｂ・３はパターン、４は走査線、５ばＸＹステージ、
６は制御回路、７はカメラ、８は変換回路、９は磁気テ
ープ、１０は変換回路、１１は比較回路、１２はメモリ
をそれぞれ示す。
第１図のレチクル１は、その表面に、全く同一の２個の
パターン２ａ・２ｂが横に並んで形成され、その周囲に
別のパターン３が形成されている。このレチクル１をデ
ータベースとの比較で検査するには、レチクル１のパタ
ーン２ａ・２ｂ・３が形成されている面において、該面
を例えば左から右へ（Ｘ方向に）観察点が走査してなる
走査線４が例えば」二から下へ（Ｙ方向に）順次移動し
てレチクル１の全面を覆い、走査線４に沿って走査する
観察点におりる遮光膜の有無を光学的信号で捕らえ、該
信号を予め用意されたデータベースと比較する、第２図
の構成でなるレチクルテスターを使用して行う。
ＸＹステージ５に載置されたレチクル１のパターン２ａ
・２ｂ・３形成面は、制御回路６に制御されるＸＹステ
ージ５およびカメラ７の作動により、前記のように走査
線４で覆われ、走査線４に沿って走査する前記観察点の
前記光学的信号は、カメラ７および変換回路８を経て影
像信号となり比較回路１１に入る。一方、設計値による
データベースを収録しである磁気テープ９からの信号は
変換回路１０により比較の基準となる影像信号に変換さ
れて比較回路１１に入るので、画形像信号が比較されて
、差がなりれば良、差があれば不良と判定し、１′す定
信号が制御回路６からのレチクル１における位置信号と
共にメモリＪ２に記１．σされて検査結果となる。
このレチクルテスターの構成によれば、走査線４で覆わ
れる全てのパターン、第１図で云うならば斜線を入れた
パターン２ａ・２ｂ・３が検査対象になるため、レチク
ルのパターンか１故♀■になると、データベースの情ｌ
ｌ３ｆｆｉが多くなり、所要の磁気テープの長さが大に
なってくる。」′導体装置の高集積化等によるレチクル
パターンの微♀１■化が高度に進展してきている現状に
おいて、データベースは、これに対応して情報量が増加
し、今や、従来の検査方法では、磁気テープ９にそのデ
ータベースを収容しきれない欠点が生してきた。
ｆｄｌ　発明の目的 本発明の目的は上記従来の欠点に鑑み、従来の磁気テー
プに収容可能な情報量のデータベースて、パターンが微
細化されたレチクルの検査を可能にする検査方法を提供
するにある。
（ｅｌ　発明の構成 上記目的は、複数個の同一パターンを有するレチクルを
、データベースとの比較で検査する際、該パターンの、
少な（とも−個以上を検査対象とし、少なくとも一個以
」二を検査対象から除外する本発明の構成によって達成
される。
パターンの微細化に裏付けられた高集積化では、半導体
素子のパターンのなかに同一パターンが複数個形成され
ているのが一般であり、また、パターンの微細化に裏付
けられて半導体素子が小型化した場合は、一つのレチク
ルのなかに該半導体素子のパターンが複数個形成される
ことが多い。
この点に着目し、複数個ある同一パターンのうち、幾つ
かのパターンを検査対象から除外することにより、除外
されたパターンに対応するデータベースの情報を削減す
ることが出来て、所要のデータベースを従来の磁気テー
プに収容することが可能になる。
当然のことながら、前記複数個ある同一パターンののう
ち、少なくとも一個は検査対象にしておく必要がある。
検査対象から除外されたパターンは、別途マスク比較検
査装置により前記検査対象となったパターンと比較検査
することによって、レチクルのパターン検査を完結させ
ることか出来″る。
（ｆｌ　発明の実施例 以下本発明の実施例を図により説明する。企図を通じ同
一符号は同一対象物を示す。
第３図は第１図のレチクルで本発明による検査方法を説
明する図、第４図は本発明によるレチクルテスターの主
要部構成図で、６ａは制御回路、１１ａは比較回路、１
３ば検査除外範囲設定回路、Ｐ・Ｑは検査除外範囲指定
座標をそれぞれ示す。
第３図において、前述の通り２ａと２ｂは同一の）ｉタ
ーンで横に並んでいる。従って、パターン２１］を前記
マスク比較検査装置によってパターン２ａと比較検査す
ることにすれば、し・チクルテスターではパターン２ｂ
の検査を除外すること力咄果て、磁気テープ９に収録す
るデータベースの情報量は、ノくターン２ｂに対応した
分が減少し、♀゛１線を入れηツクターン２ａ・３の情
報だけでよい千となる。かくして、磁気テープ９の収容
能力を越えていた情ｆ’１Ｊｆｆｉを収容可能な情報量
にすることが出来る。
パターン２ｂの検査除外は、レチクル１のパターン２ａ
・２ｂ・３形成面にお＆）Ｉる検査除外範囲指定座標Ｐ
　（Ｘ＋、　Ｙｌ）とＱ　ＣＸλ、Ｙｌ）の二点を指定
して、座標（Ｘ＋、　Ｙｔ）　・（Ｘｚ、　Ｙｔ）　・
Ｏｂ、　Ｙｚ）　・（Ｘ＋。
Ｙｌ）の四点で囲まれた範囲（第３図では破線で図示）
を検査除外領域とすることにより可能になる。
第４図は」二記検査除外を実施することが出来るレチク
ルテスターの主要部構成を示す。検査除外範囲設定回路
１３に検査除外範囲指定座標Ｐ−Ｑの値が設定されると
、走査線４に沿って走査する観察点か前記検査除外領域
にある間、制御回路６．］から比較回路ＩＬａに比較（
・−（正信号を送り、比較回路１１は二つの影像伯！−
の比較を停止するようになっている。その他の構成およ
び機能は、第２図と同様であって、前記検査除外領域を
除いた部分の検査結果はメモリ１２乙こ記憶される。
（ｇ＋　発明の効果 以１　ａｄ＝説明したように、本発明による構成によれ
ば、従来の磁気テープに収容可能な情ｙＨＨｙＨのデ〜
タヘースで、パターンがｆ＆　ｉｍ化された【／チクル
の検査を可能にする検査方法か提供出来、従来のレチク
ル全面を検査する方法では、そのためのｙ−タヘースの
情報量が磁気テープの収容能力を越えるため、レチクル
テスターが使用出来ない場合であっても、本発明の検査
方法によりレチクルテスターを使用した能率良い確実な
検査を可能にさせる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図はレチクルの一例の平面図、第２図は従来のレチ
クルテスターの主要部構成図、第３図は第１図のレチク
ルで本発明による検査方法を説明する図、第４図は本発
明によるレチクルテスターの主要部構成図である。 図面において、１はレチクル、２ａ・２ｂ・３はパター
ン、４は走査線、５はｘｙステージ、６・６ａは制御回
路、７はカメラ、８は変換回路、９は磁気テープ、１０
は変換回路、１１・Ｉｌａは比較回路、１２はメモリ、
１３は検査除外範囲設定回路、Ｐ・Ｑは検査除外範囲指
定座標をそれぞれ示す。 第　１　目 卑　２　臼 案　３１ ／ 茅　４−　図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 複数個の同一パターンを有するレチクルを、データベー
    スとの比較で検査する際、該パターンの、少なくとも一
    個以上を検査対象とし、少なくとも一個以上を検査対象
    から除外することを特徴とするレチクルの検査方法。
JP11323083A 1983-06-23 1983-06-23 レチクルの検査方法 Expired - Lifetime JPH0750664B2 (ja)

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