JPS604911B2 - ほうろう製品 - Google Patents
ほうろう製品Info
- Publication number
- JPS604911B2 JPS604911B2 JP55055905A JP5590580A JPS604911B2 JP S604911 B2 JPS604911 B2 JP S604911B2 JP 55055905 A JP55055905 A JP 55055905A JP 5590580 A JP5590580 A JP 5590580A JP S604911 B2 JPS604911 B2 JP S604911B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- enamel
- coating
- film
- minutes
- pongee
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、浴槽、鍋、やかん、温水ボイラーなどとし
て使われるほうろう製品に関するものである。
て使われるほうろう製品に関するものである。
従来、このようなほうろう製品は、鋼板などの基材を所
定の形状に成形(プレス成形、プランキングなど)し、
これに脱脂、酸洗などの前処理を施したのち、先ず下袖
掛けを行ない、ついで上納掛けを行って製造されてきた
。
定の形状に成形(プレス成形、プランキングなど)し、
これに脱脂、酸洗などの前処理を施したのち、先ず下袖
掛けを行ない、ついで上納掛けを行って製造されてきた
。
下紬掛けは、基材に対する密着性を高めるために行なわ
れるもので、そのための下紬薬は、金属と膨張率が近似
であるものが用いられ、また、金属−ガラス間の組織変
化を連続的にする目的でコバルト、ニッケル、マンガン
、モリブデンなどの酸化物が添加されているのが普通で
ある。上紬掛けは下柚掛けの行なわれた表面に行なわれ
、そのための上純薬は、融着温度が下純薬よりも低く、
酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの乳白剤が添加され
ているのが普通であり、必要に応じて他の着色剤が添加
されていることもある。従来のほうろう製品は上記のよ
うにして製造されるので、その耐蝕I性は、もっぱら上
柚薬の耐蝕性に左右される。
れるもので、そのための下紬薬は、金属と膨張率が近似
であるものが用いられ、また、金属−ガラス間の組織変
化を連続的にする目的でコバルト、ニッケル、マンガン
、モリブデンなどの酸化物が添加されているのが普通で
ある。上紬掛けは下柚掛けの行なわれた表面に行なわれ
、そのための上純薬は、融着温度が下純薬よりも低く、
酸化チタン、酸化ジルコニウムなどの乳白剤が添加され
ているのが普通であり、必要に応じて他の着色剤が添加
されていることもある。従来のほうろう製品は上記のよ
うにして製造されるので、その耐蝕I性は、もっぱら上
柚薬の耐蝕性に左右される。
そのため、従釆のほうろう製品は、長時間熱水にさらさ
れると表面に近いところから次第に可溶性成分′(Na
20,B203など)が藩出し、浸蝕をうけ易いという
欠点があった。したがって、浴槽、鍋、やかん、温水ボ
イラーなどとして使用する場合に、長時間の使用で表面
光沢が失われたり、表面がざらついてきたりするという
問題が生じた。しかし、上記可溶性成分は紬薬の焼成温
度を下げるために添加されるものであるから、これを省
略することは困難である。この発明は以上に述べたよう
な事情に鑑みなされたもので、長時間熱水にさらされて
も浸蝕を受けにくいほうろう製品を提供するものである
。
れると表面に近いところから次第に可溶性成分′(Na
20,B203など)が藩出し、浸蝕をうけ易いという
欠点があった。したがって、浴槽、鍋、やかん、温水ボ
イラーなどとして使用する場合に、長時間の使用で表面
光沢が失われたり、表面がざらついてきたりするという
問題が生じた。しかし、上記可溶性成分は紬薬の焼成温
度を下げるために添加されるものであるから、これを省
略することは困難である。この発明は以上に述べたよう
な事情に鑑みなされたもので、長時間熱水にさらされて
も浸蝕を受けにくいほうろう製品を提供するものである
。
以下にこれについて説明する。この発明にかかるほうろ
う製品は、ほうろう表面に、Si02を90重量%以上
含む被膜を形成してなることを特徴としている。
う製品は、ほうろう表面に、Si02を90重量%以上
含む被膜を形成してなることを特徴としている。
第1図はこの発明にかかるほうろう製品の実施例の構造
をあらわす説明図である。図において、基材(鋼板)1
の表面に下紬層2が形成されており、その下柚層の上に
上納層3が形成されている。ここまでは通常のほうろう
製品に常用されている構造となっているが、このほうろ
う製品では上層3の外面に、さらに、シリカ質の被膜4
が形成されている。このシリカ質の被膜4は、Si02
を90重量%以上含んでおり、したがって、このような
被膜を設けておくことにより、ほうろう製品の耐蝕性が
著しく向上するのである。上記被膜中にS三02以外の
成分(特にアルカリ成分)が10重量%より多くなると
、被膜の耐煮沸性が低下したり、被膜に白華現象が生じ
やすくなったりする。彼薬4の厚みは用途に応じて適当
に選べばよいが、普通は1〜10ムとするのが好ましい
。
をあらわす説明図である。図において、基材(鋼板)1
の表面に下紬層2が形成されており、その下柚層の上に
上納層3が形成されている。ここまでは通常のほうろう
製品に常用されている構造となっているが、このほうろ
う製品では上層3の外面に、さらに、シリカ質の被膜4
が形成されている。このシリカ質の被膜4は、Si02
を90重量%以上含んでおり、したがって、このような
被膜を設けておくことにより、ほうろう製品の耐蝕性が
著しく向上するのである。上記被膜中にS三02以外の
成分(特にアルカリ成分)が10重量%より多くなると
、被膜の耐煮沸性が低下したり、被膜に白華現象が生じ
やすくなったりする。彼薬4の厚みは用途に応じて適当
に選べばよいが、普通は1〜10ムとするのが好ましい
。
1仏より薄いとピンホールなどの欠陥が生じやすく、摩
擦などにより損傷を受けやすい。
擦などにより損傷を受けやすい。
また、10Aより厚くするのは、被膜の形成が難しくな
り、形成される被膜の透明度が低下する傾向がある。ほ
うろう表面にシリカ質の被膜を形成するには、■有機ケ
イ素化合物(例えば、テトラェトキシシランなどのオル
ガノアルコキシシラン、ことにテトラァルコキシシラン
)溶液を塗布し、熱分解させてSi02被膜を形成する
方法、■水ガラスを塗布し、焼き付けたのち、酸性溶液
を作用させて脱アルカリ処理を行なっておく方法などが
ある。
り、形成される被膜の透明度が低下する傾向がある。ほ
うろう表面にシリカ質の被膜を形成するには、■有機ケ
イ素化合物(例えば、テトラェトキシシランなどのオル
ガノアルコキシシラン、ことにテトラァルコキシシラン
)溶液を塗布し、熱分解させてSi02被膜を形成する
方法、■水ガラスを塗布し、焼き付けたのち、酸性溶液
を作用させて脱アルカリ処理を行なっておく方法などが
ある。
■は工程が簡単であり、■は製造条件の管理が容易であ
るという利点をそれぞれそなえている。■の方法で被膜
を形成する場合に、Si02の他にP203やB203
の成分を加えておくことは差支えない。このように、発
明にかかるほうろう製品は、ほうろう表面に安定なシリ
カ質の被膜を形成してなるので、このような被膜をもた
ない従来のほうろう製品に較べて耐蝕性の点できわめて
すぐれているのである。
るという利点をそれぞれそなえている。■の方法で被膜
を形成する場合に、Si02の他にP203やB203
の成分を加えておくことは差支えない。このように、発
明にかかるほうろう製品は、ほうろう表面に安定なシリ
カ質の被膜を形成してなるので、このような被膜をもた
ない従来のほうろう製品に較べて耐蝕性の点できわめて
すぐれているのである。
このため、熱水に長時間接触しても表面光沢が失われて
くるようなことはない。被膜の厚みによっては美麗な干
渉縞があらわれ、外観上も好ましい場合が多い。なお、
この発明によると、結果的には製品の寿命が伸びるので
、被膜の形成によるコストアップ分はこれによって充分
吸収できると考えられる。〔実施例〕 厚み2肌のほうろう用鋼板を基材として準備し、これに
従来より広く採用されている下記の前処理を施した。
くるようなことはない。被膜の厚みによっては美麗な干
渉縞があらわれ、外観上も好ましい場合が多い。なお、
この発明によると、結果的には製品の寿命が伸びるので
、被膜の形成によるコストアップ分はこれによって充分
吸収できると考えられる。〔実施例〕 厚み2肌のほうろう用鋼板を基材として準備し、これに
従来より広く採用されている下記の前処理を施した。
3脱 脂…・・・12
%アルカリ脱脂液(80午0)に10分間浸薄水 洗・
・・・・・40o〜50二0の温水に浸債酸 洗・・・
・・・10%QS04水溶液(80oo)に7分間浸債
4ニッケル処理・・・12%
NiS04水溶液(8000)に5分間浸糟中 和…・
・・1%NaC03水溶液(8000)に1分間浸債乾
燥・・・・・・1000〜130qoの空気中で乾燥
上記前処理を終えた基材に下記の下柚薬を約150仏の
厚みに塗布し、850℃で5分間焼成した。
%アルカリ脱脂液(80午0)に10分間浸薄水 洗・
・・・・・40o〜50二0の温水に浸債酸 洗・・・
・・・10%QS04水溶液(80oo)に7分間浸債
4ニッケル処理・・・12%
NiS04水溶液(8000)に5分間浸糟中 和…・
・・1%NaC03水溶液(8000)に1分間浸債乾
燥・・・・・・1000〜130qoの空気中で乾燥
上記前処理を終えた基材に下記の下柚薬を約150仏の
厚みに塗布し、850℃で5分間焼成した。
なお、下紬薬はポットミルで粉砕混合して調製したが、
そのときの粒度は、紬薬50ccを200メッシュのフ
ルィ網上で水洗した場合のフルィ網上の残量であらわせ
ば、3〜4〔夕/50cc/200メッシュON〕であ
った。(下純薬の配合) 0 フリツト#2232(日本フェロー社製)3箱重
量部(以下「部」と略す)フリット#2236(日本フ
ェロー社製) 33部フリット#2240(日本フェロ
ー社製) 34部ケィ石 5部粘
土 5部 NaN〇2 0.2邦含
水ホウ砂 0.5部水
5碇郡つぎに、このう
えから下記配合になる上納薬を約150rの厚みに塗布
し、82000で5分間焼成した。
そのときの粒度は、紬薬50ccを200メッシュのフ
ルィ網上で水洗した場合のフルィ網上の残量であらわせ
ば、3〜4〔夕/50cc/200メッシュON〕であ
った。(下純薬の配合) 0 フリツト#2232(日本フェロー社製)3箱重
量部(以下「部」と略す)フリット#2236(日本フ
ェロー社製) 33部フリット#2240(日本フェロ
ー社製) 34部ケィ石 5部粘
土 5部 NaN〇2 0.2邦含
水ホウ砂 0.5部水
5碇郡つぎに、このう
えから下記配合になる上納薬を約150rの厚みに塗布
し、82000で5分間焼成した。
これらの操作により表面に下紬層と上紬層とをそなえた
ほうろう材が得られた。(上紬薬配合) フリット#XF−105(日本フェロー社製)1〇〇部
顔料 NF3126(日本フェロー社製) 7部粘土
5部KCI
O.5部水
5礎部上納薬もポットミルで調製したが、その
ときの粒度は、3〜4〔タノ50cc/200メッシュ
ON〕であった。
ほうろう材が得られた。(上紬薬配合) フリット#XF−105(日本フェロー社製)1〇〇部
顔料 NF3126(日本フェロー社製) 7部粘土
5部KCI
O.5部水
5礎部上納薬もポットミルで調製したが、その
ときの粒度は、3〜4〔タノ50cc/200メッシュ
ON〕であった。
得られたほうろう材には下記<実施例1>および<実施
例0>に示す被膜形成処理を施し、その耐貧虫性を調べ
た。
例0>に示す被膜形成処理を施し、その耐貧虫性を調べ
た。
く比較例>として、被膜を形成していないほうろう材に
ついても同機な試験を行なった。それらの結果は第1表
に示されている。く実施例1>ケイ酸ソーダ3号の1の
重量%水溶液を25o 〜30℃の液温を保ち、これに
上記ほうろう材を浸潰したのちゆっくりと引き上げ、約
5分間風乾した。
ついても同機な試験を行なった。それらの結果は第1表
に示されている。く実施例1>ケイ酸ソーダ3号の1の
重量%水溶液を25o 〜30℃の液温を保ち、これに
上記ほうろう材を浸潰したのちゆっくりと引き上げ、約
5分間風乾した。
これを約100℃に保たれた乾燥器中に入れ、15分間
保持したのち、ひきつづき、150℃の乾燥器中で10
分間保持し、さらに350℃の乾燥器中で15分間保持
して焼付けを行なった。その後、この材料を、約60d
oに保たれた硝酸アルミニウムの5%水溶液に1■ト間
浸潰して脱アルカリ処理を施したのち、充分水洗し、乾
燥させた。以上の被膜形成処理を2回操り返し、目的と
するほうろう製品を得た。<実施例ロ> テトラエトキシシリケート(テトラエトキシシラン)の
3%サク酸ブチル溶液に常温で前記ほう*ろう材を浸潰
しゆっくりと引き上げたのち約5分間風乾した。
保持したのち、ひきつづき、150℃の乾燥器中で10
分間保持し、さらに350℃の乾燥器中で15分間保持
して焼付けを行なった。その後、この材料を、約60d
oに保たれた硝酸アルミニウムの5%水溶液に1■ト間
浸潰して脱アルカリ処理を施したのち、充分水洗し、乾
燥させた。以上の被膜形成処理を2回操り返し、目的と
するほうろう製品を得た。<実施例ロ> テトラエトキシシリケート(テトラエトキシシラン)の
3%サク酸ブチル溶液に常温で前記ほう*ろう材を浸潰
しゆっくりと引き上げたのち約5分間風乾した。
これを約100qoの乾燥器中に入れ、3雌ふ間保持し
たのち、さらに350qoの乾燥器中で3粉ご間保持し
て被膜形成を行なった。実施例1,Dで得られた製品に
おける被膜中のSiQ舎量は、いずれも90重量%を下
廻ってし、なかつた。
たのち、さらに350qoの乾燥器中で3粉ご間保持し
て被膜形成を行なった。実施例1,Dで得られた製品に
おける被膜中のSiQ舎量は、いずれも90重量%を下
廻ってし、なかつた。
く比較例>
比較例として、ほうろう材を用いた。
第 1表
第1表の試験方法はつぎのとおりである。
〔1} 耐酸スポットテスト:10%HCI水溶液を含
浸させたろ紙を試料表面に1時間のせ、その後の試料表
面の侵され方の程度をAA,A,B,C,Dという5段
階の評点で評価した。
浸させたろ紙を試料表面に1時間のせ、その後の試料表
面の侵され方の程度をAA,A,B,C,Dという5段
階の評点で評価した。
侵され方の程度はAAがもっとも少ないことを示し、以
下A,B,Cの順に大きくDがもっとも大きい。‘2}
耐アルカリスポットテスト:INNaOH水溶液を含
浸させたろ紙を試料表面に1時間のせ、その後の試料表
面の侵され方の程度を‘1’の場合と同様に5段階で評
価した。
下A,B,Cの順に大きくDがもっとも大きい。‘2}
耐アルカリスポットテスト:INNaOH水溶液を含
浸させたろ紙を試料表面に1時間のせ、その後の試料表
面の侵され方の程度を‘1’の場合と同様に5段階で評
価した。
‘3} 耐煮沸テスト:試料を沸とう水中に50餌時間
浸潰したのちの外観の変価を調べた。
浸潰したのちの外観の変価を調べた。
図面は、ほうろう製品の断面図である。
図は実施例をあらわす。1…基材、2…下紬層、3…上
柚層、4…被膜。
柚層、4…被膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ほうろう表面に、SiO_2を90重量%以上含む
被膜を形成してなるほうろう製品。 2 被膜の厚みが1〜10μである特許請求の範囲第1
項記載のほうろう製品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55055905A JPS604911B2 (ja) | 1980-04-26 | 1980-04-26 | ほうろう製品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP55055905A JPS604911B2 (ja) | 1980-04-26 | 1980-04-26 | ほうろう製品 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56152968A JPS56152968A (en) | 1981-11-26 |
JPS604911B2 true JPS604911B2 (ja) | 1985-02-07 |
Family
ID=13012122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55055905A Expired JPS604911B2 (ja) | 1980-04-26 | 1980-04-26 | ほうろう製品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS604911B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0441287Y2 (ja) * | 1986-12-15 | 1992-09-29 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4826221A (ja) * | 1971-08-10 | 1973-04-06 | ||
JPS4894732A (ja) * | 1972-03-21 | 1973-12-06 | ||
JPS4915930A (ja) * | 1972-06-06 | 1974-02-12 | ||
JPS4920371A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-02-22 | ||
JPS508454A (ja) * | 1973-05-21 | 1975-01-28 | ||
JPS509805A (ja) * | 1973-05-17 | 1975-01-31 | ||
JPS5193922A (en) * | 1975-02-17 | 1976-08-18 | sio2 keisankabutsuhimakuno keiseihoho |
-
1980
- 1980-04-26 JP JP55055905A patent/JPS604911B2/ja not_active Expired
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4826221A (ja) * | 1971-08-10 | 1973-04-06 | ||
JPS4894732A (ja) * | 1972-03-21 | 1973-12-06 | ||
JPS4920371A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-02-22 | ||
JPS4915930A (ja) * | 1972-06-06 | 1974-02-12 | ||
JPS509805A (ja) * | 1973-05-17 | 1975-01-31 | ||
JPS508454A (ja) * | 1973-05-21 | 1975-01-28 | ||
JPS5193922A (en) * | 1975-02-17 | 1976-08-18 | sio2 keisankabutsuhimakuno keiseihoho |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0441287Y2 (ja) * | 1986-12-15 | 1992-09-29 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56152968A (en) | 1981-11-26 |
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