JPS6029939B2 - 厚手ステンシルの製造方法 - Google Patents
厚手ステンシルの製造方法Info
- Publication number
- JPS6029939B2 JPS6029939B2 JP54047678A JP4767879A JPS6029939B2 JP S6029939 B2 JPS6029939 B2 JP S6029939B2 JP 54047678 A JP54047678 A JP 54047678A JP 4767879 A JP4767879 A JP 4767879A JP S6029939 B2 JPS6029939 B2 JP S6029939B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thickness
- photocurable resin
- liquid photocurable
- resin layer
- resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスクリーン印刷や捺染に用いる厚手ステンシル
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
スクリーン印刷は被印刷体にあまり制限がなく、印刷さ
れるインキの厚みが厚くできる等の特徴を持っており、
多方面に利用され、需要が増加している。
れるインキの厚みが厚くできる等の特徴を持っており、
多方面に利用され、需要が増加している。
特に印刷されたインキの厚みが他の印刷方式に比べて大
きくできる点がこの印刷方式の特長であり、抵抗体等の
電気回路の印刷、捺染や各種ディスプレーの製造に用い
られている。しかし、現在市販の感光乳剤を用いたスク
リーン印刷版で印刷できるインキの厚みはせし、ぜし、
５０ミクロンが限界である。スクリーン印刷版で印刷で
きるインキの厚みは一般に版の厚みに大きく左右される
といわれている。近年、インキの厚みを厚くしたいとい
う要求が捺染や電気回路の印刷等に強くなってきており
、何とかして厚手のスクリーン印刷版を作ろうとする努
力が成されている。
きくできる点がこの印刷方式の特長であり、抵抗体等の
電気回路の印刷、捺染や各種ディスプレーの製造に用い
られている。しかし、現在市販の感光乳剤を用いたスク
リーン印刷版で印刷できるインキの厚みはせし、ぜし、
５０ミクロンが限界である。スクリーン印刷版で印刷で
きるインキの厚みは一般に版の厚みに大きく左右される
といわれている。近年、インキの厚みを厚くしたいとい
う要求が捺染や電気回路の印刷等に強くなってきており
、何とかして厚手のスクリーン印刷版を作ろうとする努
力が成されている。
例えば感光乳剤の塗布乾燥を何回も繰返すことにより膜
厚を厚くすることが試みられている。しかしこの方法は
作業時間が長く実用的ではない。また、通常の薄いスク
リーン印刷版に塗料を塗り重ねることにより、厚腰化す
る試みも成されているが、画像の精度が悪くなる傾向に
あり望ましくない。一方、捺染分野では厚紙を切り抜い
てこれと紗を貼り合わせる方法で古くから厚手ステンシ
ルを得ているが、切り抜くのに多大の労力を必要とし細
い画像の場合は高度な技術を必要とする等多くの問題を
抱えており簡便な厚手ステンシルの製造方法が望まれて
いる。
厚を厚くすることが試みられている。しかしこの方法は
作業時間が長く実用的ではない。また、通常の薄いスク
リーン印刷版に塗料を塗り重ねることにより、厚腰化す
る試みも成されているが、画像の精度が悪くなる傾向に
あり望ましくない。一方、捺染分野では厚紙を切り抜い
てこれと紗を貼り合わせる方法で古くから厚手ステンシ
ルを得ているが、切り抜くのに多大の労力を必要とし細
い画像の場合は高度な技術を必要とする等多くの問題を
抱えており簡便な厚手ステンシルの製造方法が望まれて
いる。
本発明者らは上記要望に応えるために液状光硬化性樹脂
を用いた厚手ステンシルを開発し提案した（特願昭５２
一１３９３０）。
を用いた厚手ステンシルを開発し提案した（特願昭５２
一１３９３０）。
また、特開昭５３一１０２１０８にも同様の提案が成さ
れている。
れている。
しかし、上記発明では紗が樹脂中に埋没しているため、
秒の位置が一定せず印刷されたインキの厚みが均一にな
りにくいといった問題があった。
秒の位置が一定せず印刷されたインキの厚みが均一にな
りにくいといった問題があった。
本発明者らは紗の位置を一定させる方法を種々検討した
結果、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は透光
性薄膜上に液状光硬化性樹脂の所定厚みの層を形成しホ
トマスクを介して透光性薄膜側から活性光線を照射し、
液状光硬化性樹脂の一部を硬化させ、次いで展張したス
クリーン材料を液状光硬化性樹脂層の上に重ねて配置し
、再び同じホトマスクを介して活性光線を照射し、スク
リーン材料と光硬化した樹脂を複合化した後非照射部の
液状光硬化性樹脂を除去することを特徴とする厚手ステ
ンシルの製造方法である。本方法は従来法と異り先に一
定厚みの樹脂層を硬化させた後、スクリーン材料を載層
するのでスクリーン材料の樹脂層中の位置が一定し、且
つ厚みのコントロールが容易である。
結果、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は透光
性薄膜上に液状光硬化性樹脂の所定厚みの層を形成しホ
トマスクを介して透光性薄膜側から活性光線を照射し、
液状光硬化性樹脂の一部を硬化させ、次いで展張したス
クリーン材料を液状光硬化性樹脂層の上に重ねて配置し
、再び同じホトマスクを介して活性光線を照射し、スク
リーン材料と光硬化した樹脂を複合化した後非照射部の
液状光硬化性樹脂を除去することを特徴とする厚手ステ
ンシルの製造方法である。本方法は従来法と異り先に一
定厚みの樹脂層を硬化させた後、スクリーン材料を載層
するのでスクリーン材料の樹脂層中の位置が一定し、且
つ厚みのコントロールが容易である。
従って、印刷されたインクの厚みを均一にすることがで
きるようになった。
きるようになった。
また、樹脂層を２段で形成するので、樹脂層中に気泡が
かみ込んだ場合でも貫通孔の可能性は少く良好なステン
シルが得られる。
かみ込んだ場合でも貫通孔の可能性は少く良好なステン
シルが得られる。
更にスクリーン材料を枠に展張してし、ないいわゆるは
ずしの型の場合にもスクリーン材料の位置が一定するの
で良好なステンシルが得られる等従来技術ではできなか
った高性能の厚手ステンシルが得られるようになった。
ずしの型の場合にもスクリーン材料の位置が一定するの
で良好なステンシルが得られる等従来技術ではできなか
った高性能の厚手ステンシルが得られるようになった。
本発明の方法に用いる液状光硬化性樹脂は波長が２００
０Ａから８０００Ａのいわゆる活性光線の照射により光
架橋あるいは光重合あるいは両者により固定する液状組
成物であり、近年凸版印刷用、塗料、インキ等に開発さ
れた液状感光性樹脂が使用できる。たとえば、不飽和ポ
リエステル樹脂、アクリル、ウレタン、エポキシ、ポリ
エステル、ポリアミドなどのプレポリマーに不飽和基を
導入した付加重合性エチレン状不飽和結合を有する化合
物やビニルモノマー類に光重合開始剤、熱安定剤等を添
加したものが好適である。ステンシルの用途によってこ
れら組成は自由に選択できる。
０Ａから８０００Ａのいわゆる活性光線の照射により光
架橋あるいは光重合あるいは両者により固定する液状組
成物であり、近年凸版印刷用、塗料、インキ等に開発さ
れた液状感光性樹脂が使用できる。たとえば、不飽和ポ
リエステル樹脂、アクリル、ウレタン、エポキシ、ポリ
エステル、ポリアミドなどのプレポリマーに不飽和基を
導入した付加重合性エチレン状不飽和結合を有する化合
物やビニルモノマー類に光重合開始剤、熱安定剤等を添
加したものが好適である。ステンシルの用途によってこ
れら組成は自由に選択できる。
スクリーン印刷に用いる場合は硬化物に適度な柔軟性が
必要であり、また製版の評価を容易にする目的で染料ま
たは顔料を硬化を妨げない程度に入れることもできる。
液状光硬化性樹脂の層の形成は、通常の液状感光性樹脂
を用いた凸版製版プロセスと同機に行なうことができる
。
必要であり、また製版の評価を容易にする目的で染料ま
たは顔料を硬化を妨げない程度に入れることもできる。
液状光硬化性樹脂の層の形成は、通常の液状感光性樹脂
を用いた凸版製版プロセスと同機に行なうことができる
。
即ち、水平に置いた活性光線に対して透明な板、例えば
ガラス板、石英板、プラスチツク板等にホトマスクを置
き、次いで透光性薄膜をしわのないように辰張して密着
させ、その上に液状光硬化性樹脂を所定の厚みに流延す
る。流延する方法は公知の方法で、例えばスキージやド
クター、バーコーダー等を用いて所望の厚みに流延する
ことができる。この際の厚みはステンシルの用途によっ
て異るが、通常は５肋以下、好ましくは５０仏から２肋
の範囲で自由に選べる。液状光硬化性樹脂の所望の厚み
の層を形成した後、透光性薄膜側からホトマスクを通し
て活性光線を照射する。活性光線を照射された部分の液
状光硬化性樹脂は硬化し潜像が形成される。照射の際、
液状光硬化性樹脂層の上面（透光性薄膜のない側）は空
気中でもできる場合もあるが、空気で硬化阻害を受ける
場合には空気を遮断することが望ましい。
ガラス板、石英板、プラスチツク板等にホトマスクを置
き、次いで透光性薄膜をしわのないように辰張して密着
させ、その上に液状光硬化性樹脂を所定の厚みに流延す
る。流延する方法は公知の方法で、例えばスキージやド
クター、バーコーダー等を用いて所望の厚みに流延する
ことができる。この際の厚みはステンシルの用途によっ
て異るが、通常は５肋以下、好ましくは５０仏から２肋
の範囲で自由に選べる。液状光硬化性樹脂の所望の厚み
の層を形成した後、透光性薄膜側からホトマスクを通し
て活性光線を照射する。活性光線を照射された部分の液
状光硬化性樹脂は硬化し潜像が形成される。照射の際、
液状光硬化性樹脂層の上面（透光性薄膜のない側）は空
気中でもできる場合もあるが、空気で硬化阻害を受ける
場合には空気を遮断することが望ましい。
例えば不活性ガス（窒素、アルゴン等）や炭酸ガスで置
換するかあるいは薄膜（カバーフィルム）を密着させる
等の方法がとられる。薄膜を密着させる場合は気泡をか
み込まないように被せる必要があり、一定厚みに流延す
る際に同時に薄膜を被せていく方法が望ましい。また厚
みを均一にするために周囲に一定厚みのスべ−サーを配
しその上に平面性のよい板（ガラス板、樹脂板等）を置
きスベーサーに押しつけることが望ましい。次に硬化し
た樹脂層の上に展張したスクリーン材料を重ねて、樹脂
層とスクリーン材料を複合化するが、複合化させる方法
は種々の方法がとられる。
換するかあるいは薄膜（カバーフィルム）を密着させる
等の方法がとられる。薄膜を密着させる場合は気泡をか
み込まないように被せる必要があり、一定厚みに流延す
る際に同時に薄膜を被せていく方法が望ましい。また厚
みを均一にするために周囲に一定厚みのスべ−サーを配
しその上に平面性のよい板（ガラス板、樹脂板等）を置
きスベーサーに押しつけることが望ましい。次に硬化し
た樹脂層の上に展張したスクリーン材料を重ねて、樹脂
層とスクリーン材料を複合化するが、複合化させる方法
は種々の方法がとられる。
例えば、空気で硬化阻害を受けた場合、あるいは樹脂厚
みに対して活性光線の照射量が少し、場合、ホトマスク
の反対側の面は完全に硬化していないので、スクリーン
材料を教壇するとスクリ−ン材料は樹脂層中に入り込む
ことができ、スクリーン材料から上に出た樹脂をスキー
ジ等で平坦にしてカバーフィルムを被せガラス板等を置
いて再度活性光線をホトマスクを介して照射することに
より複合化することができる。またカバーフィルムを用
い、樹脂層を塗布した厚みに硬化させた場合は、カバー
フィルムを剥離し、小量の液状光硬化性樹脂を塗布し、
その上に展張したスクリーン材料を戦層する。その上か
ら再度、カバーフィルムを被せ、平坦にした後、必要な
らば平面性のよい板を用いて押えつけ、再度、透光性薄
膜側からホトマスクを介して活性光線を照射する。これ
によりスクリーン材料と硬化した樹脂層は一体化する。
照射後、ホトマスクで遮蔽された非照射部の液状光硬化
性樹脂は吸い取り、吸引、吹きとばし、溶剤による洗浄
等公知の方法で除去される。
みに対して活性光線の照射量が少し、場合、ホトマスク
の反対側の面は完全に硬化していないので、スクリーン
材料を教壇するとスクリ−ン材料は樹脂層中に入り込む
ことができ、スクリーン材料から上に出た樹脂をスキー
ジ等で平坦にしてカバーフィルムを被せガラス板等を置
いて再度活性光線をホトマスクを介して照射することに
より複合化することができる。またカバーフィルムを用
い、樹脂層を塗布した厚みに硬化させた場合は、カバー
フィルムを剥離し、小量の液状光硬化性樹脂を塗布し、
その上に展張したスクリーン材料を戦層する。その上か
ら再度、カバーフィルムを被せ、平坦にした後、必要な
らば平面性のよい板を用いて押えつけ、再度、透光性薄
膜側からホトマスクを介して活性光線を照射する。これ
によりスクリーン材料と硬化した樹脂層は一体化する。
照射後、ホトマスクで遮蔽された非照射部の液状光硬化
性樹脂は吸い取り、吸引、吹きとばし、溶剤による洗浄
等公知の方法で除去される。
その後、必要に応じ水洗、乾燥、更には活性光線を全面
に照射するいわゆる後露光の工程を経ることにより高性
能の厚手ステンシルが得られる。本発明の方法に用いる
透光性薄膜は実質的に充分活性光線を透過させる程度で
あればよく、透過率５０％以上あれば使用できるが、で
きれば９０％以上が望ましい。
に照射するいわゆる後露光の工程を経ることにより高性
能の厚手ステンシルが得られる。本発明の方法に用いる
透光性薄膜は実質的に充分活性光線を透過させる程度で
あればよく、透過率５０％以上あれば使用できるが、で
きれば９０％以上が望ましい。
厚みは５なし、し１００ミクロンで使用できるが、画像
のボケを少〈するために５０ミクロン以下が望ましい。
なお、透光性薄膜は光硬化後はがす必要があるので剥離
性のよいものが望ましい。これらの具体例としてポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニ
ル、ナイロン、セロフアン等およびこれらのラミネート
したものをあげることができる。
のボケを少〈するために５０ミクロン以下が望ましい。
なお、透光性薄膜は光硬化後はがす必要があるので剥離
性のよいものが望ましい。これらの具体例としてポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリ塩化ビニ
ル、ナイロン、セロフアン等およびこれらのラミネート
したものをあげることができる。
活性光線の照射の際に用いるホトマスクは従来スクリー
ン印刷版の焼きつけに用いられているものは殆んど使用
できるが、従来の版に比べて相当厚い膜を形成するので
露光量が多くなるから画像部の活性光線透過率がより小
さいものが望まれる。
ン印刷版の焼きつけに用いられているものは殆んど使用
できるが、従来の版に比べて相当厚い膜を形成するので
露光量が多くなるから画像部の活性光線透過率がより小
さいものが望まれる。
たとえばリスフイルムを用いたポジフイルムでは透過濃
度３〜４程度が好ましい。本発明に用いる活性光線源と
してはたとえばカーボンアーク灯、水銀灯、キセノンラ
ンプ、紫外線蛍光灯等が好ましい。
度３〜４程度が好ましい。本発明に用いる活性光線源と
してはたとえばカーボンアーク灯、水銀灯、キセノンラ
ンプ、紫外線蛍光灯等が好ましい。
光線はできるだけ平行光線で感光性樹脂層に対して直角
に入射させることが好ましい。本発明に用いるスクリー
ン材料とはスクリーン印刷や捺染に用いられるスクリー
ンメッシュの他、各種繊維で綴られた布または不織布、
ネット、金属のエッチングやメッキ等に作成される、い
わゆるメタルフィルター等の通液性のシート状物を意味
する。
に入射させることが好ましい。本発明に用いるスクリー
ン材料とはスクリーン印刷や捺染に用いられるスクリー
ンメッシュの他、各種繊維で綴られた布または不織布、
ネット、金属のエッチングやメッキ等に作成される、い
わゆるメタルフィルター等の通液性のシート状物を意味
する。
スクリーン材料の材質は絹、ポリエステル、ポリプロピ
レン、高密度ポリエチレン、ナイロン、ガラスおよび金
属類等が用いられる。
レン、高密度ポリエチレン、ナイロン、ガラスおよび金
属類等が用いられる。
スクリーン材料の厚みは使用目的によって異るが、２０
ミクロン以上１ミリメートル以下が好都合である。本発
明の方法によって得られた厚手ステンシルは先に述べた
数多くの特長を活かして、厚手のスクリーン印刷、例え
ば電子回路の印刷、陶磁器、タイルの模様づけ、塩ビペ
ーストの印刷等や捺染に用いられる。次に本発明をさら
に具体的に説明するために実施例を挙げるがこれによっ
て本発明を限定するものではない。
ミクロン以上１ミリメートル以下が好都合である。本発
明の方法によって得られた厚手ステンシルは先に述べた
数多くの特長を活かして、厚手のスクリーン印刷、例え
ば電子回路の印刷、陶磁器、タイルの模様づけ、塩ビペ
ーストの印刷等や捺染に用いられる。次に本発明をさら
に具体的に説明するために実施例を挙げるがこれによっ
て本発明を限定するものではない。
実施例 １
露光器の上に置かれたフロートガラス板上にホトマスク
（花模様のポジ画像）を固定し、その上に厚さ２０ミク
ロンのポリエステルフィルムを展張した。
（花模様のポジ画像）を固定し、その上に厚さ２０ミク
ロンのポリエステルフィルムを展張した。
次に不飽和ポリエステルを主体とする液状光硬化性樹脂
をバーコーターで約３００ミクロン厚みに流延し、その
上に２０ミクロン厚みのポリプロピレンフィルムをロー
ルを用いて被せ、液状光硬化性樹脂層の上を覆った。３
００ミクロン厚みのスベーサーを両端に配し、上からガ
ラス板で押さえ均一な厚みの樹脂層を形成した。
をバーコーターで約３００ミクロン厚みに流延し、その
上に２０ミクロン厚みのポリプロピレンフィルムをロー
ルを用いて被せ、液状光硬化性樹脂層の上を覆った。３
００ミクロン厚みのスベーサーを両端に配し、上からガ
ラス板で押さえ均一な厚みの樹脂層を形成した。
次いで紫外線蛍光灯（２０Ｗ、１５本）をフロートガラ
スの下方１０狐の距離から３凪砂間照射した。次にガラ
ス板、ポリプロピレンフィルムを取り去り、再度液状光
硬化性樹脂を硬化した樹脂層の上に流し、その上に枠を
辰張した７０メッシュのポリエステル紗を載せ、カバー
フィルムを被せ、ガラス板で押えて均一な厚みにした後
、同じホトマスクを介して紫外線蛍光灯で１分間照射し
た。照射後、カバーフィルムを取り除き０．２％水酸化
ナトリウム水溶液で非照射部の液状光硬化性樹脂を除去
した。水洗、乾燥後、ステンシルの補強のため５分間紫
外線後光灯で照射した。
スの下方１０狐の距離から３凪砂間照射した。次にガラ
ス板、ポリプロピレンフィルムを取り去り、再度液状光
硬化性樹脂を硬化した樹脂層の上に流し、その上に枠を
辰張した７０メッシュのポリエステル紗を載せ、カバー
フィルムを被せ、ガラス板で押えて均一な厚みにした後
、同じホトマスクを介して紫外線蛍光灯で１分間照射し
た。照射後、カバーフィルムを取り除き０．２％水酸化
ナトリウム水溶液で非照射部の液状光硬化性樹脂を除去
した。水洗、乾燥後、ステンシルの補強のため５分間紫
外線後光灯で照射した。
ステンシルの厚みは３００〆で紗の位置は樹脂層の上部
（照射した面から遠い側）に片寄っており、スクリーン
印刷したところ、均一な厚みのインクが印刷できた。
（照射した面から遠い側）に片寄っており、スクリーン
印刷したところ、均一な厚みのインクが印刷できた。
第１図は液状光硬化性樹脂の層を形成し、活性光線を照
射する前の状態、第２図は活性光線を照射後カバーフィ
ルムを取除いた状態、第３図はスクリーン材料を重ねて
活性光を再度照射している状態、第４図は非硬化部の樹
脂を除去し、できあがった厚手ステンシルの各々の断面
図を示している。 １……フロートガラス、２……ホトマスク、３−・・・
…透光性薄膜、４・・・・・・液状感光性樹脂、５・・
・・・・スべ−サ、６……カバーフィルム、７……平ら
な板（ガラス板）、８……硬化した樹脂、９……スクリ
ーン材料、１０・・・・・・型枠、１１…・・・活性光
線源。 第１図 髪２図 第３図 舞４図
射する前の状態、第２図は活性光線を照射後カバーフィ
ルムを取除いた状態、第３図はスクリーン材料を重ねて
活性光を再度照射している状態、第４図は非硬化部の樹
脂を除去し、できあがった厚手ステンシルの各々の断面
図を示している。 １……フロートガラス、２……ホトマスク、３−・・・
…透光性薄膜、４・・・・・・液状感光性樹脂、５・・
・・・・スべ−サ、６……カバーフィルム、７……平ら
な板（ガラス板）、８……硬化した樹脂、９……スクリ
ーン材料、１０・・・・・・型枠、１１…・・・活性光
線源。 第１図 髪２図 第３図 舞４図
Claims (1)
- １ 透光性薄膜上に液状光硬化性樹脂の所定厚みの層を
形成し、ホトマスクを介して透光性薄膜側から活性光線
を照射し液状光硬化性樹脂層の一部を硬化させ、次いで
展張したスクリーン材料を液状光硬化性樹脂層の上に重
ねて配置し、再び同じホトマスクを介して活性光線を照
射し、スクリーン材料と光硬化した樹脂を複合化した後
、非照射部の液状光硬化性樹脂を除去することを特徴と
する厚手ステンシルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54047678A JPS6029939B2 (ja) | 1979-04-17 | 1979-04-17 | 厚手ステンシルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54047678A JPS6029939B2 (ja) | 1979-04-17 | 1979-04-17 | 厚手ステンシルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55139868A JPS55139868A (en) | 1980-11-01 |
| JPS6029939B2 true JPS6029939B2 (ja) | 1985-07-13 |
Family
ID=12781928
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54047678A Expired JPS6029939B2 (ja) | 1979-04-17 | 1979-04-17 | 厚手ステンシルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6029939B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5367509A (en) * | 1976-11-29 | 1978-06-16 | Hitachi Ltd | Method of producing suspended metal mask |
| JPS5391804A (en) * | 1977-01-24 | 1978-08-12 | Kansai Paint Co Ltd | Method of producing thick film screen printing plate |
| JPS53104306A (en) * | 1977-02-23 | 1978-09-11 | Kansai Paint Co Ltd | Photosensitive resin plate for thick film screen print |
-
1979
- 1979-04-17 JP JP54047678A patent/JPS6029939B2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5367509A (en) * | 1976-11-29 | 1978-06-16 | Hitachi Ltd | Method of producing suspended metal mask |
| JPS5391804A (en) * | 1977-01-24 | 1978-08-12 | Kansai Paint Co Ltd | Method of producing thick film screen printing plate |
| JPS53104306A (en) * | 1977-02-23 | 1978-09-11 | Kansai Paint Co Ltd | Photosensitive resin plate for thick film screen print |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55139868A (en) | 1980-11-01 |
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