JPS6034321Y2 - 化学装置のトレイ取付構造 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は化学装置におけるトレイ取付構造に関し、詳細
には装置の運転が高温又は低温で行なわれる様なトレイ
式気液接触装置あるいは気液分散トレイを有する脱硫装
置等に適用される化学装置（以下トレイ式装置という）
のトレイ取付構造の改良に関するものである。

トレイ式装置は一般に筒塔本体の内壁（以下１本体内壁
ヨという）に単段あるいは多数段のトレイを取り付けて
構成し、流体をトレイを通して移動させることにより、
気液接触あるいは気液分散の操作が行なわれるものであ
るから、このトレイには前記各種操作・反応時における
温度変化や圧力変化等に十分対応し得る様に取り付けら
れることが要望される。

ところで従来のトレイ取付構造は第１図（一部縦断面図
）及び第２図（第１図の右側面図）に示す様になってい
る。

即ちトレイ１はボルト２及びナツト３によりサポートリ
ング４に直接固定されており、サポートリング４は、サ
ポートラグ５を介して本体内壁６に固着されてる。

又サポートリング４はサポートラグ５の上端に溶接され
ると共に、サポートラグ５の裏面側が本体内壁６に溶接
されている。

尚サポートリング４の外側全周と本体内壁６との間には
リングパツキン７が挿入されており、気液のもれを防止
する様に構成されている。

従って、脱硫装置のように操作温度が高くなる様な装置
の場合、本体内壁６の材料とトレイ１あるいはサポート
リング４の材料との熱膨張係数が異なるめ、トレイ１と
サポートリング４には熱膨張によって外周方向に著しい
伸びが生じる。

しかるにサポートリング４はサポートラグ５によって本
体内壁６に固定されているためトレイ取付用ボルト２に
せん断及び曲げ応力が作用すると共に、サポートラグ取
付溶接部Ａに過大な熱応力が発生する。

特にサポートリング４が第３図に示した場合の様に分割
構造であると、熱膨張差が単位分割部両端のボルト２あ
るいはサポートラグ５に集中する。

即ち運転時の温度如何によってはボルト２が切断したり
曲がりを生じたり、或はサポートラグ取付溶接部Ａに重
列が生じて、トレイ取付構造を破損することがある。

その結果、装置内の流体流動状態は著しく乱れ、単に反
応処理効率を悪くするのみならず安全上の問題も惹起す
る。

本考案は上記の如き従来のトレイ式装置におけるトレイ
取付構造の有する欠点を除去するためになされたもので
あって、トレイとトレイサポートリングとをトレイ固定
用ボルトで本体内壁に固着した支持部材に間接的に取り
付けると共に該ボルトをトレイの熱膨張による伸びに追
随して取り付けたまま移動できる様にし、更にサポート
リングを支持部材（以下１サポートラグヨという）に溶
接することなく単にサポートラグ上に載置して自在に摺
動できる様にすることにより、装置の運転が高温あるい
は低温で行なわれてもトレイとトレイサポートリングと
の結合状態を良好に維持し且つリングパツキンのもれ防
止効果を保持し、更にサポートラグ取付溶接部に熱応力
を発生させることのないトレイ取付構造を提供すること
を目的とする。

この様な目的を達威し得た本考案の構成とは、装置本体
内壁に固定され且つ円筒状サポートリング受は部材を有
する複数のサポートラグ上に、複数のトレイ固定用ボル
ト貫通部を有するサポートリングを摺動自在に載置する
と共に、該リング上にトレイを載置せしめボルトをトレ
イ、円筒状サポートリング受は部材及びトレイ固定用ボ
ルト貫通部を貫通せしめてこれらを固着する一方、該ボ
ルトを前記サポートリング受は部材の下部で摺動自在に
取り付けられる様にした点に要旨が存在する。

以下本考案を実施例たる図面に基づいて説明するが、本
考案は図示例に限定されず前・後記の趣旨に徴して一部
設計を変更したり、或は構成部品の形状を変更すること
はいずれも本考案の技術的範囲に含まれる。

第３図は本考案に係るトレイ取付構造とトレイを装置内
に取り付けた状態を示す一部破断見取図であり、又第４
図は本考案に係るトレイ取付構造の要部横断面図、第５
図は第４図の■−Ｖ線一部断面図を夫々示すものである
。

本考案のトレイ取付構造は第３図に示す様に本体内壁６
の全周にわたり等間隔且つ等高さ位置に複数のサポート
ラグ８上に４分割されたサポートリング４が各サポート
リング４，４間に若干のすき間１１を形成する様に配設
され且つサポートラグ８の上面に対して摺動自在に載置
されている。

尚サポートリング４は一体物であっても何等差支えない
。

該サポートリング４には複数のトレイ固定用ボルト（以
下単に１ボルト、という）貫通部１７が設けられており
、複数のボルト９及びナツト１０によってトレイ１、サ
ポートリング４がサポートラグ８に取り付けられる様に
構成されている。

又サポートラグ８は第４図及び第５図に示す如く、円筒
状のサポートリング受は部材１３の周面の一部に固着し
た板状の腕部材１２を本体内壁６に溶接固着して設けら
れ、該サポートリング受は部材１３の下面にはその中央
部に装置本体半径方向にガイド棒１４が設けられている
。

又ボルト９は下部に逆Ｕ形のピン保持部１５が形成され
ると共に上部にはねじ部１６が形成されており、又ピン
保持部１５は二叉のピン保持腕１５ａの夫々の先端部に
ピン用貫通孔１５ｂ、１５ｂを設けてピン１５ｃが通さ
れる様に構成されている。

尚該ピン１５ｃの端部には割りピン１５ｄを挿入するた
めの貫通孔が設けられ、ピン抜けを防止する様に構成さ
れてる。

この様なボルト９は、サポートリング受は部材１３内に
挿入してピン１５ｃを取り付けることによってピン１５
ｃの周面の一部がガイド棒１４の下面に接すると共に上
部のねじ部１６がサポートリング４のボルト貫通部１７
を通って上方に伸び、更にトレイ１を貫通して突出しナ
ツト１０によってこれらを固定する。

さて上記の如く構成されたトレイ取付構造にトレイが固
定されて成るトレイ式装置内において、装置運転時に温
度が上昇するにつれて、トレイ１とサポートリング４と
は熱膨張により本体内壁６全周に向けて放射状に伸びる
。

その為トレイ１を固定する複数のボルト９も同時に放射
状に強制移行される。

しかしてボルト９の下部は前記の如くピン１５ｃがガイ
ド棒１４の下面支点によって支えているのでボルト９の
傾動を許したり或はピン１５ｃがガイド棒１４の下面に
接しつつ回転しながら移動できる。

その為ボルト９上部のねじ部１６にはせん断応力も曲げ
応力も共に作用することはない。

又前記の如くサポートリング４とサポートリング受は部
材１３とは一体的に固定されておらず、サポートリング
４はサポートラグ８の上面に載置されているだけであり
、又サポートリング４の熱膨張による伸びが生じたとき
には、サポートラグ８上を外周方向に摺動する。

その為本体内壁６におけるサポートラグ取付溶接部Ａに
も熱応力はほとんど発生することはない。

従って装置内の運転温度が相当高くなってもトレイ１と
トレイサポートリング４との結合状態は良好に維持され
、又リングパツキン７のもれ防止効果が有効に保持され
ることにより、装置運転状態を安定に維持すると共に運
転効率を高め、又装置の安全性を確保し、更に装置の点
検・保全に要するコストを大きく低減することができる
。

尚上記実施例ではサポートラグ８として板状の腕部材１
２に円筒状のサポートリング受は部材１３を固定したも
のを示したが、要はサポートリング４及びトレイ１を載
置してこれらに若干の摺動を許す様な接触面を上部に有
すると共にボルト９の下部が一定高さで装置半径方向に
摺動できる様なガイド機構（実施例ではガイド棒１４に
相当する）を下部に有するものであれば全て適用可能で
ある。

又実施例ではトレイ固定用ボルト９として下部に逆Ｕ形
のピン保持部１５を形成すると共に、該ピン保持部先端
に挿設したピン１５ｃの周囲を支持部として形成したも
のを示したが、要はボルト９の下部が前述の如くサポー
トラグ８の内部若しくは下部に形成されるガイド機構に
沿って装置半径方向に摺動若しくは転勤できる様に形成
されているものであれば全て適用可能である。

以上詳記した様に、本考案のトレイ取付構造によればト
レイとトレイサポートリングをトレイ固定用ボルトで間
接的に固定すると共に、該ボルトをサポートラグ下部付
近に設けられたガイドに沿って摺動し得る様にし、且つ
サポートリングをサポートラグに固定するこなく単に載
置してサポートラグ上を自在に摺動し得る様な構成にし
たので、トレイ固定用ボルトにせん断応力及び曲げ応力
を生じさせることはほとんど無く、又本体内壁における
サポートラグ取付溶接部Ａに熱応力を発生させることも
ほとんど無い。

その結果、装置内の処理温度如何にかかわらずトレイを
サポートリング上に良好に載置保持できる様になり、運
転状態を安定に維持すると共に処理効率を高めることが
でき、又装置の安全性を確保することができ、更には装
置のトレイサポート部におけるメンテナンスに要するコ
ストを大幅に低減し、又装置自体の延命化にも寄与でき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のトレイ取付構造の要部縦断面図、第２図
は第１図の右側一部破断側面図、第３図は本考案に係る
トレイ取付構造の装置内への取付状態を示す見取図、第
４図は本考案に係るトレイ取付構造の要部横断面図、第
５図は第４図の■−Ｖ線一部断面図、第６図は第４図の
平面図、第７図は第４図の底面図である。 １・・・・・・トレイ、４・・・・・・サポートリング
、６・・・・・・装置本体内壁、７・・・・・・リング
パツキン、訃・・・・・サポートラグ、９・・・・・・
トレイ固定用ボルト、１０・・・・・・ナツト、１３・
・・・・・サポートリング受は部材、１４・・・・・・
ガイド棒、１５・・・・・ピン保持部、１５ａ・・・・
・ゼン保持腕、１５ｂ・・・・・ゼン用貫通孔、１５ｃ
・・・・・・ピン、１５ｄ・・・・・・割りピン、１６
・・・・・・ねじ部、１７・・・・・・トレイ固定用ボ
ルト貫通部。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 装置本体内壁６に固定され且つ円筒状サポートリング受
   は部材１３を有する複数のサポートラグ８上に、複数の
   トレイ固定用ボルト貫通部１７を有するサポートリング
   ４を摺動自在に載置すると共に、該リング４上にトレイ
   １を載置せしめ、ボルト９をトレイ、円筒状サポートリ
   ング受は部材１３及びトレイ固定用ボルト貫通部１７を
   貫通せしめてこれらを固定する一方、該ボルト９を前記
   円筒状サポートリング受は部材１３の下部に摺動自在に
   取り付けることを特徴とする化学装置のトレイ取付構造
   。