JPS6053281B2 - エネルギ高反射金属裏面鏡 - Google Patents

エネルギ高反射金属裏面鏡

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Publication number
JPS6053281B2
JPS6053281B2 JP50087783A JP8778375A JPS6053281B2 JP S6053281 B2 JPS6053281 B2 JP S6053281B2 JP 50087783 A JP50087783 A JP 50087783A JP 8778375 A JP8778375 A JP 8778375A JP S6053281 B2 JPS6053281 B2 JP S6053281B2
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JP
Japan
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film
reflectance
mirror
back mirror
refractive index
Prior art date
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Expired
Application number
JP50087783A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5211048A (en
Inventor
三郎 田畑
遼治 真壁
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP50087783A priority Critical patent/JPS6053281B2/ja
Publication of JPS5211048A publication Critical patent/JPS5211048A/ja
Publication of JPS6053281B2 publication Critical patent/JPS6053281B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 銀鏡反応あるいは真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンビーム蒸着法など薄膜表面処理法によりアルミニウ
ム、銀膜等で作つた鏡面は、透明基板を透して裏面から
の光の反射を利用する耐久性に優れた裏面鏡として賞用
されている。
しカルながら、これらの反射鏡は、直接反射面からの
光の反射を利用する表面鏡に比較してより低い反射率で
使用しているので高能率なエネルギ反射鏡とはいえない
いま、真空蒸着法によつて作製したアルミニウム膜の
分光反射率を表面鏡、つまり入射媒質が空気(へ=1)
の場合の鏡と、裏面鏡つまり入射媒質の透明基板はガラ
スあるいはプラスチック等が用いられるので屈折率の平
均値としてはno■1.6を選んだ鏡とについて比較す
ると、最高視感度の波長560mμでの裏面鏡の反射率
は表面鏡のそれど比較して約4%、また、近赤外領域で
アルミニウム鏡が本来持つている反射極少値の波長82
5mμにおける反射率と比べて約7%低い値となる。
こゝで本発明によれば反射鏡に真空蒸着法によつて作
製したアルミニウム膜を選び、この反射膜と透明基板と
の間に透明基板の屈折率より低い透明薄膜を中間層とし
て設けることにより裏面鏡の反射率を増強させ表面鏡の
反射率値に近づけることが可能となる。 いま、透明基
板の屈折率1.6を入射媒質の屈折率(no)とし中間
層の屈折率(n、)が1.27から2.4までの数値の
物質を用いて、屈折率を横軸で表わし各中心波長(λ。
)に対して最大反射率が得られるよう、その光学的膜厚
を規定した場合の反射率を縦軸で表わした結果を第1図
に示す。図に示したところから、いずれの波長に対して
も中間層の屈折率を透明基板の屈折率に比較して可及的
低い値に選べばより大きい最大反射率を得ることが明ら
かであり、これが透明な低屈折率膜を選ぶ第一の理由で
ある。 中間層の屈折率が透明基板の屈折率より小さい
ことが望ましい第2の理由として、増反射効果を示す膜
厚の範囲は反射減少効果を示す膜厚範囲に比較して大き
い。
つまり、低屈折率の膜は反射増強を維持する膜厚の許容
条件がゆるやかな特徴がある。これに反して中間層の屈
折率が透明基板のそれよりに大きい場合最大反射率も小
さく、また、反射増強を維持する膜厚の許容範囲が狭い
。したがつてこの場合は反射増強膜として不適当である
。それらの効果を第2図に示す。図は横軸に中心波長(
λ。)を578n1μとして規定した中間層の光学的膜
厚を位相角で表わし、これに対応する反射率を中間層の
各々の屈折率について得た結果である。87.2%の反
射率を与える基準線はn1=1.6.つまり中間層のな
い場合であり、比較的広い膜厚範囲より高い最大反射率
を維持する薄膜は屈折率がn1=1.27の場合である
裏面鏡の応用例として太陽光反射鏡がある。
太陽輻射エネルギは波長500n1μに最大エネルギ分
布をなし、0.3μ〜3μの波長範囲でそのエネルギ分
布の97%を占めている。この際の反射面は主として真
空蒸着法による不透明アルミニウム膜が用いられるが、
太陽輻射エネルギ変換器の反射面としてはその輻射エネ
ルギ分布に適合した高能率の反射鏡としなければならな
い。しかしながら、アルミニウム膜には固有の近赤外領
域の波長825rnμで反射極小値を示す性質があるこ
と、さらに太陽輻射エネルギ分布が波長500n1μに
最大値があることを考慮して裏面鏡の反射面の分光反射
率を調整しなければならない。いま、透明な中間層の光
学的膜厚が中心波長(λo)850mμに対して規定さ
れるときの分光反射率を第3図の曲線aに示す。
また中間層を設けない単なる裏面鏡のそれを曲線bに示
す。曲線aは曲線bに比較して450mμ〜950rr
1μの波長範囲−で反射増強効果があり、特に波長82
5rr1μにおいて約5%反射率が増加する。このよう
に、透明な中間層によるアルミニウム膜の増反射効果は
その層の屈折率(n1)が透明基板のそれに比較して可
及的小さいことが望まし.く、実用的には真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンビーム蒸着法等の薄膜製造法
によつて作製したアルミニウム膜と弗化マグネシウム(
MgF′2)膜の組合せ、同じく弗化ナトリウム(Na
F)膜あるいは氷晶石(Na2AIF8)膜等の組合=
せが適していて、さらに中間層の光学的膜厚はアルミニ
ウム膜の反射極小値を示す波長域で決まる中心波長(λ
)で規定する値でなければならない。更に本発明の裏面
鏡は、不透明金属反射面を銀、ロジウム膜に置き換えて
応用することも可能である。
以上述べたように本発明によれば、透明基板とアルミニ
ウム反射膜との間に中間膜として金属フッ化物の透明膜
を設けて三層積層構造としたので、透明基板と金属フッ
化物の透明膜との間の光の干渉作用が起り、この結果可
視光から赤外光に至る波長範囲の光を反射することがで
きる。
すなわち、可視光領域から赤外光領域に至る広い波長範
囲で反射率を入射光の90%近傍にまで増大させること
ができ、この波長域は太陽輻射エネルギー分布の97%
を占めることから太陽輻射エネルギーの高反射裏面鏡が
提供される。また、アルミニウム反射鏡が本質的に有す
る波長825mμにおける反射率極少値を約5%高める
ことができる。
更に本発明の裏面鏡は上記のように透明基板とアルミニ
ウム反射膜とも間に金属フッ化物透明膜を介在させただ
けなろで、構造が簡単であり、製造が容易である。
かかる本発明の裏面鏡は、太陽エネルギー変換用反射鏡
のみならず交通標識用反射鏡、および家庭用鏡としても
用いることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は中間層の屈折率fと、アルミニウム裏面鏡の反
射率との関係を示す図、第2図は中間層の光学的膜厚と
、アルミニウム裏面鏡の反射率との関係を示す図、第3
図は本発明の裏面鏡と、中間層を設けない裏面鏡におけ
る入射光波長と反射率との関係を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 透明基板とアルミニウム反射膜とからなる裏面鏡に
    おいて、前記透明基板と前記アルミニウム反射膜との間
    に前記透明基板よりも低い屈折率を有する金属フッ化物
    の透明膜を密着して設けて可視光から赤外光に至る光を
    反射するようにしたことを特徴とする裏面鏡。
JP50087783A 1975-07-16 1975-07-16 エネルギ高反射金属裏面鏡 Expired JPS6053281B2 (ja)

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JP50087783A JPS6053281B2 (ja) 1975-07-16 1975-07-16 エネルギ高反射金属裏面鏡

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JPS5211048A JPS5211048A (en) 1977-01-27
JPS6053281B2 true JPS6053281B2 (ja) 1985-11-25

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JPH0515916Y2 (ja) * 1988-12-05 1993-04-26

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JP2016018151A (ja) * 2014-07-10 2016-02-01 イビデン株式会社 ミラー

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5086357A (ja) * 1973-11-29 1975-07-11

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