JPS6043585B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPS6043585B2
JPS6043585B2 JP52154818A JP15481877A JPS6043585B2 JP S6043585 B2 JPS6043585 B2 JP S6043585B2 JP 52154818 A JP52154818 A JP 52154818A JP 15481877 A JP15481877 A JP 15481877A JP S6043585 B2 JPS6043585 B2 JP S6043585B2
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JP
Japan
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field effect
effect transistor
mos field
transistor
circuit
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JP52154818A
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JPS5486239A (en
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充 坂本
俊男 和田
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NEC Corp
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Nippon Electric Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/10Decoders

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、MOS電界効果トランジスタで以つて形成
される半導体集積回路装置に関するものである。
MOS電界効果トランジスタで以つて形成される半導
体集積回路装置の技術進歩は顕著であり、この技術のす
う勢は、半導体基体表面の微細加工技術の開発と、該集
積回路装置の回路構成の開発 の二方向にある。
特にMOS電界効果トランジスタを利用して構成される
記憶容量素子に於いては、電子計算機からの要求から、
集積度の向上、1ペレット上に構成される記憶容量の増
加、並びにペレットサイズの縮少化が最重要技術課題と
なつている。斯くなるMOS電界効果トランジスタの構
成による情報記憶素子に於いては、一般に多数の情報蓄
積部(以下これをセル部と称す)を有し、且つ、当セル
部の同定のためのアドレス信号の発生回路を有するもの
である。そして斯くなるセル部のアドレス同定法は、行
列方式によるマッピング方法を利用するものである。以
下簡単のため当アドレス信号発生回路部をデコーダと名
称する。従来該デコーダ部の回路構成で、その作動(ダ
イナミックかスタティック)方法によらず一般によく使
われるのは、外部からの入力アドレスで構成するNOR
回路部とラッチ回路部の直列接続された形のものである
。かかるデコーダ回路に於いては、一般に確実なデコー
ディングと高いデ・コーディング信号電圧が得られるこ
とが好ましい。 本発明の目的はかかる条件を十分に満
足し、且つそのデコーディング確定速度が従来のものに
比し速くなつてMOS電界効果トランジスタを使用ゝし
てなるデコーダ回路を提供せんとするものである。
本発明による半導体集積回路は駆動部と負荷部とを接続
し、該接続部から論理出力を得る論理部を有し、この論
理出力をデプレション型電界効果トランジスタを介して
ラッチ部におけるソース又はドレインが駆動電位に接続
される入力電界効果トランジスタのゲートに印加し、こ
の入力電界効果トランジスタのドレイン又はソースとゲ
ートとの間に静電容量が存在するようにし、この静電容
量によつてゲートの電位をドレイン又はソース部の電位
の増大に呼応して増大せしめるようにしたことを特徴と
する。すなわち、本発明に於いては、先述した外部アド
レス信号で決定されるNOR回路信号を直接先述したラ
ッチ回路の1負荷側MOS電界効果トランジスタのゲー
ト電極に結線せず、1個のデイプレツシヨン型MOS電
界効果トランジスタを介在させて結線する回路構成をと
る。以下実施例で以つて、本発明の詳細な説明を行う。
ここでは簡単のためP型半導体基体表面に形成されたN
チャンネルMOS電界効果トランジスタの場合だけにつ
いて行う。しかし、N型半導体基体表面に形成されたP
チャンネルMOS電界効果トランジスタで構成する回路
の場合も同様となることに予め言及しておく。又、以下
特別但し書きのない限り使用するMOS電界効果トラン
ジスタはエンハンスメント型のものとする。第1図は、
本発明回路の1実施例でMOSメモI月Cのデコーダ回
路部を示し、第2図は第1図の該デコーダ部回路のタイ
ミングチャートを示すものである。又、この第2図では
該第1図回路をダイナミック動作させたものである。第
1図に示す如く、NチャンネルMOS電界効.果トラン
ジスタ91〜98,101によつて構成されるNOR回
路部10は、外部アドレス信号Ai(1=1・・・r)
をゲート電極で受けるMOS電界効果トランジスタ91
〜9rを並列に配して形成し、該NOR回路10の負荷
側トランジスタ101のゲート入力信号をP1とする。
かくして構成されたNOR回路10の結節点N1をデイ
プレツシヨン型のMOS電界効果トランジスタ102の
1電極(ソース又はドレイン電極)に結線し、該MOS
電界効果トランジスタ102の他電極(ドレイン又はソ
ーストランジスタ103〜106で構成されたフリップ
フロップ型ラッチ回路部20の1負荷側MOS電界効果
トランジスタ103のゲート電極に接続され、この接続
点を節点N2とする。このトランジスタ102のゲート
信号をTAlとする。斯くして該NOR回路部20の結
節点N1は回路上可変抵抗体と等価なMOS電界効果ト
ランジスタ102を通してフリップフロップ構成のラッ
チ回路20に接続される。次に該フリップフロップ構成
のラッチ回路20ではMOS電界効果トランジスタ10
3のソース側をMOS電界効果トランジスタ104のド
レイン電極と節点N3で接続すると共に該ソース側電極
、すなわち)この節点N3を該MOS電界効果トランジ
スタ104と相対したMOS電界効果トランジスタ10
5のゲート電極に結線し、且つデコーダとしての出力電
極WDに接続する。MOS電界効果トランジスタ104
のゲート電極は、先述したMOS電界・効果トランジス
タ103に相対するMOS電界効果トランジスタ106
のソース電極と節点N4で結線し、且つ当MOS電界効
果トランジスタ106のソース電極を先述したMOS電
界効果トランジスタ105のドレイン電極に接続する。
この時″の相対したMOS電界効果トランジスタ103
,106のドレイン電極はそれぞれ信号TA2及び一定
電圧V。Dが印加され、且つ該トランジスタ106のゲ
ート電極に印加される信号をP2とする。又、第1図に
示した結節点N2及びN3間にコンデンサCPを介在さ
せ、該コンデンサCPの容量カップリングにより、N3
結節点の電位上昇に伴うN2結節点の電位上昇を可能と
する。この容量CPは独自に設けたものでも、あるいは
トランジスタ103のゲート拡散部の寄生容量を利用し
ても良い。この時、本発明に於いては、NOR回路10
側の結節点N1とラッチ回路20側の結節点N2をデイ
プレツシヨン型MOS電界効果トランジスタ102を介
し接続し、結節点N3電位の上昇即ち結節点N2電位の
上昇時にタイミングを合せて該MOS電界効果トランジ
スタ部のゲート電極TAl信号を接地電位にし該デイプ
レツシヨン型MOS電界ゆ果トランジスタを高抵抗状態
にしている。かくして結節点N2とN3間のコンデンサ
CPを介する容量カップリングを容易ならしめる。次に
本実施例の作動方法に関し、より詳細に説明する。
はじめ時間t1乃至T2において第1図のP1ゲート、
P2ゲート並びにTAlゲートに第2図の同記号で示す
クロック信号で+V値を与えると共にアドレス信号Al
,A2・・・・・・Arは全て0Vとする。又、この時
信号TA2の電位も0Vとする。斯くしてMOS電界効
果トランジスタ101,102,106を導通状態にし
結節点Nl,N2,N4をチャージアップする。次に時
間T2乃至T3の期間クロック信号Pl,P2,TAl
を0VにしMOS電界効果トランジスタ101,106
を不導通状態に、デイプレツシヨン型MOS電界効果ト
ランジスタ102を高抵抗状態にする。このとき、アド
レス信号Al,A2・・Nを入力し全アドレス信号が0
Vである場合を除きNOR回路10の結節点N1及びN
2にたまつた電荷を全て放出する。斯くしてNOR回路
10への結節点N2の電位は接地電位となり、これ等に
接続されたゲート部を有するMOS電界効果トランジス
タ103は不導通状態となり、出力WDはa″で示すよ
うに低レベルである。これに対し全てアドレス信号A1
〜Arが0Vである場合、すなわち、このNOR回路が
選択されたとき結節点N2だけは、初めにMOS電界効
果トランジスタ101を通してチャージアップした電位
に保たれている。この期間T2−T3においてクロック
信号Pl,P2等の0Vへの電圧降下とほぼ同時に立ち
上がる信号TA2により唯一導通状態となつているMO
S電界効果トランジスタ103を通し結節点N3の電位
を上昇させる。この時、コンデンサCPを通した容量カ
ップリングによりN2の電位も上昇し、節点N3の最大
電位はTA2信号の最大電位と同じ値となり、出力WD
はa″″に示ような高レベルとなる。斯くの如きブート
ストラップ構成に於いて本発明では、結節点Nl,N2
間にデイプレツシヨン型MOS電界効果トランジスタを
介在させているため、TAl信号を接地電位にすること
で該部分を高抵抗状態に容易に行うことができ、該ブー
トストラップを効率よく行うことができる。かくして、
第2図にa″で示した出力信号WDが得られる。又、本
発明の如く第1図に示す結節点Nl,N2間にデイプレ
ツシヨン型MOS電界効果トランジスタを介在させるこ
とで、クロック信号TAl電圧によるMOS電界効果ト
ランジスタ102の低抵抗化をより容易にする即ち、1
02M0S電界効果トランジスタをエンハンスメント型
で使用するときより、大くの電流を流すことが可能であ
る。この結果、結節点N2へのチャージアップに要する
時間をより短縮する。又、該MOS電界効果トランジス
タ102をエンハンスメント型で使用する時、一般にク
ロック信号TAlは正値の二水準電位を有するものとな
る。斯くなるクロック発生では、一般に接地電圧と正値
電圧の二水準電位を有するクロック発生の場合に比し、
そのクロック発生回路上から考えて、生じたクロックの
立ち下がり時間の遅滞が非常に大きく、デコーダ回路の
スピード遅れの一要因となる。かくなる問題点も、本発
明のデイプレツシヨン型MOS電界効果トランジスタの
採用により取り除かれる。最後に本発明は何もデコーダ
回路だけに限ることなく、例えばトランスファトランジ
スタを有するブートストラップ回路に於いても有効とな
ることに言及しておく。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の1実施例を示す回路図、第2図は第1
図の本発明実施例のクロック・タイミングチャートであ
る。 101・・・プレチャージ用MOS電界効果トランジス
タ、102・・・トランスファ用MOS電界効果トラン
ジスタ、103・・・ラッチ回路負荷側MOS電界効果
トランジスタ1、104・・・ラッチ回路駆動側MOS
電界効果トランジスタ1、105・・・ラjツチ回路駆
動側MOS電界効果トランジスタ2、106・・・ラッ
チ回路負荷側MOS電界効果トランジスタ2、Al,A
2,A3・・・k・・・アドレス信号、P1・・・プレ
チャージ用ゲート信号、P2・・・ラッチ回路接続側ゲ
ート信号、TAl・・・トランスフ・アゲート信号、T
A2・・・ラッチ回路信号電極、Vdd・・・電源電圧
、WD・・・出力電極、CP・・・カップリング用コン
デンサ、N1・・・NOR回路部結節点、N2・・・ト
ランスファトランジスタ部結節点、N3,N4・・・ラ
ッチ回路部結節点。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 駆動部と負荷を接続し、該接続部から論理出力を得
    る論理部と、第1および第2の接続点でゲートおよびド
    レイン又はソースが交差接続されソース又はドレインが
    共通に基準電位に接続された第1および第2のトランジ
    スタと、該第1の接続点に接続された出力端子と、該第
    2の接続点に接続されたプリチヤージ手段と、該第1の
    接続点にソースおよびドレインの一方が接続された第3
    のトランジスタと、該第3のトランジスタのゲートと該
    接続部との間に接続されたデイプレツシヨン型の第4の
    トランジスタと、該第4のトランジスタのゲートと該第
    1の接続点に存在する静電容量と、該第1のトランジス
    タのゲートに第1のタイミング信号を供給する手段と、
    該第3のトランジスタのソースおよびドレインの他方に
    該第1のタイミング信号とは位相の異なる第2のタイミ
    ング信号を供給する手段とを有することを特徴とする半
    導体集積回路。
JP52154818A 1977-12-21 1977-12-21 半導体集積回路 Expired JPS6043585B2 (ja)

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JPS5486239A JPS5486239A (en) 1979-07-09
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