JPS603709B2 - semiconductor storage device - Google Patents

semiconductor storage device

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JPS603709B2
JPS603709B2 JP55012658A JP1265880A JPS603709B2 JP S603709 B2 JPS603709 B2 JP S603709B2 JP 55012658 A JP55012658 A JP 55012658A JP 1265880 A JP1265880 A JP 1265880A JP S603709 B2 JPS603709 B2 JP S603709B2
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JP
Japan
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sense amplifier
storage section
node
level
information
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JP55012658A
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建一 長尾
智隆 斉藤
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/06Sense amplifiers; Associated circuits, e.g. timing or triggering circuits
    • G11C7/067Single-ended amplifiers

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は絶縁ゲート型電界効果トランジスタによって
構成され、情報の読み出しを専用で行なう半導体記憶装
置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device constructed of insulated gate field effect transistors and exclusively used for reading information.

近年、種々の電子回路の高速化に伴ない、固定記憶回路
(ROM)に対してもより高速なものが望まれている。
In recent years, as various electronic circuits have become faster, faster fixed memory circuits (ROMs) have also been desired.

第1図は従来のROMのブロック礎成図である。11は
情報が固定的に記憶されている記憶部であり、アドレス
入力が与えられるとこの記憶部11はそのアドレスに対
応した情報を読み出す。
FIG. 1 is a block diagram of a conventional ROM. Reference numeral 11 denotes a storage section in which information is fixedly stored, and when an address input is given, this storage section 11 reads out information corresponding to the address.

上記記憶部11から読み出された情報はセンスアンプ1
2に送られ、ここで藷出情報が検出される。第2図は上
記従来のROMを具体化したものであり、ここではC‐
MOS構成のダイナミック型ROMが示されている。
The information read from the storage section 11 is stored in the sense amplifier 1.
2, where the output information is detected. Figure 2 is a concrete example of the conventional ROM mentioned above, and here it is shown as C-
A dynamic ROM having a MOS configuration is shown.

なお図において第1図と対応する箇所には同一符号を付
してある。また第3図は第2図に示す回路の動作を示す
波形図である。いま?T,が○(V)になっているOT
,のプリチャージ期間にアドレス入力信号AD,〜AD
nのレベルが定まるのと並行して、記憶部11内のNチ
ャネル型MOSトランジスタ13が導適する。上記トラ
ンジスタ13が導逸すると、このトランジスタ13を介
してコンデンサ14に一E(V)が与えられるため、T
,の期間ではこのコンデンサ14にプリチャージが行な
われて負の電荷が与えられ、ノード15のレベルは一E
(V)となる。さらにこのときセンスアンプ12の出力
16は○(V)となっている。次に◇T,が−E(V)
になる情報検出期間T2ではトランジスタ13は非導通
となり、他方、記憶部11内のPチャネル型MOSトラ
ンジスタ17が導適する。そしてこのT2の期間にアド
レス入力AD,〜ADnのうち少なくとも一つが○(V
)になっていれば、コンデンサ14に蓄えられた負電荷
は○(V)点に放電されることなくノード15はダイナ
ミックに一E(V)を保持する。したがってセンスアン
プ12の出力16は○(V)のままであり、この場合“
1”レベルの情報が検出されたことになる。またT2の
期間にアドレス入力AD,〜ADnのすべてが‐E(V
)であると、コンデンサ14に蓄えられた負電荷は、A
D,〜ADnをゲート入力とするPチャネル型MOSト
ランジスター8,〜18nおよびトランジスタ17を介
して放電され、ノード15のレベルはこの放電の時定数
丁の時間かかって○(V)に変化する。この変化の途中
、ノード15のレベルがセンスアンプ12の回路しきい
値電圧V地に到達すると、センスアンプ12の出力16
は反転して‐E(V)になる。すなわちこの場合には“
0”レベルの情報が検出されたことになる。このように
ROMから情報が読み出される速度は、コンデンサー4
の容量とトランジスタ18,〜18nおよび17の直列
抵抗による時定数?およびセンスアンプ12の回路しき
い値電圧に大きく依存する。
In the figure, parts corresponding to those in FIG. 1 are given the same reference numerals. Further, FIG. 3 is a waveform diagram showing the operation of the circuit shown in FIG. 2. now? OT where T, is ○(V)
, address input signals AD, ~AD during the precharge period of ,
In parallel with the determination of the level of n, the N-channel MOS transistor 13 in the storage section 11 becomes conductive. When the transistor 13 conducts, 1 E (V) is applied to the capacitor 14 through the transistor 13, so T
, the capacitor 14 is precharged and given a negative charge, and the level of the node 15 is 1E.
(V). Furthermore, at this time, the output 16 of the sense amplifier 12 is ◯ (V). Then ◇T, is -E(V)
During the information detection period T2, the transistor 13 becomes non-conductive, while the P-channel MOS transistor 17 in the storage section 11 becomes conductive. During this period of T2, at least one of the address inputs AD, ~ADn is ○(V
), the negative charge stored in the capacitor 14 is not discharged to the ○(V) point, and the node 15 dynamically maintains 1E(V). Therefore, the output 16 of the sense amplifier 12 remains at ○(V), and in this case “
1" level information has been detected. Also, during the period T2, all of the address inputs AD, ~ADn become -E(V
), the negative charge stored in the capacitor 14 is A
The node 15 is discharged through the P-channel MOS transistors 8, -18n, which have gate inputs D, -ADn as gate inputs, and the transistor 17, and the level of the node 15 changes to .largecircle. (V) over the time constant of this discharge. During this change, when the level of the node 15 reaches the circuit threshold voltage V of the sense amplifier 12, the output 16 of the sense amplifier 12
is reversed and becomes -E(V). In other words, in this case “
0" level information has been detected. The speed at which information is read from the ROM in this way is determined by the capacitor 4.
What is the time constant due to the capacitance of and the series resistance of transistors 18, ~18n and 17? and depends largely on the circuit threshold voltage of the sense amplifier 12.

そこで従来では、ROMの高速化を計るために次のよう
な対策がとられている。{a} コンデンサ14からの
放電の時定数丁をづ・さくする。【bー センスアンブ
12の回路しきい値電圧を工夫するしかしながら‘a’
の対策をするにはコンデンサ14の容量を小さくし、さ
らにトランジスタ18・〜18nおよび17の導通抵抗
を4・さくする事の他に方法はなく、今後一段と要求が
強くなると思われるROMの大容量化は上記容量および
導通抵抗を逆に大きくする方向にある。
Conventionally, the following measures have been taken to increase the speed of the ROM. {a} Reduce the time constant of discharge from the capacitor 14. [b- Devise the circuit threshold voltage of sense amplifier 12However, 'a'
The only way to counter this is to reduce the capacitance of the capacitor 14 and further reduce the conduction resistance of the transistors 18-18n and 17 by 4. On the contrary, this tends to increase the capacitance and conduction resistance.

したがって無制限に時定数を4・さくすることはできな
い。また‘b1のセンスアンプ12の改良に関しては、
回路構成が複雑になってチップ面積が増大する事や、製
造上の種々のマージンを狭くする等大きなデメリットを
有する。このように従釆のROMでは種々の改良が行な
われているにもかかわらず、それだけの成果が上げられ
ているとは云い難いものがある。
Therefore, the time constant cannot be reduced by 4 points without limit. Regarding the improvement of the sense amplifier 12 of 'b1,
This has major disadvantages, such as the circuit configuration becoming complicated and the chip area increasing, and various manufacturing margins being narrowed. Although various improvements have been made in the conventional ROM, it is difficult to say that much has been achieved.

これは記憶部11の出力を直接センスアンプ12の入力
としたために起こるものであり、記憶部11の出力レベ
ルを早くセンスアンプ12の回路しきい値電圧Vth,
に近づけねばならず、またセンスアンプ12の回路しき
い値電圧VtMを記憶部11の出力レベルへと近づけね
ばならないという事情によるものである。この発明は上
記のような事情を考慮してなされたものであり、この目
的は、構成が簡単で大容量化に適し、しかも情報の読み
出しの高速化が計れる半導体記憶装置を提供することに
ある。
This occurs because the output of the memory section 11 is directly input to the sense amplifier 12, and the output level of the memory section 11 is quickly adjusted to the circuit threshold voltage Vth of the sense amplifier 12,
This is because the circuit threshold voltage VtM of the sense amplifier 12 must be brought close to the output level of the storage section 11. This invention has been made in consideration of the above circumstances, and its purpose is to provide a semiconductor memory device that has a simple configuration, is suitable for increasing capacity, and is capable of speeding up information readout. .

以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第4図はこの発明の半導体記憶装置をC‐MOS構成の
ダイナミック型ROMに実施した場合の構成図であり、
前記第2図と対応する箇所には同一符号を付してその説
明は省略する。したがって第2図と異なった箇所のみの
構成を説明する。図において記憶部11の出力様子すな
わちノード15とセンスアンプ12の入力端子すなわち
ノード19との間にはコンデンサ20が接続される。ま
た上記/ード19には抵抗21の一端が接続され、さら
にこの抵抗21の他端と−E(V)印加点との間には、
前記トランジスタ13のゲートに与えられる信号J?,
をゲート入力とするNチャネル型MOSトランジスタ2
2が接続される。同様に上記ノード19には抵抗23の
一端が接続され、さらにこの抵抗23の他端と0(V)
印加点との間には、?T,と相補対をなす信号JT,を
ゲート入力するPチャネル型MOSトランジスタ24が
接続される。上記抵抗21,23それぞれとトランジス
タ22,24それぞれとからなる一対の直列回路は、ノ
ード19のレベルをセンスアンプ12の回路しきい値電
圧Vth,よりもわずかに低いレベル‐Eo(V)に設
定するための電圧設定回路25を構成している。すなわ
ち、上記電圧設定回路25内のトランジスタ22,24
が導通すると、ノード19のレベルは抵抗21とトラン
ジスタ22の導通抵抗との和の抵抗R,および抵抗23
とトランジスタ24の導通抵抗との和の抵抗R2の比に
よって決定されるものであり、このR,,R2の比はノ
ード19のレベルが上記のような値となるように予め設
定されているものである。次に上記のように構成された
回路の動作を、第5図の波形図を参照して説明する。
FIG. 4 is a configuration diagram when the semiconductor memory device of the present invention is implemented in a dynamic ROM having a C-MOS configuration.
The same reference numerals are given to the parts corresponding to those in FIG. 2, and the explanation thereof will be omitted. Therefore, only the configurations different from those in FIG. 2 will be explained. In the figure, a capacitor 20 is connected between the output of the storage section 11, that is, the node 15, and the input terminal of the sense amplifier 12, that is, the node 19. Further, one end of a resistor 21 is connected to the / lead 19, and between the other end of this resistor 21 and the -E(V) application point,
The signal J? applied to the gate of the transistor 13? ,
N-channel MOS transistor 2 whose gate input is
2 is connected. Similarly, one end of a resistor 23 is connected to the node 19, and the other end of this resistor 23 is connected to a voltage of 0 (V).
What is there between the application point and the application point? A P-channel MOS transistor 24 is connected to the gate of which a signal JT, which forms a complementary pair with T, is input. A pair of series circuits consisting of the resistors 21 and 23 and the transistors 22 and 24 set the level of the node 19 to a level - Eo (V) slightly lower than the circuit threshold voltage Vth of the sense amplifier 12. A voltage setting circuit 25 is configured for this purpose. That is, the transistors 22 and 24 in the voltage setting circuit 25
becomes conductive, the level of the node 19 becomes equal to the resistance R, which is the sum of the resistance 21 and the conduction resistance of the transistor 22, and the resistance 23.
and the conduction resistance of the transistor 24, which is determined by the ratio of the resistance R2, which is set in advance so that the level of the node 19 becomes the above value. It is. Next, the operation of the circuit configured as described above will be explained with reference to the waveform diagram of FIG.

先ず、信号OT,が○(V)となっているT,のブリチ
ャージ期間では、トランジスター3が導通し、トランジ
スタ17が非導通となるから、コンデンサ14には‐E
(V)によりプリチャージされ負電荷が充電されて、ノ
ード15のレベルは‐E(V)となる。またT,の期間
、電圧設定回路25内のトランジスタ22,24はとも
に導適しているため、ノード19のレベルはセンスアン
プ25の回路しきい値電圧T側よりもわずかに低いレベ
ル‐Eo(V)に設定される。したがってこのときセン
スアンプ12の出力16は○(V)である。さらにT,
の期間、ノード15のレベルは−E(V)、ノード19
のレベルは‐Eo(V)にそれぞれ設定されるため、コ
ンデンサ20の両端間の電位差△Vは最終的にIE一E
olに到達する。次に信号でT,が一E(V)となるL
の情報検出期間では、電圧設定回路25内のトランジス
タ22,24がともに非導通となり、ノード19は△V
の電位菱を持つコンデンサ20を介してノード15に結
合されているだけとなる。さらにT2の期間では、記憶
部11内のトランジスタ13が非導通、トランジスタ1
7が導通となるため、コンデンサ14への充電は停止し
、逆にコンデンサ14からの放電が可能となる。このと
きアドレス入力AD,〜ADnをゲート入力とする記憶
部11内のトランジスタ18,〜18nのうち少なくと
も一つでも非導通となるものがあれば、予め充電された
コンデンサー4は放電が行なわれず、ノード15は一E
(V)のまま変化しない。したがってこのときセンスア
ンプ12の出力16は○(V)のままである。一方T2
の期間にトランジスタ181〜18nがすべて導適すれ
ば、記憶部11内に放電経路が形成され、コンデンサ1
4に蓄積されていた負電荷が放電される。したがってこ
のときノード15のレベルは放電の時定数丁を費して○
(V)に到達する。さらに次に上記コンデンサー4から
放電が行なわれるときの動作を詳細に説明する。
First, during the precharging period of T, when the signal OT is at ○ (V), the transistor 3 is conductive and the transistor 17 is non-conductive, so the capacitor 14 has -E.
(V), the node 15 is precharged with negative charges, and the level of the node 15 becomes -E(V). Also, during the period T, both transistors 22 and 24 in the voltage setting circuit 25 are conductive, so the level at the node 19 is at a level -Eo (V ) is set. Therefore, at this time, the output 16 of the sense amplifier 12 is ○(V). Furthermore, T,
During the period, the level of node 15 is -E(V), node 19
Since the level of is set to -Eo (V), the potential difference △V between both ends of the capacitor 20 is finally IE-E
Reach ol. Next, in the signal, T becomes 1 E (V).
During the information detection period, both transistors 22 and 24 in the voltage setting circuit 25 become non-conductive, and the node 19 becomes ΔV.
It is simply coupled to node 15 via capacitor 20 having a potential of . Further, during the period T2, the transistor 13 in the storage section 11 is non-conductive, and the transistor 1
7 becomes conductive, charging of the capacitor 14 is stopped, and conversely, discharging from the capacitor 14 becomes possible. At this time, if at least one of the transistors 18, - 18n in the storage unit 11 whose gate inputs are address inputs AD, -ADn becomes non-conductive, the pre-charged capacitor 4 is not discharged. Node 15 is one E
It remains unchanged at (V). Therefore, at this time, the output 16 of the sense amplifier 12 remains ○(V). On the other hand, T2
If all the transistors 181 to 18n become conductive during the period, a discharge path is formed in the storage section 11, and the capacitor 1
The negative charges accumulated in 4 are discharged. Therefore, at this time, the level of node 15 is ○
(V) is reached. Next, the operation when the capacitor 4 is discharged will be explained in detail.

前記したようにT2の期間ではトランジスタ22,24
がともに非導通となり、ノード19への新たな電荷の供
給が行なわれないため、第5図に示すように△Vの電位
差を保ちノード15のレベル変化に追随して、ノード1
9のレベルは○(V)に向って変化していく。このとき
ノード19の初期レベルは前記したように、センスアン
プ12の回路しきい値電圧V山,よりもわずかに低いレ
ベル‐Eo(V)に設定されているから、ノード15の
レベル変化が始まると、わずかな期間が経過した後に/
ード19のレベルはセンスアンプ12のしきい値電圧V
th,に到達する。すなわち、記憶部11においてコン
デンサ14からの放電が開始されると、ノード15のレ
ベルがVth,に到達するよりはるかに早くセンスアン
プ12の出力16が反転することになる。この放電開始
からセンスアンプ12の出力16が反転するまでに要す
る時間は、電圧設定回路25における初期設定レベル−
Eo(V)とセンスアンプ12のV肌との電位差を小さ
くするのに伴なつて短か〈なり、また電圧設定回路25
における初期レベル設定は自由に行なうことができる。
このように上記実施例によれば、コンデンサ14からの
放電時における時定数やセンスアンプ12の回路構成を
特に工夫することなく、記憶部11の出力端とセンスア
ンプ12の入力端との間にコンデンサ20を結合し、さ
らに電圧設定回路25を設けるという簡単な構成で、情
報の読み出し速度の高速化を計ることが可能である。
As mentioned above, during the period T2, the transistors 22 and 24
Since both become non-conductive and no new charge is supplied to node 19, as shown in FIG.
The level of 9 changes toward ○(V). At this time, as mentioned above, the initial level of node 19 is set to a level -Eo (V) that is slightly lower than the circuit threshold voltage V peak of sense amplifier 12, so the level of node 15 begins to change. And after a short period of time /
The level of the node 19 is the threshold voltage V of the sense amplifier 12.
th, is reached. That is, when discharge from the capacitor 14 starts in the storage section 11, the output 16 of the sense amplifier 12 is inverted much earlier than the level of the node 15 reaches Vth. The time required from the start of this discharge until the output 16 of the sense amplifier 12 is inverted is the initial setting level in the voltage setting circuit 25 -
As the potential difference between Eo (V) and the V skin of the sense amplifier 12 is reduced, the voltage setting circuit 25
You can freely set the initial level in .
In this way, according to the embodiment described above, the connection between the output end of the storage section 11 and the input end of the sense amplifier 12 can be made without any special devising of the time constant during discharging from the capacitor 14 or the circuit configuration of the sense amplifier 12. With a simple configuration in which a capacitor 20 is coupled and a voltage setting circuit 25 is further provided, it is possible to increase the speed of reading information.

しかもノード19の初期設定レベル‐Eo(V)とセン
スアンプ12の回路しきい値電圧Vth,との電位差を
を適当に設定することにより、記憶部11で使用する各
トランジスタの寸法を最小にすることが可能である。さ
らにセンスアンプ12の回路礎構成を特に工夫する必要
がないということは、単なるィンバータのみでセンスア
ンプを構成することができ、上記記憶部11内のトラン
ジスタの寸法の縮小化とあいまってチップ面積の縮小化
が可能であり、ROMの大容量化にも十分対処できるも
のである。なお、この発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、たとえば記憶部11において、アドレス入
力AD,〜ADnが与えられるトランジスタはPチャネ
ル型である場合について説明したが、これはNチャネル
型のもので構成しても良いことはもちろんである。
Moreover, by appropriately setting the potential difference between the initial setting level of the node 19 - Eo (V) and the circuit threshold voltage Vth of the sense amplifier 12, the dimensions of each transistor used in the storage section 11 can be minimized. Is possible. Furthermore, the fact that there is no need to particularly devise the circuit configuration of the sense amplifier 12 means that the sense amplifier can be configured with only a simple inverter, which, together with the reduction in the dimensions of the transistors in the storage section 11, reduces the chip area. It can be downsized and can sufficiently cope with increasing the capacity of ROM. Note that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments. For example, in the storage unit 11, the transistors to which address inputs AD, to ADn are applied are P-channel type transistors, but this is an N-channel type transistor. Of course, it may be composed of other things.

以上、説明したようにこの発明の半導体記憶装置は、構
成が簡単で大容量化に通し、しかも情報の読み出しの高
速化を計ることができる。
As described above, the semiconductor memory device of the present invention has a simple structure, can increase capacity, and can read information at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のROMのブロック構成図、第2図は上記
ROMを具体的に示す構成図、第3図はその動作を示す
波形図、第4図はこの発明の一実施例の構成図、第5図
はその動作を示す波形図である。 11・・・記憶部、12…センスアンプ、13,22…
Nチャネル型MOSトランジスタ、14,′20…コン
デンサ、17,18,〜18n,24…Pチャネル型M
OSトランジスタ、21,22…抵抗、25・・・電圧
設定回路。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図
FIG. 1 is a block configuration diagram of a conventional ROM, FIG. 2 is a configuration diagram specifically showing the above-mentioned ROM, FIG. 3 is a waveform diagram showing its operation, and FIG. 4 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention. , FIG. 5 is a waveform diagram showing the operation. 11... Storage unit, 12... Sense amplifier, 13, 22...
N-channel type MOS transistor, 14,'20...Capacitor, 17,18,~18n,24...P-channel type M
OS transistor, 21, 22...resistor, 25...voltage setting circuit. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 情報記憶部およびセンスアンプを有し、この情報記
憶部においてプリチヤージが行なわれた後にセンスアン
プによって情報記憶部から読み出される情報を検出する
半導体記憶装置において、上記情報記憶部の情報出力端
と上記センスアンプの情報検出端との間に直列挿入され
るコンデンサと、上記プリチヤージ期間に上記センスア
ンプの情報検出端の電圧レベルをこのセンスアンプの回
路しきい値電圧レベル近傍に設定する電圧設定手段とを
具備したことを特徴とする半導体記憶装置。 2 前記電圧設定手段は電源の一方および他方それぞれ
と前記センスアンプの情報検出端との間に挿入され、前
記プリチヤージ期間に導通状態となるスイツチ素子と抵
抗からなる一対の直列回路で構成される特許請求の範囲
第1項に記載の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A semiconductor memory device having an information storage section and a sense amplifier, and detecting information read out from the information storage section by the sense amplifier after precharging is performed in the information storage section, wherein the information storage section A capacitor is inserted in series between the information output terminal of the sense amplifier and the information detection terminal of the sense amplifier, and during the precharge period, the voltage level of the information detection terminal of the sense amplifier is brought close to the circuit threshold voltage level of this sense amplifier. 1. A semiconductor memory device comprising voltage setting means for setting a voltage. 2. The voltage setting means is inserted between one and the other of the power supplies and the information detection terminal of the sense amplifier, and is constituted by a pair of series circuits consisting of a switch element and a resistor, which become conductive during the precharge period. A semiconductor memory device according to claim 1.
JP55012658A 1980-02-05 1980-02-05 semiconductor storage device Expired JPS603709B2 (en)

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EP0740307B1 (en) * 1995-04-28 2001-12-12 STMicroelectronics S.r.l. Sense amplifier circuit for semiconductor memory devices

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