JPS6039136B2 - 有底筒状体内面の高周波焼入方法 - Google Patents
有底筒状体内面の高周波焼入方法Info
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- JPS6039136B2 JPS6039136B2 JP57095370A JP9537082A JPS6039136B2 JP S6039136 B2 JPS6039136 B2 JP S6039136B2 JP 57095370 A JP57095370 A JP 57095370A JP 9537082 A JP9537082 A JP 9537082A JP S6039136 B2 JPS6039136 B2 JP S6039136B2
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- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/08—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for tubular bodies or pipes
- C21D9/14—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for tubular bodies or pipes wear-resistant or pressure-resistant pipes
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、有底筒)氏体の内面を焼入れするのに好適な
高周波焼入方法に関する。
高周波焼入方法に関する。
従来、有底筒)氏の被焼入体、例えば第1図及び第2図
に示すトリポード自在鞍手のハウジング部村1の内周面
2を高周波競入方法により焼入れするにあたっては、第
2図の如く、トリポ−ドハウジング部材1の開口部la
を上向きにして配設し、該部材1の中空部底面lbに冷
却水を滞留させてこき、該冷却水の水面から一定間隔を
画して図示の如き形状の高周波加熱コイル3を配置し、
焼入れすべきローラ溝4のローラ転勤面4aを該コイル
により加熱後、冷却する連続暁入方法がある。
に示すトリポード自在鞍手のハウジング部村1の内周面
2を高周波競入方法により焼入れするにあたっては、第
2図の如く、トリポ−ドハウジング部材1の開口部la
を上向きにして配設し、該部材1の中空部底面lbに冷
却水を滞留させてこき、該冷却水の水面から一定間隔を
画して図示の如き形状の高周波加熱コイル3を配置し、
焼入れすべきローラ溝4のローラ転勤面4aを該コイル
により加熱後、冷却する連続暁入方法がある。
この方法では、底面lbに冷却水が滞留しているため、
筒状体1の底面lb近くまで糠入層を得ることは困難で
ある。
筒状体1の底面lb近くまで糠入層を得ることは困難で
ある。
また、第3図に示す如く有底筒状体1の底部lbを上側
に、開口部laを下向きにして配設し、その直下に高周
波加熱コイル5を有する焼入装置6を位置せしめ、該コ
イル5もし〈は筒状体1を移動させて、筒状体1の開□
部laから上方の底部lbに向かって、高周波加熱コイ
ル5により逐次加熱、冷却して焼入れを施す方法がある
。
に、開口部laを下向きにして配設し、その直下に高周
波加熱コイル5を有する焼入装置6を位置せしめ、該コ
イル5もし〈は筒状体1を移動させて、筒状体1の開□
部laから上方の底部lbに向かって、高周波加熱コイ
ル5により逐次加熱、冷却して焼入れを施す方法がある
。
しかし、この競入方法にし、おては、高周波加熱コイル
5により被加熱部7を加熱した後に、冷却ジャケット8
のノズル81から冷却液を噴出させて、上記被加熱部7
を冷却、焼入れするため、冷却ジャケット8は競入時に
おける燐入装置6の進行方向に対して、高周波コイル5
の後方に位置させる必要があり、冷却ジャケット8を筒
状体1の底部lb近くまでは進行させることができない
。よって底部lb近くの被焼入部7には、未焼入部分が
残ることが避けられなかった。本発明は従来の齢入方法
による上述した問題点を解決して、被焼入体たる有底筒
状体の底部近くまで確実に暁入層を形成することができ
る高周波嫌入方法を提供することを目的とし、その要旨
とするところは高周波加熱コイルと有底筒状体とを相対
的に移動させながら該筒状体の内周面を加熱し、該加熱
直後に被加熱部に対し、所定の冷却手段により冷却液を
噴射して、上記内周面に焼入れを施す高周波焼入方法に
おいて、上記有底筒状体をその開口端を下方に向けて配
設し、その直下に配設された上記高周波加熱コイルが、
上記相対的移動により有庭筒状体内の最頂部に達した後
も所定時間通電状態を保ち、該最頂部近傍の内周面が充
分加熱された後に通電を停止し、該被加熱部に対し上記
第1冷却手段とは別に設けた第2冷却手段により冷却液
を噴射、冷却することにより、上記最項部近傍まで上記
内周面を焼入れすることにある。
5により被加熱部7を加熱した後に、冷却ジャケット8
のノズル81から冷却液を噴出させて、上記被加熱部7
を冷却、焼入れするため、冷却ジャケット8は競入時に
おける燐入装置6の進行方向に対して、高周波コイル5
の後方に位置させる必要があり、冷却ジャケット8を筒
状体1の底部lb近くまでは進行させることができない
。よって底部lb近くの被焼入部7には、未焼入部分が
残ることが避けられなかった。本発明は従来の齢入方法
による上述した問題点を解決して、被焼入体たる有底筒
状体の底部近くまで確実に暁入層を形成することができ
る高周波嫌入方法を提供することを目的とし、その要旨
とするところは高周波加熱コイルと有底筒状体とを相対
的に移動させながら該筒状体の内周面を加熱し、該加熱
直後に被加熱部に対し、所定の冷却手段により冷却液を
噴射して、上記内周面に焼入れを施す高周波焼入方法に
おいて、上記有底筒状体をその開口端を下方に向けて配
設し、その直下に配設された上記高周波加熱コイルが、
上記相対的移動により有庭筒状体内の最頂部に達した後
も所定時間通電状態を保ち、該最頂部近傍の内周面が充
分加熱された後に通電を停止し、該被加熱部に対し上記
第1冷却手段とは別に設けた第2冷却手段により冷却液
を噴射、冷却することにより、上記最項部近傍まで上記
内周面を焼入れすることにある。
以下、本発明の好適な実施例を図面により説明する。
第4図及び第5図は、本発明の第1実施例を示し、本実
施例においては、有底筒状体の典型例である有億筒状体
1′について、本実施例に係る高周波暁入装置Dにより
内周面9を焼入れする場合を示している。
施例においては、有底筒状体の典型例である有億筒状体
1′について、本実施例に係る高周波暁入装置Dにより
内周面9を焼入れする場合を示している。
本実施例の暁入方法に使用する上記高周波焼入装置Dは
、加熱手段10と、第1冷却手段としての冷却ジャケッ
ト11と、第2冷却手段としての放液管12とを備えて
いる。
、加熱手段10と、第1冷却手段としての冷却ジャケッ
ト11と、第2冷却手段としての放液管12とを備えて
いる。
上記加熱手段10は、高周波加熱コイル13と、珪素鋼
板もしくはダストコアの如き磁性体14とから構成され
ている。
板もしくはダストコアの如き磁性体14とから構成され
ている。
高周波加熱コイル13は、銅などの導体を用いて中空の
パイプ状に形成され、本実施例では有底筒状体1′の内
周面9と所定間隔をおいて配置しうる円環形に成形され
ており、該円環形コイル13の両端は、内方に折曲され
た後に第4図中下方へと折曲、延設されている。
パイプ状に形成され、本実施例では有底筒状体1′の内
周面9と所定間隔をおいて配置しうる円環形に成形され
ており、該円環形コイル13の両端は、内方に折曲され
た後に第4図中下方へと折曲、延設されている。
なお、一対の折曲部131及び延設部132間には電気
的絶縁体15が介装されており、一対の延設部132は
その下端が図示しない高周波電源に接続されてリード管
として機能するとともに、コイル中空部内を、適宜送給
手段から送られてくる冷却液が循環しうるようになって
いる。上記磁性体14は、高周波加熱コイル13の移動
方向前後側面(第4図中上下側面)を覆い、有底筒状体
1′の内周面9と対嶋する側面13aのみを開放して、
高周波電流による誘導加熱効果を高めている。また、上
記冷却ジャケット11は、加熱手段10の進行方向後方
(第4図中下方)に一体に組み付けられ、内部に中空部
111を形成した薄肉壁112には、放射状に冷却液の
ノズル113が第4図において若干下方に向けて所定数
穿設されており、加熱手段10‘こよる加熱後に、被加
熱面に冷却液をを噴射しうるようになっている。
的絶縁体15が介装されており、一対の延設部132は
その下端が図示しない高周波電源に接続されてリード管
として機能するとともに、コイル中空部内を、適宜送給
手段から送られてくる冷却液が循環しうるようになって
いる。上記磁性体14は、高周波加熱コイル13の移動
方向前後側面(第4図中上下側面)を覆い、有底筒状体
1′の内周面9と対嶋する側面13aのみを開放して、
高周波電流による誘導加熱効果を高めている。また、上
記冷却ジャケット11は、加熱手段10の進行方向後方
(第4図中下方)に一体に組み付けられ、内部に中空部
111を形成した薄肉壁112には、放射状に冷却液の
ノズル113が第4図において若干下方に向けて所定数
穿設されており、加熱手段10‘こよる加熱後に、被加
熱面に冷却液をを噴射しうるようになっている。
上記放液管12は、冷却ジャケット11及び磁性体14
を貫通して、その閉口端121が磁性体14頂部と面一
で上方に閉口されている。
を貫通して、その閉口端121が磁性体14頂部と面一
で上方に閉口されている。
なお、上記冷却ジャケット11から下方に延設された冷
却液圧送管16と、上記放液管12とは、図示しない適
宜な送液手段から冷却液を送給されるようになっており
、また、放液管12の下方には、図示しない電磁バルブ
が設けられている。
却液圧送管16と、上記放液管12とは、図示しない適
宜な送液手段から冷却液を送給されるようになっており
、また、放液管12の下方には、図示しない電磁バルブ
が設けられている。
上記した高周波糠入装置Dにより有底筒状体1′の内面
9を焼入れするに際しては、まず、高周波焼入装置Dを
所定位置で固定しておいて、その直上に配置された有底
筒状体1′を適宜昇降手段により下方に所定速度で連続
して下降させていく。
9を焼入れするに際しては、まず、高周波焼入装置Dを
所定位置で固定しておいて、その直上に配置された有底
筒状体1′を適宜昇降手段により下方に所定速度で連続
して下降させていく。
しかして、有底筒状体1′下端の開□部la′を高周波
暁入装暦Dの高周波加熱コイル13が通過して、中空部
内に欧入すると同時に、該コイル13に高周波大鷺流を
流す。
暁入装暦Dの高周波加熱コイル13が通過して、中空部
内に欧入すると同時に、該コイル13に高周波大鷺流を
流す。
コイル13の上方への相対的移動につれて、該コイル1
3と対向する内周面9は、表面に誘導電流を生じ、ジュ
ール熱により瞬時に環状に加熱される。
3と対向する内周面9は、表面に誘導電流を生じ、ジュ
ール熱により瞬時に環状に加熱される。
加熱された内周面9が所定の温度に達した段階でコイル
13の下方に配設された第1冷却ジャケット11から上
記加熱面に向けて冷却液が噴射され、該加熱面を急速に
冷却して内周面9全面に競入層Tを得る。
13の下方に配設された第1冷却ジャケット11から上
記加熱面に向けて冷却液が噴射され、該加熱面を急速に
冷却して内周面9全面に競入層Tを得る。
但し、高周波焼入装置○が第4図に示す如く有底筒状体
1′の底面(中空部の最頂部)1′b近くまで移動する
と、磁性体14の頂面が該底面1′bに当たってしまう
ので、高周波コイル13及び冷却ジャケット11は上記
底面1′b近傍まで移動することができず、充分な加熱
及び焼入れができないことになる。
1′の底面(中空部の最頂部)1′b近くまで移動する
と、磁性体14の頂面が該底面1′bに当たってしまう
ので、高周波コイル13及び冷却ジャケット11は上記
底面1′b近傍まで移動することができず、充分な加熱
及び焼入れができないことになる。
そこで、本実施例では第4図に示す位置まで暁入装置D
が移動した時点で、有底筒状体1′の移動を所定時間だ
け停止させる。
が移動した時点で、有底筒状体1′の移動を所定時間だ
け停止させる。
しかして、該停止状態において、高周波加熱コイル13
への高周波電流は通電状態に保ち、内周面9の底面lb
近傍部分17が充分に加熱状態になるまで、上記所定時
間電流を流す。そして、上記被加熱面が所定温度になっ
た段階で、上記放液管12に設けた電磁弁を作動させて
、冷却液を関口端121より、第4図に矢線で示す如く
放出し、上記加熱された部分17を冷却、焼入れするも
のである。
への高周波電流は通電状態に保ち、内周面9の底面lb
近傍部分17が充分に加熱状態になるまで、上記所定時
間電流を流す。そして、上記被加熱面が所定温度になっ
た段階で、上記放液管12に設けた電磁弁を作動させて
、冷却液を関口端121より、第4図に矢線で示す如く
放出し、上記加熱された部分17を冷却、焼入れするも
のである。
なお、上記加熱、冷却行程の間も、冷却ジャケット11
からは冷却液を噴射させ続けることにより、既に焼入れ
られた部分と、上記行程で新たに焼入れされる部分17
との間に境界を生じさせないようにする。
からは冷却液を噴射させ続けることにより、既に焼入れ
られた部分と、上記行程で新たに焼入れされる部分17
との間に境界を生じさせないようにする。
しかして、本実施例に係る高周波暁入方法を探ることに
り、有底円筒体1′の中空部最頂部10近傍まで一様に
高周波暁入を施すことができる。
り、有底円筒体1′の中空部最頂部10近傍まで一様に
高周波暁入を施すことができる。
なお、一つの被焼入体1の焼入れが完了すれば、次の被
焼入体1が移動してきて、暁入装置7の直上に配置され
て下降を開始するようにすれば、被焼入体1の蓮続焼入
作業が可能となる。
焼入体1が移動してきて、暁入装置7の直上に配置され
て下降を開始するようにすれば、被焼入体1の蓮続焼入
作業が可能となる。
また、高周波競入装置Dが有底円筒体1′の最項部1′
b傍位置で停止している上記所定時間などについては、
被焼入体1′の大きさなどの糠入条件に応じて最適値に
設定する。次に、第6図及び第7図は各々本発明の第2
実施例及び第3実施例を示し、両実施例とも高周波競入
の基本的方法は第1実施例と同様であるが、図示の如く
、各実施例の高周波競入方法に使用する高周波焼入装置
の構成が異なっている。
b傍位置で停止している上記所定時間などについては、
被焼入体1′の大きさなどの糠入条件に応じて最適値に
設定する。次に、第6図及び第7図は各々本発明の第2
実施例及び第3実施例を示し、両実施例とも高周波競入
の基本的方法は第1実施例と同様であるが、図示の如く
、各実施例の高周波競入方法に使用する高周波焼入装置
の構成が異なっている。
第6図に示す第2実施例に係る高周波嫌入袋暦〇は、加
熱手段10と、第1冷却手段としての第1冷却ジャケッ
ト11と、第2冷却手段としての第2冷却ジャケット1
8とを備え、上記第1実施例における第2冷却手段とし
ての放液管12に相当するものとして、第2冷却ジャケ
ット18を設けたものである。
熱手段10と、第1冷却手段としての第1冷却ジャケッ
ト11と、第2冷却手段としての第2冷却ジャケット1
8とを備え、上記第1実施例における第2冷却手段とし
ての放液管12に相当するものとして、第2冷却ジャケ
ット18を設けたものである。
第2冷却ジャケット18は、第1冷却ジャケット1 1
の下部(競入装置D′の進行方向における後方)に一体
に設けられており、内部に中空部181を形成した薄肉
壁182には、放射状に、かつ暁入装置D′の進行方向
上方に向けて冷却液のノズル183が所定数穿設されて
いる。
の下部(競入装置D′の進行方向における後方)に一体
に設けられており、内部に中空部181を形成した薄肉
壁182には、放射状に、かつ暁入装置D′の進行方向
上方に向けて冷却液のノズル183が所定数穿設されて
いる。
また、第2冷却ジャケット18から下方には、冷却液圧
送管19が延びており、図示しない適宜な冷却液圧送手
段に連絡されるとともに、該管19の中途には電磁弁(
図示せず)が設置されている。
送管19が延びており、図示しない適宜な冷却液圧送手
段に連絡されるとともに、該管19の中途には電磁弁(
図示せず)が設置されている。
上記第2冷却ジャケット18以外の構成は、上記第1実
施例と同様である。
施例と同様である。
しかして本実施例の高周波競入方法においても、有底筒
状体1′の最頂部1′b近傍まで焼入装置D′が移動し
た時貼で、該嫌入装置D′を所定時間停止させ、高周波
加熱コイル13は通電状態に保ち、最頂部近傍の未暁入
部分17が充分加熱された後に、冷却液圧送管19の電
磁弁を作動させて上記第2冷却ジャケット18のノズル
183から上方の未暁入部分17に向けて冷却液を噴射
し、所定の焼入れを施すものである。
状体1′の最頂部1′b近傍まで焼入装置D′が移動し
た時貼で、該嫌入装置D′を所定時間停止させ、高周波
加熱コイル13は通電状態に保ち、最頂部近傍の未暁入
部分17が充分加熱された後に、冷却液圧送管19の電
磁弁を作動させて上記第2冷却ジャケット18のノズル
183から上方の未暁入部分17に向けて冷却液を噴射
し、所定の焼入れを施すものである。
なお、第2冷却ジャケット18から冷却液を噴射させる
ときには、第1冷却ジャケット11からの冷却液の噴出
圧力を低下させて、第2冷却ジャケット18からの冷却
液の噴射に支障がないようにする。
ときには、第1冷却ジャケット11からの冷却液の噴出
圧力を低下させて、第2冷却ジャケット18からの冷却
液の噴射に支障がないようにする。
次に、第7図に示す本発明の第3実施例に係る高周波糠
入装置D′は、加熱手段10と、第1冷却ジャケット1
1と、第2冷却手段とを備えている。
入装置D′は、加熱手段10と、第1冷却ジャケット1
1と、第2冷却手段とを備えている。
本実施例における第2冷却手段は、加熱手段10を構成
する磁性体14内に、高周波加熱コイル13の上下位置
で中空部20を形成し、該中空部20の外周面に放射状
、かつ略水平にノズル201を所定数穿設し、かつ上下
の中空部20a,20bの各々に冷却液を送給する圧送
管21を蓮通させ、該圧送管21の中途に電磁弁(図示
せず)を設置するとともに、端部を図示しない適宜な冷
却液送給手段に連結して形成されている。
する磁性体14内に、高周波加熱コイル13の上下位置
で中空部20を形成し、該中空部20の外周面に放射状
、かつ略水平にノズル201を所定数穿設し、かつ上下
の中空部20a,20bの各々に冷却液を送給する圧送
管21を蓮通させ、該圧送管21の中途に電磁弁(図示
せず)を設置するとともに、端部を図示しない適宜な冷
却液送給手段に連結して形成されている。
高周波糠入装置D″のその他の構成は、上記第1実施例
と同様である。
と同様である。
上記高周波焼入装置D″を用いた本実施例に係る高周波
競入方法も、その要旨は第1及び第2実施例と同様であ
るが、暁入装置〇′が有底円筒体1′の最頂部1′b近
傍で停止し、該最頂部10近傍の内周面の禾糠入部分1
7を加熱した後に、電磁弁の作用により、冷却液が圧送
管21から上記中空部20a及び20bに送られ、ノズ
ル201から上記禾暁入部分17に冷却液が噴射される
点が異なる。
競入方法も、その要旨は第1及び第2実施例と同様であ
るが、暁入装置〇′が有底円筒体1′の最頂部1′b近
傍で停止し、該最頂部10近傍の内周面の禾糠入部分1
7を加熱した後に、電磁弁の作用により、冷却液が圧送
管21から上記中空部20a及び20bに送られ、ノズ
ル201から上記禾暁入部分17に冷却液が噴射される
点が異なる。
しかして、上記第2実施例及び第3実施例とも上記第1
実施例におけると同様に、有底円筒体1′の最頂部1′
b近傍まで内周面9全面を一様に焼入れすることができ
る。
実施例におけると同様に、有底円筒体1′の最頂部1′
b近傍まで内周面9全面を一様に焼入れすることができ
る。
なお、上記各実施例では彼暁入体として有底円筒体を例
示したが、有底筒状のものであれば他の任意断面のもの
に適用しうる。
示したが、有底筒状のものであれば他の任意断面のもの
に適用しうる。
また、等しい肉厚を有する断面のものに限らず、不等肉
厚部を有する被焼入体、例えばトリポード型自在薮手の
ハウジング部材などにも適用でき、この場合には、その
内面形状に対応して上記高周波蛭入装置の形状を設計変
更すればよい。さらに、上記各実施例においては、被焼
入体が昇降し、高周波焼入装置は固定されている例を示
したが、その逆の構成でもよく、また両者が同時に移動
しうるものであってもよく、要は有底筒状体の最頂部近
傍まで相対的な移動が可能で、かつ最頂部近傍位置で所
定時間停止しうる構成であればよい。
厚部を有する被焼入体、例えばトリポード型自在薮手の
ハウジング部材などにも適用でき、この場合には、その
内面形状に対応して上記高周波蛭入装置の形状を設計変
更すればよい。さらに、上記各実施例においては、被焼
入体が昇降し、高周波焼入装置は固定されている例を示
したが、その逆の構成でもよく、また両者が同時に移動
しうるものであってもよく、要は有底筒状体の最頂部近
傍まで相対的な移動が可能で、かつ最頂部近傍位置で所
定時間停止しうる構成であればよい。
また、上記第2冷却手段については、上述した実施例の
他に、例えば中空状の高周波加熱コイルの壁面のうち被
焼入面と対僻する面に沿って放射状に冷却液噴出用のノ
ズルを穿設し、該コイルの内部冷却に加えて、上記ノズ
ルから有底筒状体の最頂部近くの未加熱部分に冷却液を
噴射させるように構成したものでもよい。
他に、例えば中空状の高周波加熱コイルの壁面のうち被
焼入面と対僻する面に沿って放射状に冷却液噴出用のノ
ズルを穿設し、該コイルの内部冷却に加えて、上記ノズ
ルから有底筒状体の最頂部近くの未加熱部分に冷却液を
噴射させるように構成したものでもよい。
上述した如く構成された本発明にあっては、被競入体た
る有底筒状体をその開○端を下方に向けて配設し、その
直下に配設された上記高周波加熱コイルが、有底筒状体
との相対的移動により該有底筒状体内の最頂部に達した
後も所定時間通電状態を保ち、該最頂部近傍の内周面が
充分加熱された後に通電を停止し、該被加熱部に対し上
記第1冷却手段とは別に設けた第2冷却手段により冷却
液を噴射、冷却することにより、上記最頂部近傍まで上
記内周面を焼入れするようにしたことにより、従来不可
能であった有底筒状体の最頂部近傍まで内面の一様な焼
入れが可能となり、被焼入体としての有底筒状体の製品
価値、強度などを格段に向上することができる。
る有底筒状体をその開○端を下方に向けて配設し、その
直下に配設された上記高周波加熱コイルが、有底筒状体
との相対的移動により該有底筒状体内の最頂部に達した
後も所定時間通電状態を保ち、該最頂部近傍の内周面が
充分加熱された後に通電を停止し、該被加熱部に対し上
記第1冷却手段とは別に設けた第2冷却手段により冷却
液を噴射、冷却することにより、上記最頂部近傍まで上
記内周面を焼入れするようにしたことにより、従来不可
能であった有底筒状体の最頂部近傍まで内面の一様な焼
入れが可能となり、被焼入体としての有底筒状体の製品
価値、強度などを格段に向上することができる。
第1図乃至第3図は従来の高周波焼入方法を示す説明図
、第4図及び第5図は本発明の第1実施例を示し、第4
図は高周波嫌入装置が有底筒状体の最頂部近傍で停止し
た状態を示す要部縦断面図、第5図は第4図のB−B線
断面図、第6図及び第7図は各々本発明の第2実施例及
び第3実施例を示す要部縦断面図である。 1,1′・・・・・・有底筒状体、1′b・・・・・・
最項部、9・・・・・・内周面、10・・・・・・加熱
手段、11・・・・・・第1冷却手段、12・・・・・
・放液管(第2冷却手段)、13・・・・・・高周波加
熱コイル、14・・・・・・磁性体、18・・・.・・
第2冷却ジャケット。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図
、第4図及び第5図は本発明の第1実施例を示し、第4
図は高周波嫌入装置が有底筒状体の最頂部近傍で停止し
た状態を示す要部縦断面図、第5図は第4図のB−B線
断面図、第6図及び第7図は各々本発明の第2実施例及
び第3実施例を示す要部縦断面図である。 1,1′・・・・・・有底筒状体、1′b・・・・・・
最項部、9・・・・・・内周面、10・・・・・・加熱
手段、11・・・・・・第1冷却手段、12・・・・・
・放液管(第2冷却手段)、13・・・・・・高周波加
熱コイル、14・・・・・・磁性体、18・・・.・・
第2冷却ジャケット。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 第7図
Claims (1)
- 1 高周波加熱コイルと有底筒状体とを相対的に移動さ
せながら該筒状体の内周面を加熱し、該加熱直後に被加
熱部に対し、所定の冷却手段により冷却液を噴射して、
上記内周面に焼入れを施す高周波焼入方法において、上
記有底筒状体をその開口端を下方に向けて配設し、その
直下に配設された上記高周波加熱コイルが、上記相対的
移動により有底筒状体内の最頂部に達した後も所定時間
通電状態を保ち、該最頂部近傍の内周面が充分加熱され
た後に通電を停止し、該被加熱部に対し上記第1冷却手
段とは別に設けた第2冷却手段により冷却液を噴射、冷
却することにより、上記最頂部近傍まで上記内周面を焼
入れすることを特徴とする有底筒状体内面の高周波焼入
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57095370A JPS6039136B2 (ja) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | 有底筒状体内面の高周波焼入方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57095370A JPS6039136B2 (ja) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | 有底筒状体内面の高周波焼入方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58213828A JPS58213828A (ja) | 1983-12-12 |
| JPS6039136B2 true JPS6039136B2 (ja) | 1985-09-04 |
Family
ID=14135737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57095370A Expired JPS6039136B2 (ja) | 1982-06-03 | 1982-06-03 | 有底筒状体内面の高周波焼入方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6039136B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5938332A (ja) * | 1982-08-28 | 1984-03-02 | High Frequency Heattreat Co Ltd | 移動焼入れによる閉端面を有する筒体の内周壁全長焼入れ装置 |
| JPS59153828A (ja) * | 1983-02-19 | 1984-09-01 | High Frequency Heattreat Co Ltd | 焼入装置 |
| JPS6063552U (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-04 | トヨタ自動車株式会社 | 有底筒体内面に対する移動式高周波焼入装置 |
| JP4781578B2 (ja) * | 2001-09-21 | 2011-09-28 | 電気興業株式会社 | 内部に複数の溝部を有する筒状体内面の高周波焼入方法 |
| JP2007294165A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | High Frequency Heattreat Co Ltd | 円筒部材内面の誘導加熱焼入用コイル |
| JP5813385B2 (ja) * | 2011-06-14 | 2015-11-17 | Ntn株式会社 | 熱処理方法及び熱処理装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5468710A (en) * | 1977-11-11 | 1979-06-02 | Koshuha Netsuren Kk | High frequency quenching method and apparatus of peripheral inner surface of cylinder having closed end |
| JPS6047326B2 (ja) * | 1979-06-08 | 1985-10-21 | エヌ・テ−・エヌ東洋ベアリング株式会社 | 等速度自在継手外輪の受口部内表面焼入れ方法 |
-
1982
- 1982-06-03 JP JP57095370A patent/JPS6039136B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58213828A (ja) | 1983-12-12 |
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