JPS603900A - 小型サイクロトロン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産−７−１−の利用分野 、二の発明１１小型号イク＋：＋　トし１ンに関する。

（ＩＩ）ｆＪＹ来技術 ｉｌＣ上の小型ティク１１トロンにおいＣ１そのイオン
ソースはｊ４空加速チア、ンバ内部に縦型のザボーｉ・
又は１・ｖ更型のザボートによっ゛Ｃ中数１＋７ｉ１の
み設置されている。

しかし−〇、−１Ｉイクロトロン構成要素のうら、イオ
ンソースはアークブラスマのスパッタリングによる１１
％圧電極Ｏ月１１耗や、スパッタされた金属による前記
電極とイオンソースの外管間の絶縁不良などにより、そ
の寿命は限られている。そのため、高圧電極を交換する
等の煩わしい藤作を頻繁におこなわなければならないと
いう欠点がある。また、前記交換作業等にはチェンバ内
部の残留放射能による被曝を伴うから、安全上の見地か
らも、かかる作業をできるだけ少なくしたいという要請
かある。

また、従来の小型サイクロトロンは、−個のイオンソー
スによるものであるため、長時間連続してビームを得た
い場合や、ｊ口ｉ出力ビームを１９だい場合などには、
その信頼性に欠けるという問題もある。

（ハ）目的 この発明は、電極交換等の作業！ｎ度を低減できるとと
もに、商い（ｉ卸性のもとに長時間ｊ＋続し−（ビー云
を得ることができる小型ザイクＩｌ’ｌ・１：１ンを提
供することを目的とし゛（いる。

また、この発明の他の目的は、高山カビ−ｊ、を容易に
ｉＭることができる小型ザイクＣ１トロンを１］、３供
することにある。　゛ （ニ）構成 この発明に係る小型サイクロトロンは、円周に沿−て等
間隔に配設された複数のディに関連し°ζ＋’＋ｉｉ記
円周と略同心で中心部に近い円周上に前記ディと間数の
イオンソースを等間隔に設けたことを特徴とし°ζいる
。

（ボ）実施例 第１１ツ＋＋−１この発明に係る小型サイクロトロンの
一実施例−内部を平面視し６た説明図である。

図においヱ、１１．１２は加速用の電極であるディであ
り、ディ１１１２は円周に沿っ゛ζ等間隔に配設されて
いる。即ち、この場合の加速周期の等時性の原理による
円周方向の幾何学的対称性の軸７０は一本である。

２１．２２は接地されたダミーディであっζ、前記ディ
ＩＬ　１２の間に若干の間隙を設けて配設される。

ディ１１．１２及びダミーディー２Ｌ　２２はそれぞれ
対面する電極構造を備え、０ｉ１記電極電極所謂加速空
洞を形成している。

３１３２はイオンソース４Ｌ　４２からイオンを引き出
すためにディ１１．１２の中心部近くに設けられるプラ
ーある。

イオンソース４１．４２は、ディ１１．１２が設けられ
る円周と略同心で中心部に近い円周上に等間隔に配設さ
れ、前記プラー３１．３２と対向している。

上述した如きディやダミーディ等は真空加速チェンバ６
０内に収納され“ζいる。

しかして、イオンソース４１４２に発生したイオンは、
高周波電圧を印可されたプラー３１．３２により取り出
されて、同じく高周波電圧が印可されたディ１１．１２
、接地されたダミーディー２１．２２を通過する。前記
イオンは、イオンソース４１．４２とプラー３１．３２
との間、及びディ１１１２とダミーディ２１．２２との
間で加速される。一方、同図の紙面に対して垂直な方向
に磁界があたえられているので、前記加速されたイオン
の軌道５１．５２は螺旋状になる。

そして、外周近くまで加速されて移動してきたイオンは
、ダミーディ２１の加速空洞内に設けられ７い、□、い
ア４７□□、７．□１．ヘウ　１り出される。

第２図はこの発明の他の実施例であって５、イオンソー
スを３個備えた小型サイクロトロンを示し°ζいる。同
図において、■３〜１５はディ、２３〜２５はダミーデ
ィ、３３〜３５はプラー、４３〜４５はイオンソース、
５３〜５５はイオンの軌道、６ｏは真空加速チェンバで
ある。

即ち、同図に示した小型サイクロトロンは、その加速周
期の等時性の原理による円周方向の幾何学的対称性の軸
は、７１．７２．７３に示ずように３木である。そし“
Ｃ１各イオンソース４３〜４５がら取り出されたイオン
は第１図で説明したと同様の過程を経“ＣＩＪ！Ｉ旋軌
道を描きつつ加速されて、外部へ導出される。

（へ）効果 、“二の発明は初数のディ、ダミーディ等に対応しＣ１
これらと同数のイオンソースを備えるものＣあるから、
例えば、一個のイオンソースのみを動作さ一１゛ζ、伯
のイオンソースはバンクアップとし°ζ用いることによ
りｆＭ’来の装置より長時間（第１図に示した実施例の
ものでは２倍、第２図に示したものにあっては３倍）連
続ビームを高い借り・１性のもとに得ることできる。

また、これにともない電極交換等の作業の頻度の低減、
さらには、被曝の防止を達成することができる。

また、この発明によれば、複数個のイオンソースから同
時にイオンを発生させることができるから、従来の装置
よりも高出力のビーム（第１図に示した実施例のもので
は２倍、第２図に示したものにあっては３倍）を容易に
得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明に係る小型サイクロトロンの一実施例
、第２図は他の実施例を示す説明し１ある。 １１〜１５・　・　・ディ、２１〜２５・　・　・ダミ
ーディ、３１〜３５・・・・プラー、４１〜４５・・・
イオンソース、５１〜５５・・・イオンの軌道、６ｏ・
・・真空加速チェンバ、７０〜７３・・・円周方向の幾
何学的対称軸。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 四）円周に沿って等間隔に配設された複数のディに関連
   し−（前記円周と略同心で中心部に近い円周−１にｒｉ
   ｉｉ記ディと同数のイオンソースを等間１’ｒ１４に設
   も１）こことをＱ’ｌ徴とする小型サイクロトロン。