JPS6051193A - セフェム系化合物 - Google Patents

セフェム系化合物

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JPS6051193A
JPS6051193A JP16006183A JP16006183A JPS6051193A JP S6051193 A JPS6051193 A JP S6051193A JP 16006183 A JP16006183 A JP 16006183A JP 16006183 A JP16006183 A JP 16006183A JP S6051193 A JPS6051193 A JP S6051193A
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JP
Japan
Prior art keywords
methyl
formula
group
compound
cephem
Prior art date
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Pending
Application number
JP16006183A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayasu Kasai
正恭 笠井
Susumu Nishizawa
西沢 進
Senji Kakeya
掛谷 宣治
Kazuhiko Kitao
北尾 和彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyoto Pharmaceutical Industries Ltd
Original Assignee
Kyoto Pharmaceutical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 (式中、R1は 1 で云わされる基を示す。但し、R2は低級アルキル基を
 R3は低級アIレキル基又はアルコキシ基を示す。)
で表わされるセフェム系化合物及びその塩に関する。
セファロスポリン類は、極めてすぐれた抗開作用を有す
るものの、経口的に投与してもほとんど消化管から吸収
されないものが多く、そσ)大″4色力玉筋注などの非
経口によって投与さ7’している。
そこで、本発明者らは経口投与によっても、JflL中
へ吸収されるセファロスポリン誘萼体を創1」製丁べく
種々研究を■ねて来たところ、上記セフェム系化合物(
IJの7位を脱保護する仁とKより得られる7位アミン
基をアシル化して得られるセファロスポリン誘導体が経
口投与によっても容易に血中に吸収されることを見出し
本発明を完成したものであり、従って、本発明は、たと
えは経ロ用セファロスポリン肪専体製造用の原料などと
して有用な化合物を提供せんとするものである。
本明細書において、低級アルキル基は直鎮状又は分枝状
のもので、通I館炭素飲l〜4のものであり、具体的に
#′i、メチル、エチル、n−プロピル、i so −
7′oビル、■−グチル、1so−グチル、を−グチル
などかるり−らl″Lる。
また、低級アルコキシ&は直鎮状又は分枝状のもので、
通it?炭素#、1〜4のものであり、具体的には、メ
トキシ、エトキシ、n−グロポキシisg−グロボキシ
、n−エトキシ、1so−エトキシ、【−エトキシなど
があけられる。
不発り1のセフェム系化合物(I)は、たとえは、次の
様な方法、即ち一般式 で表わされる化合物と一般式 X−R1(JJiり (式中、R1は前記と同意義、Xけ”カルボキシル基(
その反応性基)と反応性の基“を示す。)で表わaれる
化合物とを反応させることによって製造することができ
る。
一般式(ト)に関してXで表わされる′カルボキシル基
(その反応性基)と反応性の基′としては、たとえばハ
ロゲン(ブロム、クロル、ヨード々ど)、アルキルスル
ホニルオキシ(メタンスルホニルオキシなと)、アリー
ルスルホニルオキシ(P−トルエンヌルホニルオキシな
ど)、水酸aなEがあけられる。
本反応に関して、化合物(9)は、一般にその反応性誘
導体くたき、t[、ナトリウム塩、カリウム塩などのア
ルカリ金属塩、カルシ6ム塩などのアルカリ土類金属塩
、トリエチルアミン塩、ピリジン塩など)として反応に
供することが好ましい。なお、一般式(4)に関してX
が水酸基でろる化合物に)を部用する場合には、化合物
IA)は遊N、@!とじて本反応に供することが好Jし
く、その場合、適当な縮合剤を用いることか好ましい。
縮合剤としては、たとえばN、N’−ジシクロへキシル
カルボジイミドのよう々N、N’−ジ置換カルボジイミ
ド類、N、N’−カルボニルジイミダゾール、N、N’
−チオニルジイミダゾールのまりなアゾライド化合物な
どの脱水剤などが用いられる。これらの縮合剤を用いた
場合、反iI5#−l′カルボン酸の反応性誘導体を経
て進行すると考えられる。
化合物<m、:化合物(1)との反応は△2−異性体の
副生を避けるため、冷却下に行うことが好ましく、又当
該反応は反応を阻害しない溶a(た々えdジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアξド、ヘキサメチレントリ
アミドポス7エート、アセトヘアセトニトリルなど)の
存在下VC進行させることができる。
セフェム系化合物(I)は、自体既知の手段によって分
離、精製するか又は単離することなく、セファロスポリ
ン誘導体等製造のための次の工程に供する。
かくして製造されるセフェム系化合物(υは、その7位
をアミノ基とした後、アシル化することによって経口投
与可能なセファロスポリン誘導体の合成原料となる。
セフェム系化合物(I)Vi、たとえば含水溶媒系で酸
類を加えることによってその7位がアミ7基である化合
物に導びくことができる。この時の酸としては、たとえ
ば塩酸、硫酸、リン酸などの鉱酸、シュウ酸、クエン酸
、メタンスルホン酸、ノξラトリエンスルホン酸、など
の有機酸が好ましい。
本発明セフェム系化合物(υから経口投与可能なセファ
ロスポリン誘導体の製造は脱保護の後、自体既知のアシ
ル化方法に従って行われる。
実施例1 (5−メチル−1,8−ジオキソ−ルー2−オン−4−
イルメチル17−N−(1−メチル−2=エトキシカル
ボニルビニル)アミノ−3−C(5−メチル−]、]3
.4−チアジアゾールー2−イルチオメチルクー3〜セ
フエムー4−カルボキシレートの合成 (リ 7−アミノ〜8−((5−メチル−1,8,4−
チアジアゾール−2−イル)チオメチル〕−3−セフェ
ムー4−カルボン酸xooyをメタノール21に加え0
°Cに冷却し水酸化カリウム19.2Pを含むメタノー
ル250−を2時間で滴下する。
不溶物を濾過し1tまで#縮しイソプロピルエーテルl
tを加え析出物を濾過するとカリウム 7−アξノー3
−((5−メチル−1,C4−チアジアゾール−2−イ
ル)チオメチルクー3−セフェム−4〜カルボキシレー
ト942を得る。(収率85%) (2)(1)で得られたカリウム塩93.5 Fをアセ
ト酢酸エチル470−に加え室温で一夜攪拌する。ジ:
L チ/L/ エーテルltを加えてPJIX−rると
カリウム7〜N−(1−メチル−2−エトキシカルボニ
ルビニル)アミノ−d−C(5−メチル−1,3,4−
千アジアゾールー2−イル]チオメチル′J−3−セフ
ェム−4−カルボキシレー)120ri(eる。(収率
100チ) (3) 4−ブロムメチル−5−メヂルー1.3−ジオ
キソ−ルー2−オシ51.2fをジメチルホルムアミド
360−に溶解し、5”Ctで冷却、前記(2)で得ら
hた化合物を15分子IIJにて添加、同温度1y?l
て35分間攪拌する。氷水8.6f・インプロヒルエー
テル360 mlの混液に注入し析出物をv5収し、(
5−メチル−1,3−ジオキシ−ルー2−Aシー4−イ
ルメチル)7−N−(1−メチル−2−エトキンカルボ
ニルヒニルンアζ)−8−4(5−メチル−1,3,4
−チアシアソール−2−イル)チオメチルクー3−セフ
ェム−4−カルボキフレ−1109fをイ0る。(収率
80係)実施例2 1−エトキシカルボニルオ片ンエヂル70ミドを使用し
前記(3)と同様の方法にてl−エトキンカルボニルオ
キシエチル 7−N−(1−メチル−2−エトキシカル
ボニルビニル)アミノ−3−[:(5−メチル−1,j
、4−チアジアゾール−2−イル)チオメチル」−3−
セフェム−4−カルボキシレートを得る。(収率62%
) ヲ(施例3 1−アセトキンエチルプロミド全使用しりり記(3)と
同様の方法にて1−アセトキシエチル 7−N−(1−
メチル−2−エトキンカルボニルビニル)アミノ−8−
[(5−メチル−1,3,4〜チアジアゾール−2−イ
ル)ヂオメチル〕−3−セフェムー4−カルボキシレー
トを得る。(収率33%)参考例1 (3)でイυら77た化合物108.59をメタノール
] 1゜水4 mlの混液に加え5 N−塩化水素イン
プロパノール溶液190 meを滴下し室温にて30分
間攪拌スル。7(=トン1t′IL加え濾過しく5−メ
チル=1.3−ジオキソ−ルー2−オン−4−イルメチ
ル)7−アミノ−3−[:(5−メチル−1,3,4−
チアジアン−ルー2−イルメチル)チオメチル]〜3−
セフェ、バー4−カルボキシレート塩酸塩を9Of得る
。(収率96%) 実施例及び参考例で得た化合物の物性けそhぞれ次の通
りである。
実施例1(1) I R(nujol 、crn−’) ;3400.1
755.159ONMR((CD3)250 、δ値)
 ; 2.67(s、8H,4−アジアゾール−C1i
3) 、 2.50−8.40 (br 、 2)う。
−NHz)、3.22.8.63(d、d、J=18H
z、2H,2位−Hz)、4.24.4.54(d、d
、J=13Hz 、2H,8位−CH2S−) 、4.
56(d 、J=5.5flz 、IH、6位−H)。
4.83(d、J=5.5Hz、IH,7位−H)実施
例[2) I R(nujol、cf’l: 3250,1761
J 。
1660.161O NMR((C1)3 )2 So 、δ値); 1.1
7(t、J=7Hy。
3H,CH3) 、 1.97(s、 3H,CH3−
と=)。
2.67(s、3H,チアジアゾ−/l/−CI5)。
3.82.8.71td、d、 J=18hz、 2H
,2イ5/、−14=l。
4.00(q、J=7Hz、2H,−L:H2−1゜4
、.30.4.59(d、d、 J=18Hz 、 2
H,3イ鴛こ、 −CI(2S−)。
8.87(d、J=9Hz 、H>、=C−HN−1実
施例1(3) I R(nujol、On ’):1820,1780
゜1725.1640.161O NhIR((CD3)2SO,δ(IIII ; 1.
16 (t 、J=7Hz 。
31(、−CH31、1,96(s 、 8H、CHa
−と=)。
2.19(s、3夏I、ジオキソ−ル−CH31、2,
67(s 。
3H,チアシアソール−CH5) 、3.60.3.9
8(d 、d 。
J=18)1z、2H,2位−H2) 、 4.00 
(q 、J=7Hz 。
211、−Ck12−1,4.0B、4.73(cl 
、d、J=]311z。
2に1. 3位−CH2S −1、4,61(s 、I
H、−C=(、:H−) 。
5.13(s、2H,4位−CO2CH2] 、 5.
18 (d 。
J=5.5Hz、IIl、6位−H)、5.78(dx
d、J=5.5゜9Hz、IH,7位−H)、8.91
(d、J=9flz、IH。
=C−)(N−) 参考例1 1 k(nujol、Crn’):3400.260(
1゜181U、]780.172O NMR((CI)3)250 、δ値1;2.19(s
、8H,ジオキソ−ルーC口3+、2.67(!3.3
H,チアジアン−ル−CH3) 、8.8Hbrs、 
2H,2イq、−Hz1゜4、.17.4.74(d、
d、J=13Hz、2H,3位−CH2S−1。
5.18 (brs、4H,−4:す、、CH2−,6
位−H,フイイrH−H1゜6.20−10.00(b
r、 3B、−Nl131英施例2 I R(nujol 、tm ’ ) ; l 780
 、1760.158ONMR((Ll)312!:+
0.δ値) : 1.14ft、 J=7Hz。
3B、 CH3CN2−1 、1.26 、1.27f
 t、t、 J=’?Hz 。
3H,−0(1)2cH,LCも)、 1.54,1.
56 (d、d。
J=7Hz、 IH、CH3とh−1、1,95(s、
 3H。
― −C=CH31、2,70(s 、’d H、チアジア
ン−ルーC113)。
8.72(m、2H,2位−821,4,16,4,1
8(q、q。
J=71(z 、 21i、 −UCO3CH2−1,
4,51(m、 28 。
3位−CH2S−)、4.61(s、LH,−C=CH
−)。
5.12(q、 J=7Hz 、 −UCl3−1 、
5.16 (m 、 IH。
6位−H)、5.76(rn、IH,7位=11)。
6.82.6.90(q、q、J=7Hz、IH,−C
IC1131゜8.9(d、J=9Hz、IH,−C=
NH−1実施例3 1 R(nujol、cIn’):17B0.1740
.168ONMR((CD3)250 、δ値: 1.
16(t、 J=’lHz。
3)1. C1l、CD2−)、1.56.1.57(
d、d、J=7Hz。
8)1.C町、CH−1,1,94(S、311. C
Hsと=)2、(18、2,08(s、s、 3H,C
H3CO−3、2,21(s 。
30、チアジアゾ−tv−CH3)、8.71(br、
s、2H。
2位−Hz)、4.(4,4,36(q、q、J=18
Hz、2H。
3位−CH2S−) 、 4.62(s 、lH,−C
k1=C−1。
5.09.5.14(d、d、J=5.5H2,IH,
6位−H)。
5.12 (q 、J =7Hz 、2H、CH3CN
2) 。
5.7+m、IH,7位−H)、6.96(q、q、J
=7Hz。
1口、−(;HC)i3)、8.80(d、J=9Hz
、IH,NH)手 続 ネ市 正 司:(自発) 昭和59年1月11日 特許庁長官 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第160061号 2、発明の名称 セフェム系化合物 3.1F+正をする者 事件との関係 特許出願人 氏名(名称) 京都薬品工業株式会社 4、代理人■541 住 所 大阪市東区平野町4丁目53番地3ニューライ
フ平野町406号 電話(06) 227−1156 6、補正により増加する発明の数(なし)7、補正の対
象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 8、補正の内容 (111XllJaI書m8頁、第4行の「収率100
 % J ’c「定量的」に訂正下ゐ〇 (2)同書第lO頁、最終行の「3位、−CH2S−J
21”3位−CH2S−Jにdノ止する。
(3)同書第12頁、第10行のr 3 HJ’、rr
3HJに削土T/80 以E

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 (式中、R1は 1 で表わされる基を示す。似し R2け低級アルキル基i
     R3は低級アルキル基又はアルコキシ基を示す。)で
    表わされるセフェム系化合物及びその塩。
JP16006183A 1983-08-31 1983-08-31 セフェム系化合物 Pending JPS6051193A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2579597A1 (fr) * 1985-03-29 1986-10-03 Shionogi & Co Esters d'alceneamidocephalosporines

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2579597A1 (fr) * 1985-03-29 1986-10-03 Shionogi & Co Esters d'alceneamidocephalosporines

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