JPS6052852A - 露光量制御装置の較正方法 - Google Patents

露光量制御装置の較正方法

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JPS6052852A
JPS6052852A JP58160542A JP16054283A JPS6052852A JP S6052852 A JPS6052852 A JP S6052852A JP 58160542 A JP58160542 A JP 58160542A JP 16054283 A JP16054283 A JP 16054283A JP S6052852 A JPS6052852 A JP S6052852A
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photoelectric
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隆 中村
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/7055Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
    • GPHYSICS
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    • G03F7/70558Dose control, i.e. achievement of a desired dose

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は例えばウェハまたはフォトマスク上にパターン
を露光するための露光量制御1装解に関するものでらる
(発明の背景) 近年、半導体素子特にIC製造においては、回路パター
ンの微細化が要求され、ウニ/・上に1μm以下の飽幅
を有するパターンを焼付ける装置、いわゆる露光装置も
ウェハ上に塗布された感光材料(フォトレジスト)に常
に一定の露光量、を与えることが望ましく、このため高
精度な露光制御が望まれてきノこ。
第1図にウニノ\又はフォトマスクVC回貼ノ(ターン
の11!を無光する露光装置の概略を示す。
第1図において、露光用の光源、例えば木端ランプ1の
光が集光レンズ2によって集光された後、シャッターと
なる回転板6を介して、コンデンサーレンズ5、投影レ
ンズ8をへて、ウニノー9(フォトマスクでもよい。)
に至るような、投影式の露光装置を示す。(その他の方
式の露光装置でも同様である。)回転板6は、例えば4
分割して、遮光部と透過部を交互に設け、回転駆動機枯
、例えばパルスモータ−4によって回転され、ロータリ
ーシャッターとして働く。回路パターンを有するガラス
基板7(レティクルやフォトマスク)は、コンデンサー
レンズ5と投影レンズ80間に配置され、ガラス基板7
のパターンがウニノ)9の上に結像する。又、光検出器
6は、光源の光強度を測定するための光1E変換素子で
あυ、シャッターを経た光を測光し、その出力は雑光制
御のために使われる。このような装置では、機構上シャ
ッターの開閉動作時間が長く、数m 5ec−〜数10
m5ecに及び。また、露光動作に伴う光強度(検出器
6で検出した値、又はウニノ・9上で測定した値)の変
化を鮪2図に示す。第2図で、横軸に露光時間、縦軸に
光強度を増り、台形状の折線AとBは、光源のランプの
劣化によるちがいを表わす。ランプが新しく、光強度が
大きいと、折線Aのように、またランプが劣化して光強
度が小さくなると折線Bのように露光時間が長くなる。
尚、台J杉の上底部すなわちシャッターの全開時の光強
度をLNll、0とする。このように、台形状の光強度
特性を有するのは、シャッターの開閉動作時間に基いて
いる。これは、第1図で示したような回転板6が1/4
回転する時間によって生じるものである。
回転板3の遮光部が光をさえぎっている状態から、回転
板6が1/4回転して、光を完全に透過する状態までに
かかる時間(シャッター開放時間)は、第2図アは時間
ta t□である。尚、回転板3の回転開始時をt。と
じである。そして、時間(ta−to)が経過後、回転
板6を光が完全に透過する(このことを、以稜シャッタ
ー全開と呼ぶ。)ので、光強度LN、又はLoとして安
定する。そして、所定の露光時間後、すなわちtb又は
時刻tdから回転板3がさらに174回転して、遮光部
によって光がさえぎられる。光が完全に遮光される時刻
け、時刻tc、又はt。である。尚、シャッターの構造
上、開放動作時間と、閉成動作時間はほぼ等しいので、
時間(tc −tb)と時間(to −ta)は共に等
しく、かつ時間(ta−to)ともほぼ等しくなる。
この光強度特性に示したように、普通このような装置で
は、露光l°を一定にするため、ランプの明るさに応じ
て露光時間を変えている。この従来の産米制御について
、第3図にょシ説明する。第3図において、光電検出器
6の光電出力は増幅器11によって増幅された後、抵抗
12、コンデンサー14、増幅器13による積分器に大
刀する。
積分器の出力が、露光量に比例した値、いわゆる光!積
分値である。この積分器の出力は、比較器15によって
、あらかじめ定めた目標値を示す基準電圧Eaと比較さ
れる。一方、フリップフロップ回路16は、露光動作の
開始時点でセットされ、シャッター駆動回路17によっ
て、モーター尋を駆動してシャッターを開く。シャッタ
ーが開いた後、上述の如く光量積分値が基準電圧E8に
達すると、比較器15の出力が反転してフリップ7゜ツ
ブ回路16がリセットされる。とのリセットによシ、駆
動回路17は、モーター等をさらに回転して、シャッタ
ーを閉じる。こうして、ランプの明るさが変わっても光
量積分値が、一定値になるように、シャッターは制御さ
れる。ここで、その時の露光量を第4図のグラフに示す
。第4図のグラフで横軸に第2図と同一の時間軸を取シ
、縦軸に露光量・、すなわち光f積分値を取る。露光開
始時toから時刻taまでは、第2図のように、シャッ
ターの開放動作時間であシ、光量積分値はなだらかに上
昇していく。時刻taから時刻t5、又は時刻tdまで
は、シャッター全開期間である。尚、AとBは第2図で
示したように、光源の光強度が大きいときと、小さいと
きを示す。そしてA1又はBの光漏・積分値が基準電圧
E8に達すると、シャッター閉じ動作が始まる。しかし
ながら、シャッターが完全に閉じるまでの時間(tc−
t、λ又は(te−td)にも、無光されることになシ
、その結果総産米廿はgol又はEo’となシ、所定の
目標値E よりも(Eo−gs)、又は(Eo’−Es
)だけ超過することになる。
光源の光強度が常に一定であれば超過分を予測して、総
産米ニー″を決定できるが、実際には、ランプの劣イに
に伴い光源の明るさは大きく変化する。
従って、第4図に示したように、時間(tc−tb)と
時間(te ta)は同じでも、超過分は変化してし擾
う。この超過分の変化(Eo −E O’ ) ” ’
光源の光強反が小さく、露光時間が十分に長い場合には
無視できる。しかし、光源の光強度が大きくなり、全露
光9中に占める、シャッターの閉じ動作時間中の露光量
の割合が大きくなった場合、超過分の変化(Ho−EO
l )による総露光量の変動は重要な問題となる。一般
に、露光量の制御として、総産米せの変動は数チ以下が
必要とされるが、上述の従来の露光装置では、超過分に
対する配慮がなされていないので、長期間に渡って、安
定した露光量を得ることができない欠点を有していた。
この欠点を解決するため、特開昭57−71132号公
報や特開昭57−101839号公報に開示されている
ように、シャッタ閉成動作の遅れによる超過露光上を計
1111 L 、シャッタ閉成動作の開始時間を補正す
る制御が考えられている。
この補正制御をアナログ的に行なう場合は回路規模も小
さく簡単であるが、積分器や補正量を記憶するコンデン
サ等に高精度な部品を必要とし高価になるとともに、繰
返し長期間の露光に対してはコンデンサのリーク等が問
題となシ正確な補正が望めなくなる。さらに、この場合
は測光のダイナミックレンジが狭く、光源の輝度が大幅
に変化することに対しても不利。、である。
他方、この補正制御をデジタル的に行う場合は、露光強
度に応じた光電信号を電圧/周波数変換器によってパル
ス化し、そのパルスを計数するカウンタ等の他に補正タ
イマ、補正カウンタ等が必要となり回路規模はアナログ
方式よシ大きく’lる欠点があった。
(発明の目的) 本発明はこれらの欠点を解決し、補正手段が不要で、簡
単安価で69、さらに高速駆動に対応できる露光制御手
段を得ることを目的とするものである。
(発明の概4!Iり 本発明の露光量制御装置は感光物を露光するための光源
からの露光光を透過及び遮断するシャッタと、側光手段
と、露光制御手段とを有する。
測光手段は光源からの光をシャッタの動作とは門係なく
受光し、その光強度に応じた光電信号を出力する。露光
制御手段はシャッタの開放動作の開始に応答して、測光
手段からの光電信号よシ光せを検出し、この検出した光
量が感光物の所定露光量に達したときにシャッタの閉成
動作を開始させることにより露光l′の制御を行う。
(実施例) 次に本発明を実5施例に基いて説明する。第5図は本発
明の露光量制御装置の一実施例を示す。第5図において
、滑出反射鏡20の第1焦点位置に設けられた光源1か
らの光は+N円反射潴20によって集光され、その集光
点である第2焦点位置に設けたシャッタ6を介して第1
のコンデンサレンズ21を通り平行光束とされ、フライ
アン・レンズ叫ヲ用いたオグチカル・インチクレータ2
2をm、?、第2のコンデンサレンズ5、回路パターン
を有するガラス基板7、投影レンズ8を通ってウェハ9
の上に露光される。尚、第2のコンデンサ・レンズ5に
全る光路中には、k′6光波長の光をほぼ全て透過する
干渉フィルターが設けられている。
測光手段は光電検出器6及びフィルタ26からなシ、露
光用の光軸tからけずれた位置に設けられ、光源1から
の光を直接受光し、その光強度に応じた光電信号を露光
制御手段24に出力する。
シャッタ3は露光光の光軸tに対して45″傾いて配置
され、シ、ヤッタ3で反射する光は、装置の7ライメン
ト用の顕微鏡等の照明光としても利用されるが、シャッ
タ6で反射する光が逆走して光電検出器6に入射するこ
とによって生じる光電信号の誤差を防ぐ利点もある。第
6図はシャッタ3の詳細図、ボア図は第6図に示したシ
ャッタ6のシャッタブレードの形状の平面図を示す。第
6図に示す如く、シャッタ6は表側の反射板30に反射
板6【]より直径が大きい遮光性の越光板31をはり合
わせて々シ、第7図に示すように4枚のブレード部6a
と4個所の切欠き部3bとが円周方向に等分割に形成さ
れている。趣光板61の各ブレード部6aの一部にはス
リット開口31bが90度の角度で4個設けられている
。このスリット開口31bFJ:シャッタ3のブレード
部6&位置を検出するだめに設けられたステータス・マ
ークである。すなわちシャッタ6の裏側に設けられた投
光器25からシャッタ3に照射された光がスリット開口
31bを介して反射板60の裏面で反射し、受光器26
に入射することによシシャツタ3のブレード部6aの位
置を検出する。このシャッタ3けパルスモータ4によっ
て角度0すなワチ1/8回転することによって開放及び
閉成動作を行う。
このシャッタ3の開閉動作とは間係なく測光手段をシャ
ッタ3の前段に配置した本発明の作用について第8図及
び第9図を用いて説明する。第8図、−n9図において
(イ)!/i、シャッタ6の開放動作開始後、開成動作
完了までの光量積分値を示し、Cは光電検出器6におけ
る光量積分値、Dはウェハ9における光量積分値を示す
。(ロ)はウェハ9における露光の光強度分布、(ハ)
は光電検出器乙の光強度分布を示す。なお第8図はラン
プが新しく、光強度が大きい場合、第9図はランプが劣
化して、光強度が小さくなった場合を示す。
第8図、棺9図(イ)に糸す如く、シャッタ6の開放動
作開始と同時toに光電検出器乙の出力が積分され、こ
の光量積分値が露光搦目標値に相当する基準電圧E8に
達した時点tb又はt(1でシャッタ3の閉成動作を開
始する。このtb又はtd時にウェハ9面での実際の露
光量の積分値は基準電圧E8に対して、わずかに不足し
ているがシャッタ3の閉成完了時tc又はteまでの露
光量が、この不足分に対応している。すなわちシャッタ
3としてロータリ・シャッタを用いることによって、シ
ャッタHト1放時の作動遅れ(ta to)と閉成時の
作動遅れ(tc’tb)又は(te−ta)とが等しい
という特性を利用して、シャッタ開放の作動遅れにより
ウエノ19面での実際の露光I°不足をシャッタ閉成時
の作動遅れによる露光分で補っている。したがって露光
強度、シャッタ駆動時間によらず、目標とする露光量に
対して高精度の制御を行うことができる。
このh光電の制御を行なう本実施例の露光制御手段24
のブロック図を第10図に示す。第10図において10
0け光電検出器6の光電信号を増巾〔7、電圧信号SI
、として出力するアンプである。101はアンプ100
からの電圧信号Slをパルス信号S2に変換する電圧/
周波数変換器である。102はこの)くルス信号Ss 
全計数し比較器104に光1゛計数値S4を出力するカ
ウンタである。カウンタ102で計数された光量計数値
S4はシャッタ開放開始時にマイクロコンピュータ(C
PU)103のクリア信号S3によって零に戻される。
105け目標値セットレジスタで、CPU103からの
セット信号S7を入力し、比較器104に適正嗣光せに
相当するパルス数85を出力する。比較器104はこの
パルス数Ssとカウンタ102からの光量組数値S4を
比較し、これらの値が一致した場合シャッタ閉じ信号S
6をCPU103に出力する。106はシャッタ3を回
転するパルスモータ4のドライブ回路である。なお10
7けシャッタ6の後部に配置され受光器24の出力信号
を増幅し、光電信号Sseコンパレータ108に出力す
る増幅器であり、コンパレータ108はこの光電信号S
8を入力して、CPU103にステータス信号S9を出
力する。
次に、第10図に示した露光制御手段24の動作を説明
する。第11図及び第12図はCPU103に含まれる
プログラムのフローチャートであり、第11図は本実施
例の無光1、制御装齢の電源投入時のイニシャライズ・
プログラムに含まれるシャッタ3の初期位瞳セットのた
めのサブ・ルーチン化したフローチャート、第11図は
露光動作のためのザブ・ルーチン化したフローチャート
である。
露光1制御淋置の電源投入時にはシャッタ6のブレード
部6aが任意の位置に凌)るため、ブレード部6aの位
置決めを行う必要がある。第10図において、露光1制
御淋置の電源が投入されるとCPU103はステップ2
00でシャッタ3が角度2θすなわち90度向回転るた
めに必要なパルスpN2eのモータ駆動データShoを
ドライブ回路106に出力し、パルスモータ4はドライ
ブ回路106によ多制御され低速回転を開始する。なお
Nは単位角度を回転するためのパルス数である。
同時にCPU103けステップ201でコンパレータ1
08からのステータス信号Ss ヲモニターシ、受光器
24がシャツタ3後面のスリット開口31bを検知し、
ステータス信号S参が「L」から「H」になったときス
テップ202でモータ駆動データS10の出力を停止し
、パルスモータ4の回転を停止させる。この状態のとき
に、シャッタ6の4個のブレード部3aのうちの1個が
、光軸tをさえぎるように位置し、シャッタ3の閉状態
が達成される。ここでモータ駆動データSroのパルス
数をN2θとしたのはシャッタ3に設けたスリット開口
31bが90度毎の色度C設けられているため、シャッ
タ3を少なくと本90度回転すればスリット開−口31
bが必ず検知されるからである。このようにしてシャッ
タ3の閉状態が達成された後にウェハ9の露光動作を行
う。
第12図において、露光動作が開始されると、ステップ
210でCPU103はセット信号s7を目標値セット
レジスタ105に出力し、目標値セットレジスタ105
は適正露光量に相当するパルス数f3sを比較器104
に出力する。次にステップ211でクリア信号Ssをカ
ウンタ102に出力し、カウンタ102に残っている光
量計数値S4を零にする。これと一定タイミングを置い
てステップ212でモータ駆動データ810として、シ
ャッタ3を角度θすなわちV8回転だけ回転させるパル
ス数Noをドライブ回路106に出力してパルスモータ
4を駆動させ、シャッタ3の回転を開始する。この時刻
が第8図及び第9図のtoに相当する。
カウンター02はシャッタ30回転が開始する・と同時
に電圧/周波数変換器101がらのパルス信号S2を計
数する。
ステップモータ4が高速回転し、シャッタ6を74回転
させると、ステップモータ4は回転を停止し、シャッタ
3は全曲状態となシ、光f積分値は第8図及び々も9図
のto時の値となる。ステップモータ4が回転を停止し
た後もカウンター02は電圧/周波数変換器101から
のパルス信号s2を計数し、光量計算値S4を比較器1
04に出方する。またCPU103はステップ212で
比較器104からの閉じ信号s6をモニターしておシ、
光1゛積分値が第8図tb又は第9図td時の値となり
比較器104で光量計算値s4と適正霧光量に相当する
パルス数Ssが一致し、閉じ信号s6が「L」からrH
」になったときを検出する。閉じ信号S6が「H」にな
るとステップ214で再びステップモータ4を回転させ
るためパルスNaのモータ駆動データSxaを出力し、
シャッタ6の閉成を開始する。ステップそ一夕4がパル
ス数N#分回転し、停止するとシャッタ3は全閉状態と
なる。
このときウェハ9面の露光量積分値は第81tltc。
又は第9図te時の値となシ適正露光量となる。
なお第9図の露光制御手段24の実施例において、比較
器104の閉じ信号S6によって、CPU103にシャ
ッター閉成のための割シ込み処理を実行させるようにし
てもよく、さらにカウンタ102、比較器104及び目
標値セットレジスタ105をCPU103の内部でプロ
グラムによって同様に構成することもできる。
その他に、電圧/周波数費換器101とカウンタ102
間にゲート回路を設ける。そして露光開始に先立って、
そのカウンタに適正露光量に相当する値をセットし、露
光開始とともにゲート回路を開き、パルス信号s2のパ
ルス数をカウンタ102の値から減算するようにする。
そしてカウンタ102の値が零になったとき、閉じ信号
S6を出力してシャッタを閉じるようにしてもよい。
第13図は、比較的シャッタ制御時間が短かくアナログ
制御が適用し得る露光制御手段24の実施例ブロック図
を示す。第16図において第3図・と同一符号に[同一
構成を示す。ただし光電検出器6の位置は第5図に示し
た位置である。また第3図に示した例と相違し、積分器
を成すコンデンサ14と並列にスイッチ40を設璧てお
る。
露光開始信号が入るとスイッチ40が開き、光量の積分
を開始し、光量積分値と目標値を比較器15で比較し、
シャッタが全開状態になった後に光量積分値が目標値に
達すると、シャッタの閉成動作を行なうことによシ適正
露光量を得ることができる。
第14図は他の実施例の一部を示したもので、測定手段
の他の変形例のいくつかを示す。
第1は光電検出器6aを楕円反射鏡20を保持する森持
具20aの周辺で、楕円反射#!20の開円反射鏡2の
上方で、光源1の上部電極1aが通る開口部から射出す
る光を受光するように設けた場合、第3は光源1の像を
レンズ51でファイバ束52の一端面に結像し、ファイ
バ束52の他端で光電検出器6Cで光量を検出する場合
である。
この第6の測光手段によれば、光電検出器6cを光源1
から場所に配置できるので、光電検出器6Cが光源1か
らの高温にさらされることがなく、安定した光重:信号
が得られる。さらに光源1が高圧水銀放電管の場合に、
まれに発生する爆発事故に対しても、光電検出器6Cを
保設することができる。また光電検出器6# 6ae 
6b及び6Cと光源1との間に露光用の波長の光を選択
的に透過するフィルタ23や防熱フィルタ等を設けるこ
とによシ、光源1が露光用の波長以外の波長の光を発生
しても適正露光量を検出することができると共に、光源
からの熱線の影響も受けなくなる。
第15図に本発明の他の実施例を示す。第15図に示し
た光学系は、特開昭57−85019号公報に開示され
たもので、光源1用のランプを交換シたときに光源1の
輝点の位置を楕円反射鏡20の第1焦点に正確に位置合
わせするためのモニタ光学系を附加したものである。光
源1から発した露光光は楕円反射鏡20で反射し、楕円
反射鏡20と第2焦点F3′ との間に斜設されたダイ
クロイックミラー54でさらに反射し、干渉フィルタや
インテグレータを含む光学部材55を通シ反射鏡54で
反射され、コンデンサレンズ5に導かれる。
ダイクロイックミラー54を露光用波長の光の数チ程度
及び露光用波長以外の波長の光が透過するような分光特
性のものにしておくと、ダイクロイックミラー54は露
光用波長の光のほとんど全部を反射し、第2焦点F鵞に
光源の像を結像する。
この第2焦点F雪の位置にシャツ、りを設ける。また露
光用波長の光の一部及びこの波長より長い波長の光はダ
イクロイックミラー54を透過して第2焦点F、/に光
源1の像を結像する。この透過光は光学系の光軸を外に
設けられた正レンズ57a1反射鏡58a1指標板59
aからなる第1の光源位置検出系及び同じく光学系の光
軸を外に設けられた正レンズ57b1反射鏡58a1指
標板59bはフィルタ24及び光電検出器6dからなる
測光手段と交換可能に配置する。本実施例において、光
源1用のランプを交換するときは指標板59bを配置し
、光源1の位置合せを行い、この位ra合せ終了後は測
光手段を指標板59bの位置に挿入して、露光制御のた
めの測光を行なう。
以上、本発明の各実施例を説明したが、要するに測光の
だめの光電検出器がシャッタとは無関係に光源からの光
の強度を常に検出するように設けるとともに、シャッタ
の開放時間(ta −to)と閉成時間(tc −tb
)、(te ta)とが等しいという条件のもとで、極
めて正確な露光量が得られるものである。また、この条
件が成夛立てば、シャッタはロータリ一式にする必要は
なく、往復直線移動式のシャッタをソレノイドで駆動し
てもよい。
また、縮小投影型露光装首の場合、感光基板を装置して
二次元移Sさせるステージに、照明光の照度分布を測定
したり、レチクルの投影像を検出し大すするだめの微小
開口(スリット)を有する光電検出器を設けることが特
開昭57−117238++公報に開示されている。そ
こで、このようなステージ上の光電検出器を用いること
ができる場合は、その光電検出器によって実際の露光量
をモニターして、測光用の増幅器100のゲイン及び電
圧/周波数変換101の変換比等を適正なものに調整す
ることができる。すなわち、いわゆる光1・積分の感度
を較正することが可能となる。
(発明の効果) 以上述べたように本発明によれば、極めて簡単な構成で
正確な露光量の制御が達成でき、光源の光強度が大幅に
変化したときでも、常に適正露光量を得ることができる
さらに実施例に示したように、デジタル制御をCPUを
介して行なう場合であっても、プログラムによって制御
及び演算する部分が従来のものと比較して少なくなり、
CPUの負担を低減でき、他の演算処理のためにCPU
を働かせることが可能となシ、製鎖全体のスループット
を向上させることができる効果も有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の露光装置の10ツク図、第2図は露光強
度分布図、第3図は従来の露光制御のブロック図、第4
図は光量積分値の分布図、第5図は本発明の一実施例の
構成図、第6図は第5図に示した実施例に使用している
シャッタの構造図、第7図は同じくシャッタのブレード
形状の平面図、第8図、第9図(4)は光量積分値の分
布図、(ロ)、(/つは光強度分布図、第10図は第5
図1に示した実施例の露光制御手段のブロック図、第1
1図、第12図は第10図に示した露光制御手段のプロ
グラムのフローチャート、第13図は露光制御手段の他
の実施例のブロック図、第14゛図は本発明の他の実施
例の構成図、第15図は同じく本発明の他の実施例の構
成図である。 1・・・光源、2・・・焦光レンズ、3・・・シャッタ
、4・・・パルスモータ、5・・・基板、6.6a、6
b、6C6d・・・光電検出器、7・・・基板(8・・
・投影レスズ 9・・・ウニ、Sl 11・・・増幅器
、12・・・抵抗、13・・・増幅器、14・・・コン
デンサ、15・・・比較器、16・・・アリツブフロッ
プ回路、17・・・駆動回路、20・・・楕円反射鏡、
 21・・・コンデンサレンズ、22・・・オプチカル
インテグレータ、100・・・増幅器、101・・・電
圧/周波数変換器、102・・・カウンタ、103・・
・CP U。 104・・・比較器、105・・・目標値セットレジス
タ106・・・ドライブ回路。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 3 7′8胃 ′2−q図 才10図 7711図 712回 才IJ図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)感光物を無光するため光源からの光を透過及び遮
    断するシャッタと;光源からの光をnlf記シャッタの
    動作とは無関係に受光し、その光強度に応じた光電信号
    を出力する側光手段と;該光電信号に基づいて前記シャ
    ッタの開放動作の開始時点から前記光源の光の閂を検出
    し、該光電が前記感光物の所定露光量に達したときに、
    前記シャッタの閉成動作を開始させる露光制御手段とを
    有することを特徴とする露光量制御装置。
  2. (2)雑光制御手段はシャッタ開放動作の開始に応答し
    て動作を開始する光量検出回路と、該光電検出回路で検
    出した光1′が所定露光I°に達したときシャッタの閉
    信号を発生する比較回路とを備えた特許請求の範囲第1
    項記載の露光量制御装置。
  3. (3) 測光手段は光源からの光のうち、感光物の露光
    に寄与する波長の光を透過するフィルタと、該フィルタ
    を通過した光を受光する光電検出器とを有する特許請求
    の範囲第1項または第2項記載の露光量制御装置。
  4. (4) シャッタは開放動作開始から開放完了までの作
    動時間と閉成動作聞漏から閉成完了1での作動時間がほ
    ぼ等しく定められたロータリ・シャッタである特許請求
    の範囲第1項、纂2項、または第6項記載の露光量制御
    装置。
JP58160542A 1983-09-02 1983-09-02 露光量制御装置の較正方法 Granted JPS6052852A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63111617A (ja) * 1986-10-29 1988-05-16 Mitsubishi Electric Corp 縮小投影露光装置
US6115107A (en) * 1996-09-18 2000-09-05 Nikon Corporation Exposure apparatus
JP2007180229A (ja) * 2005-12-27 2007-07-12 Harison Toshiba Lighting Corp 紫外線照射装置
JP2013048896A (ja) * 2011-07-29 2013-03-14 Canon Inc 眼科装置

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