JPS6032773Y2 - airtight terminal - Google Patents

airtight terminal

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JPS6032773Y2
JPS6032773Y2 JP9046980U JP9046980U JPS6032773Y2 JP S6032773 Y2 JPS6032773 Y2 JP S6032773Y2 JP 9046980 U JP9046980 U JP 9046980U JP 9046980 U JP9046980 U JP 9046980U JP S6032773 Y2 JPS6032773 Y2 JP S6032773Y2
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Japan
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stem
glass
sealing
welding
ring
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JP9046980U
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JPS5712757U (en
Inventor
孝一 薦田
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日本電気ホームエレクトロニクス株式会社
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案はパワートランジスタ等の半導体装置用ステムな
どに使用される気密端子に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to an airtight terminal used in a stem for a semiconductor device such as a power transistor.

例えば、パワートランジスタの一般例を第1図及び第2
図に示すと、1はステム、2は金属キャップである。
For example, general examples of power transistors are shown in Figures 1 and 2.
As shown in the figure, 1 is a stem and 2 is a metal cap.

ステム1は鉄系のステム基板(金属環)3の要所に穿設
したリード封着孔4に鉄−ニッケル合金等のリード線5
をガラス6で封止したハーメチックシール構造の気密端
子で、ステム基板3の上面にトランジスタのペレット7
が半田付けされ、このペレットの表面電極とリード線5
とに金属組線8をボンディングして両者を電気的に接続
している。
The stem 1 has lead wires 5 made of iron-nickel alloy etc. inserted into lead sealing holes 4 drilled at key points in the iron-based stem substrate (metal ring) 3.
It is an airtight terminal with a hermetic seal structure in which the transistor is sealed with glass 6, and the transistor pellet 7 is placed on the top surface of the stem substrate 3.
is soldered, and the lead wire 5 is connected to the surface electrode of this pellet.
A metal wire assembly 8 is bonded to the two to electrically connect them.

そして、ペレット7とリード線5を被冠してステム基板
3の上面に鉄系の金属キャップ2の開口端部を低抗溶接
して気密端子している。
Then, the pellet 7 and the lead wire 5 are covered, and the open end of the iron-based metal cap 2 is low-resistance welded to the upper surface of the stem substrate 3 to form an airtight terminal.

上記ステム1のリード線ガラス封止はグラファイト製の
封着治具を用いて約1000℃の高温雰囲気の中で行わ
れるが、この時にステム基板3も鉄系素地のままである
と封着治具から遊離したカーボンがステム基板3やリー
ド線5の鉄系結晶粒界内に入り込む浸炭現象が生じて、
ステム基板3へのペレットの半田付は性が悪くなり、又
、リード線5への金属細線8のホスディングが悪くなる
The glass lead wire of the stem 1 is sealed using a graphite sealing jig in a high-temperature atmosphere of about 1000°C. At this time, if the stem substrate 3 is also made of iron, the sealing process will be difficult. A carburizing phenomenon occurs in which carbon released from the tool enters the iron-based grain boundaries of the stem substrate 3 and lead wires 5.
The soldering properties of the pellets to the stem substrate 3 are poor, and the hosing of the thin metal wires 8 to the lead wires 5 is also poor.

そこで、この問題を解決するため、従来は次のメッキ処
理を行っていた。
Therefore, in order to solve this problem, the following plating process was conventionally performed.

即ち、リード線5のガラス封着前にステム基板3の全表
面に了め電気ニッケルメッキを施して、ガラス封着時の
浸炭現象を防止していた。
That is, before the lead wire 5 is sealed with glass, the entire surface of the stem substrate 3 is electrolytically plated with nickel to prevent carburization during glass sealing.

しかし、このようにすると封着されるガラス6とステム
基板3との封着界面に電気ニッケルメッキが介在されて
、ガラス6の封着性が悪くなり、気密性が劣下する問題
点があった。
However, in this case, there is a problem that electrolytic nickel plating is interposed at the sealing interface between the glass 6 and the stem substrate 3, which deteriorates the sealing properties of the glass 6 and deteriorates the airtightness. Ta.

又、別のメッキ処理として、リード線5の封着前にステ
ム基板3の全表面にガラスとの封着性の良い銅メッキを
施し、そしてガラス封着後更に電気ニッケルすることに
より前記浸炭現象を防止すると共に、ガラス6の封着性
を改善したものが提案されている。
In addition, as another plating process, before sealing the lead wire 5, the entire surface of the stem board 3 is plated with copper, which has good sealing properties with glass, and after sealing the glass, electrolytic nickel is further applied to eliminate the carburizing phenomenon. It has been proposed to prevent this and improve the sealing properties of the glass 6.

しかし、この銅メッキの場合、後工程で金属キャップ2
をステム基板3上に低抗溶接する時、この溶接部分に導
電性の良い銅メッキがあるとこの銅メッキが溶融せず、
表面の電気ニッケルメッキのみがキャップ2と溶接され
やすく、溶接強度に問題がある。
However, in the case of this copper plating, the metal cap 2 is
When low-resistance welding is performed on the stem board 3, if there is copper plating with good conductivity on this welding part, this copper plating will not melt.
Only the electrolytic nickel plating on the surface is likely to be welded to the cap 2, which poses a problem in welding strength.

一方、銅メッキを溶融するために溶接電流を大きくする
と溶接時の熱で銅メッキが容けてこれが湯玉となって周
囲に飛散し、ペレットに付着してペレット7の特性を劣
下させる問題点があった。
On the other hand, if the welding current is increased to melt the copper plating, the heat during welding will cause the copper plating to melt, become hot water beads, scatter around, and adhere to the pellets, deteriorating the properties of the pellets 7. was there.

本考案は上記従来の問題点に鑑み、これを解決したもの
で、予め全面に銅メッキを施した鉄系の金属環に溶接リ
ングをロウ付けした気密端子を提供する。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems and provides an airtight terminal in which a welding ring is brazed to an iron-based metal ring whose entire surface has been previously plated with copper.

以下、本考案を各実施例でもって説明する。Hereinafter, the present invention will be explained with reference to examples.

例えば、上記トランジスタ用ステムに適用した例を第3
図に示すと、本考案は鉄系のステム基板3の全表面に予
め銅メッキ9を施してから、リード線5をガラス封着し
、その後ステム基板3の上面の溶接部分に鉄系の溶接リ
ング10をロウ付けしてから、このステム1′の全表面
に例えば電気ニッケルメッキ、無電解ニッケルメッキ等
の仕上げメッキ11を形成する。
For example, the example applied to the above transistor stem is shown in the third example.
As shown in the figure, the present invention applies copper plating 9 to the entire surface of the iron-based stem board 3 in advance, seals the lead wire 5 with glass, and then welds the iron-based stem board 3 to the welded part of the upper surface of the stem board 3. After the ring 10 is brazed, a finishing plating 11 such as electrolytic nickel plating or electroless nickel plating is formed on the entire surface of the stem 1'.

この場合、溶接リング10のロウ付けに使用するロウ材
はガラス6の融点つより低い融点、例えば約780℃の
銀ロウを使用すればよい。
In this case, the soldering material used for brazing the welding ring 10 may be silver soldering material whose melting point is lower than the melting point of the glass 6, for example, about 780.degree.

又、溶接リング10はガラス6の封着と同時にステム基
板3にロウ付けすることも可能で、この時はガラス6の
封着温度(約1000℃)に近い融点のロウ材、例えば
融点が約980℃のニッケルーリン合金系のロウ材を使
用する。
Further, the welding ring 10 can be brazed to the stem substrate 3 at the same time as the glass 6 is sealed. In this case, a brazing material having a melting point close to the sealing temperature of the glass 6 (approximately 1000° C.), for example, a brazing material having a melting point of approximately A nickel-phosphorus alloy brazing material at 980°C is used.

尚、ガラス封着と同時に溶接リング10をロウ付けする
場合、溶接リング10が鉄素地であると溶接リング10
に侵炭現象が生じる。
In addition, when brazing the welding ring 10 at the same time as glass sealing, if the welding ring 10 is made of iron base, the welding ring 10
The carburization phenomenon occurs.

しかし、溶接リング10には金属キャップ2が溶接され
るだけであるから、これに侵炭現象があっても何ら問題
はない。
However, since the metal cap 2 is simply welded to the weld ring 10, there is no problem even if the metal cap 2 is carburized.

又、溶接リング10への侵炭現象を防止するために、こ
の溶接リング10に予め銅メッキを施してガラス封止し
、ステム基板3に溶接リング10をロウ付けした後に露
出した銅メッキを除去するようにしてもよい。
In addition, in order to prevent carburization of the welding ring 10, the welding ring 10 is coated with copper in advance and sealed with glass, and after the welding ring 10 is brazed to the stem board 3, the exposed copper plating is removed. You may also do so.

又、溶接リング10はガラス6の封着前に、ステム基板
3にガラス6の封着温度より高い融点のロウ材でもって
ロウ付けすることも可能である。
Further, the welding ring 10 can be brazed to the stem substrate 3 with a brazing material having a melting point higher than the sealing temperature of the glass 6 before the glass 6 is sealed.

第4図は第3図の変形例を示し、これはステム基板3の
ペレットマウント箇所に透孔12に銅製のヒートシンク
13を嵌着してロウ付けしたもので、ペレット7はヒー
トシンク13上に半田付けされる。
FIG. 4 shows a modification of FIG. 3, in which a copper heat sink 13 is fitted and brazed into the through hole 12 at the pellet mounting location of the stem board 3, and the pellet 7 is soldered onto the heat sink 13. will be attached.

このタイプの場合、全面に銅メッキ9を形成したステム
基板3に溶接リング10をヒートシンク13のロウ付け
と同時にロウ付けすればよい。
In the case of this type, it is sufficient to braze the welding ring 10 to the stem substrate 3 whose entire surface is coated with copper plating 9 at the same time as the heat sink 13 is brazed.

尚、本考案は上記実施例に限らず、例えばステム基板上
に銅製のヒートシンク板を載置してロウ付けするタイプ
のステムにも適用できる。
Note that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, but can also be applied to a type of stem in which, for example, a copper heat sink plate is placed on a stem substrate and brazed.

又、本考案はパワートランジスタ用ステムの気密端子に
限定されず、他の半導体装置や電子部品用の気密端子に
も十分に適用し得る。
Furthermore, the present invention is not limited to hermetic terminals for power transistor stems, but can be fully applied to hermetic terminals for other semiconductor devices and electronic components.

以上説明したように、本考案によれば金属環はその表面
の銅メッキによって侵炭現象が防止され、而も金属環と
ガラスとの封着界面に銅メッキが介在するのでガラスの
封着性が改善されて、気密性の良い気密端子が提供でき
る。
As explained above, according to the present invention, the carburization phenomenon is prevented by the copper plating on the surface of the metal ring, and since the copper plating is present at the sealing interface between the metal ring and the glass, the glass sealing property is improved. is improved, and an airtight terminal with good airtightness can be provided.

又、銅メッキした鉄系の金属環に溶接リングをロウ付け
して、この溶接リングに金属キャップを溶接するように
したから、溶接部分に銅メッキが介在せず、従って溶接
電流を増大しなくてもよく、溶接時の湯玉によるペレッ
トの特性劣下等のトラブルが解消され、半導体装置等の
特性の安定化が図れる。
In addition, since the welding ring is brazed to the copper-plated iron metal ring and the metal cap is welded to this welding ring, there is no copper plating in the welding area, so welding current does not increase. This eliminates problems such as deterioration of pellet properties due to hot water beads during welding, and stabilizes the properties of semiconductor devices and the like.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は一般的な気密端子(パワートランジスタ用ステ
ム)の一例を示す平面図、第2図は第1図A−A線に沿
う側断面図、第3図及び第4図は本考案による気密端子
の各実施例を示す側断面図である。 1・・・・・・気密端子(ステム)、3・・・・・・鉄
系の金属環、4・・・・・・リード封着孔、5・・・・
・・リード線、6・・・・・・ガラス、9・・・・・・
銅メッキ、10・・・・・・溶接リング、11・・・・
・・仕上げメッキ。
Fig. 1 is a plan view showing an example of a general hermetic terminal (stem for power transistor), Fig. 2 is a side sectional view taken along line A-A in Fig. 1, and Figs. 3 and 4 are according to the present invention. It is a side sectional view showing each example of an airtight terminal. 1...Airtight terminal (stem), 3...Iron-based metal ring, 4...Lead sealing hole, 5...
...Lead wire, 6...Glass, 9...
Copper plating, 10...Welding ring, 11...
...Finish plating.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 全面に銅メッキを施した鉄系の金属環のリード封着孔に
リード線をガラス封着するとともに金属環の上面に溶接
リングをロウ付け、全体に仕上げメッキを施したことを
特徴とする気密端子。
An airtight device characterized by glass-sealing the lead wire into the lead sealing hole of an iron-based metal ring with copper plating on the entire surface, brazing a welding ring on the top surface of the metal ring, and applying finish plating to the entire surface. terminal.
JP9046980U 1980-06-26 1980-06-26 airtight terminal Expired JPS6032773Y2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9046980U JPS6032773Y2 (en) 1980-06-26 1980-06-26 airtight terminal

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9046980U JPS6032773Y2 (en) 1980-06-26 1980-06-26 airtight terminal

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5712757U JPS5712757U (en) 1982-01-22
JPS6032773Y2 true JPS6032773Y2 (en) 1985-09-30

Family

ID=29452467

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JP9046980U Expired JPS6032773Y2 (en) 1980-06-26 1980-06-26 airtight terminal

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JPS5712757U (en) 1982-01-22

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