JPS60262490A - Coupling sheet - Google Patents

Coupling sheet

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JPS60262490A
JPS60262490A JP11949884A JP11949884A JPS60262490A JP S60262490 A JPS60262490 A JP S60262490A JP 11949884 A JP11949884 A JP 11949884A JP 11949884 A JP11949884 A JP 11949884A JP S60262490 A JPS60262490 A JP S60262490A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal particles
adhesive
connection
insulating adhesive
adhesive layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP11949884A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
奥長 正志
松原 裕一
尚 安藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP11949884A priority Critical patent/JPS60262490A/en
Publication of JPS60262490A publication Critical patent/JPS60262490A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、基板上に配された多数の導電パターンに対し
、夫々対応する集積回vPJHc)等の電子部品のパッ
ドのような導電体を接続する場合に通用して好適な連結
シートに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention connects conductors such as pads of electronic components such as integrated circuits (vPJHc) to a large number of conductive patterns arranged on a substrate. The present invention relates to a connection sheet suitable for various cases.

背景技術とその問題点 近時、電子機器の小型化、電子部品の小型化に伴って、
配線基板、例えばフレキシブル基板、若しくは剛性(リ
ジッド)な基板上に狭ピッチをもって形成された多数の
導電パターンに対し、これらパターンに対応して同様に
狭ピッチに配列されたICバンドなどの多数の狭間隔で
配された導電体を接続する作業が必要とされている。こ
れらの接続は、通常例えばICをフィルムキャリア及び
リードフレームに金線で結線するワイヤーボンディング
、又はTAB法で1度実装し、そのリード部と基板の電
極をクリームハンダなどで接続する方法、又は基板のリ
ード部とICペレットのバットをワイヤーボンディング
で接続する方法によっていた。
Background technology and its problems Recently, with the miniaturization of electronic devices and electronic components,
For a large number of conductive patterns formed at a narrow pitch on a wiring board, such as a flexible board or a rigid board, a large number of narrow conductive patterns such as IC bands arranged at a narrow pitch corresponding to these patterns are used. There is a need to connect electrical conductors that are spaced apart. These connections are usually made by wire bonding, in which the IC is connected to the film carrier and lead frame using gold wire, or by mounting the IC once using the TAB method, and then connecting the lead part and the electrode of the board with cream solder, or by connecting the IC to the board using cream solder. The lead part of the IC pellet was connected to the butt of the IC pellet using wire bonding.

しかしながら、金線によるワイヤーボンディングは、ワ
イヤー自体が高価格であることと、一括した接続が行え
ないことによっ゛ζ接続作業がKC421Fでコスト高
を招来し、また多数の接続部の狭ピッチ化によってワイ
ヤー相力の接触、或いはホンディング部を幅狭とするご
とによる接続強度及び接続部相互の短絡など信頼性にも
問題が生じ実装密度を向上させる串には限度があった。
However, wire bonding using gold wire is expensive because the wire itself is expensive, and because it cannot be connected all at once, the ζ connection work is KC421F, which leads to high costs, and the narrow pitch of many connections. As a result, reliability problems such as contact between wires, connection strength due to narrower honding portions, and short circuits between connecting portions occur, and there is a limit to the ability of skewers to improve packaging density.

また、接着層の厚み方向に導電性を面方向には絶縁性を
うるようになされ電気伝導に異方性を有する異方性接着
剤を介在させて、第1図のように金属粒子(11がIC
(21のバット (2a)と基板(3)のリード(3a
)との間の導通を図るようになしたもの(特開昭51−
101469号公報)がある。この異方性接着剤を介在
させる方法によれば簡単な工程にで安価に接続をなすこ
とができる。しかし、金属粒子+11が溶融性を持たず
必ずしも電気的に安定な接続のできない場合がある。ま
たこの例では、この金属粒子filをファインピンチの
パターン間にうまく介在させるための粒径、接着剤層の
厚みの選定の指針はなくファインパターンである程金属
粒子(1)がうまく介在セずに、バソt”(2a)とり
−1−(3a)との間からにけ°Cしまい導通の取れな
くなることもある欠点があった。
In addition, as shown in Figure 1, metal particles (11 is IC
(21 bat (2a) and board (3) lead (3a)
) designed to establish continuity between
101469). According to this method of using an anisotropic adhesive, the connection can be made in a simple process and at low cost. However, the metal particles +11 do not have melting properties and may not necessarily provide an electrically stable connection. In addition, in this example, there is no guideline for selecting the particle size and adhesive layer thickness in order to successfully interpose the metal particles fil between the fine pinch patterns, and the finer the pattern, the better the metal particles (1) can be interposed. However, there is a drawback that there is a risk of leakage of 0.degree. C. between the t'' (2a) and the t'' (3a), making it impossible to conduct.

発明のL」的 本発明は、上述した欠点を解消し、多数の狭ピッチに配
置された導電パターンに夫々対応する他の導電体を簡単
にかつ安定に電気的及び機械的に連結することができる
連結シートを提供するものである。
The present invention solves the above-mentioned drawbacks, and makes it possible to easily and stably electrically and mechanically connect other conductors corresponding to a large number of conductive patterns arranged at narrow pitches. This provides a connecting sheet that can be used.

発明の概要 本発明は、基板上に配された複数の導電パターンとこの
導電パターンに対応して電気的に接続される複数の導電
体との接続に当り、その複数の導電パターンと導電体と
の間に介在されて両者を電気的機械的に連結するように
なされる絶縁性接着剤に金属粒子が分散された接着剤層
を有して成るものである。そしてその金属粒子は、導電
パターンと導電体との加圧加熱による接合時に溶融する
金属より成り、且つ金属粒子の大きさは、接合時におけ
る金属粒子の大きさが導電パターンと導電体との接続部
の間隔より小になるように選定され、 1また接続剤層
の厚みは金属粒子の直径の1/3〜2倍に選定されるも
のであり、絶縁性接着剤は、この加熱により溶融流動す
る接着剤より選ばれ簡単かつ安定に電気的及び機械的連
結をすることができるものである。
Summary of the Invention The present invention relates to the connection between a plurality of conductive patterns arranged on a substrate and a plurality of conductors that are electrically connected to the conductive patterns. It comprises an adhesive layer in which metal particles are dispersed in an insulating adhesive interposed between the two to electrically and mechanically connect them. The metal particles are made of a metal that melts when the conductive pattern and the conductor are bonded by pressure and heating, and the size of the metal particles is determined by the size of the metal particle at the time of bonding between the conductive pattern and the conductor. 1. Also, the thickness of the connecting agent layer is selected to be 1/3 to 2 times the diameter of the metal particles, and the insulating adhesive is melted and flowed by this heating. This adhesive is selected from among the adhesives that can be used to easily and stably connect electrically and mechanically.

尚、上述の接合時の加熱温度、万い換えれば、金属粒子
の融点は50℃〜350℃、好ましくは80℃〜260
℃に選定される。ごごにこの加熱温度、すなわち金属粒
子の融点を50℃以上、好ましくは80℃以上に選定す
るのは、配線基鈑の例えば電子機器への実装状態、すな
わち使用状態で、50℃未満、好ましくは80℃未満の
外囲温度で、導電パターンと導電体との接続部において
両者間を融着する金属が再溶融して剥離や接続不良が発
生ずるような信頼性の低下を回避するためであり、35
 [1’c以F1好ましくは260℃以下に選定するの
は、これを超えるような加熱処理に耐える基板材料の選
定が困難となり、また加熱手段、作業が鎮雑となり、工
業的に不利益となってくることに因る。
In addition, the heating temperature during the above-mentioned joining, in other words, the melting point of the metal particles is 50°C to 350°C, preferably 80°C to 260°C.
Selected as ℃. The heating temperature, that is, the melting point of the metal particles, is selected to be 50°C or higher, preferably 80°C or higher, when the wiring board is mounted on, for example, an electronic device, that is, in use, and is preferably lower than 50°C. This is to avoid deterioration in reliability, such as re-melting of the metal bonded between the conductive pattern and the conductor at an ambient temperature of less than 80°C, resulting in peeling or connection failure. Yes, 35
[Selecting F1 above 1'c, preferably below 260°C, makes it difficult to select a substrate material that can withstand heat treatment exceeding this range, and also requires complicated heating means and operations, which is disadvantageous industrially. It depends on what is happening.

また、金属粒子は、その粒径を、導電パターンとこれに
対する導電体との接続部間の間隔、すなわち隣り合う導
電パターン間、隣り合う導電体間の間隔の1/2以下程
度に選定されることが望ましく、このようにするときは
、隣り合う接続部間が金属粒子によって短絡されるよう
な事故を確実に回避できることを確めた。
Further, the particle size of the metal particles is selected to be approximately 1/2 or less of the distance between the conductive pattern and the connecting portion of the conductor to the conductive pattern, that is, the distance between adjacent conductive patterns and the distance between adjacent conductors. This is desirable, and it has been confirmed that when doing so, it is possible to reliably avoid accidents such as short-circuiting between adjacent connection parts due to metal particles.

また1、E述した導電パターンとこれに対応する導電体
間に介在させる予めシート状とされた或いは基板上に予
め塗布される接着剤層中の接着剤と金属粒子との混合割
合は、接着剤(固形分)100容量部に対して、金属粒
子は0.5〜50容量部に選定する。これは0.5未満
では低抵抗接続が不充分となる場合があり、50容量部
を越えると接続部以外における金属粒子相互の絶縁が不
完全となったり、機械的接着強度が不充分となっζくる
場合があることによる。
In addition, 1. The mixing ratio of the adhesive and metal particles in the adhesive layer that is pre-formed into a sheet or that is pre-coated on the substrate is interposed between the conductive pattern and the corresponding conductor as described in E. The metal particles are selected in an amount of 0.5 to 50 parts by volume per 100 parts by volume of the agent (solid content). If it is less than 0.5, the low resistance connection may be insufficient, and if it exceeds 50 capacitance, the insulation between the metal particles other than the connection part may be incomplete, or the mechanical adhesive strength may be insufficient. This is due to the fact that ζ may occur.

また、これに用いられる絶縁性接着剤としては、上述し
た接合時の加圧加熱条件下で少なくとも一1↓は、流動
性が得られる接着剤、例えばゴム系、或いはエチレン−
酢酸ビニール系のいわゆるホソトメルトタイプ或いは熱
架橋するエポキシ糸のリシ硬化型の接着剤を用いること
ができる。
In addition, the insulating adhesive used for this is an adhesive that is fluid at least under the above-mentioned pressure and heating conditions during bonding, such as a rubber-based adhesive or an ethylene-based adhesive.
A so-called photomelt type adhesive based on vinyl acetate or a hardening type adhesive using thermally crosslinkable epoxy threads can be used.

そして、絶縁性接着剤層の厚みは金属粒子の直径の1/
3〜2倍に選定する。
The thickness of the insulating adhesive layer is 1/1 of the diameter of the metal particles.
Select 3 to 2 times.

実施例 以下、第2図、第3図及び第4図を参照して本発明連結
シートの一実施例について説明する。
EXAMPLE Hereinafter, an example of the connecting sheet of the present invention will be described with reference to FIGS. 2, 3, and 4.

(4)は表面を絶縁加工した厚さ200μmのアルミニ
ウムの配線基板を示し、この配線草根(4)表面上には
所定パターンをなす厚さ18μm、線幅50.um銅箔
の導電パターン(5)を厚さ3077+11の接着剤層
を介して配するようにした。また(6)はIcチップを
ボし、このICチップ(6)にはパッド部+71 、 
+81 、 +91 、 (101゜(11) 、(1
2) 、(13) 、(14) 、(1,5)及び(1
6)があり、これらのパッド部171 、 +8) 、
 (91、1101。
(4) shows an aluminum wiring board with a thickness of 200 μm whose surface has been insulated, and a predetermined pattern is formed on the surface of the wiring root (4) with a thickness of 18 μm and a line width of 50. A conductive pattern (5) of um copper foil was arranged through an adhesive layer having a thickness of 3077+11. In addition, (6) is an IC chip, and this IC chip (6) has a pad part +71,
+81, +91, (101°(11), (1
2) , (13) , (14) , (1,5) and (1
6), and these pad portions 171, +8),
(91, 1101.

(11) 、(12) 、(13) 、(14) 、(
15)及び(16)は導電パターン(5)の端部に形成
されたパッド部 (17) 、(1B) 、(19) 
、(20) 、(21) 。
(11) , (12) , (13) , (14) , (
15) and (16) are pad parts (17), (1B), (19) formed at the ends of the conductive pattern (5).
, (20), (21).

(22) 、(23) 、(24) 、(25)及び(
26)と後述するように電気的接続され、ICチップ(
4)が所定の回路動作に寄与するよ・うに4−る。
(22) , (23) , (24) , (25) and (
26) as described later, and the IC chip (
4) contributes to a predetermined circuit operation.

また、(27)はホットメルトタイプの絶縁性接着剤(
28)中に半田金属粒子(29)を分散した塗料より形
成した連結シートを示す。ここで、この絶縁性接着剤(
28)は次の組成とした。
In addition, (27) is a hot melt type insulating adhesive (
28) A connecting sheet formed from a paint in which solder metal particles (29) are dispersed is shown. Here, use this insulating adhesive (
28) had the following composition.

また、この組成の絶縁性接着剤(28)中に、100重
量部の低融点半田金属粒子を均一に分散混合させた。こ
の金属粒子は、Pb−3n合金にその融点が143℃と
された平均粒径25μmの半田金属粒子(29)を用い
た。このように絶縁性接着剤(28)に低融点半田金属
粒子(29)が分散された接着剤塗料を乾燥後の厚さが
20μmとなり、半田金属粒子(29)の径よりも薄く
なるように図ボせずも剥離シート」−にコーターによっ
゛ζ塗布して連結シー 1ト(27)を得た。次に、こ
のICチップ(6)と配線基板(4)との電気的及び機
械的接続を連結シーL (24)を介在させてなす方法
につい゛ζ説明する。第4図において、(30)は30
0℃のヒータを示し、このヒータ(30)上に配線基板
(4)、パッド部(17)。
Furthermore, 100 parts by weight of low melting point solder metal particles were uniformly dispersed and mixed into the insulating adhesive (28) having this composition. As the metal particles, solder metal particles (29) made of a Pb-3n alloy with an average particle size of 25 μm and having a melting point of 143° C. were used. In this way, the adhesive paint in which the low melting point solder metal particles (29) are dispersed in the insulating adhesive (28) is dried so that the thickness after drying is 20 μm, which is thinner than the diameter of the solder metal particles (29). A connected sheet 1 (27) was obtained by coating a release sheet (not shown) with a coater. Next, a method for electrically and mechanically connecting the IC chip (6) and the wiring board (4) by interposing the connecting seam L (24) will be explained. In Figure 4, (30) is 30
A 0° C. heater is shown, and a wiring board (4) and a pad portion (17) are placed on this heater (30).

(1B) 、(19) 、(20) 、(21) 、(
22) 、(23) 。
(1B) , (19) , (20) , (21) , (
22), (23).

(24) 、(25)及び(26)とICチップ(6)
のパッド部(7)、 (8)、 +91. Q(1,(
11) 、(12) 、(13) 。
(24), (25) and (26) and IC chip (6)
Pad portions (7), (8), +91. Q(1,(
11), (12), (13).

(14) 、(15)及び(16)とをそれぞれ対向さ
せその間に異方性電気的連結シート(27)を介在させ
て超音波振動子により2000Hzの振動の与えられた
加圧体(31)により2 kg / cdの圧力を2秒
間だけ矢印方向に与えて加圧圧着した。これによりIC
チップ(6)と配線基板(4)との間で連結シートの絶
縁性接着層(28)に混入された接着層(28)の厚さ
より径の大きい低融点半田粒子(29)がバンド部(1
7) 、(18) 、(19) 、(20) 、(21
) 、(22) 。
(14) , (15) and (16) are each opposed to each other, with an anisotropic electrical connection sheet (27) interposed between them, and a pressure body (31) is vibrated at 2000 Hz by an ultrasonic vibrator. Pressure bonding was performed by applying a pressure of 2 kg/cd for 2 seconds in the direction of the arrow. This allows the IC
Low melting point solder particles (29) having a diameter larger than the thickness of the adhesive layer (28) mixed into the insulating adhesive layer (28) of the connection sheet between the chip (6) and the wiring board (4) are attached to the band portion ( 1
7) , (18) , (19) , (20) , (21
), (22).

(23) 、(24) 、(25)及び(26)とパッ
ド部(7)。
(23), (24), (25) and (26) and the pad portion (7).

+81. (91,Ql、(11) 、(12) 、(
13) 、 (14) 。
+81. (91, Ql, (11) , (12) , (
13), (14).

(15)及び(16)との間で絶縁性接着層より先につ
ぶれ”ζ対応する相力間の電気的接続が良好に確保され
ると共に、接着剤層中の接着剤が加熱によって流動性を
呈するので、特に互いの対向向より実質的突出している
ために圧力が掛けられるパッド部とこれに対応するバン
ド部との間に介在する絶縁性接着剤(28)の多くが側
方に押し出され、これらパッド部間において半田粒子(
29)が、その加熱加圧によって溶融圧潰されパッド部
間が半田づけされて両者が電気的に接続される。このよ
うにして、バンド部相互が電気的に接続された状態では
接続部における導通抵抗が充分小さくされ、接続部間の
絶縁抵抗を充分大となし得る。これは、上述したように
加熱加圧によって、流動性に冨んだ状態とされた絶縁性
接着剤(28)が、パッド間から外側に押し出され両者
が半田金属によって良好に融着され、その接続部外に押
し出された絶縁性接着剤(28)が導電性を有する金属
粒子(29)を良好に包み込み、■一つ隣り合う接続部
間にこの接着剤(28)が存在することによって基板(
4)及びICチップ(6)を強固に固着していることに
因るもの0 と思われる。
(15) and (16) collapse before the insulating adhesive layer, ensuring good electrical connection between the corresponding phase forces, and the adhesive in the adhesive layer becoming fluid due to heating. Therefore, most of the insulating adhesive (28) interposed between the pad portion and the corresponding band portion to which pressure is applied because they substantially protrude from facing each other is pushed out to the side. The solder particles (
29) is melted and crushed by the heat and pressure, and the pad portions are soldered to electrically connect them. In this way, when the band parts are electrically connected to each other, the conduction resistance at the connection part can be made sufficiently small, and the insulation resistance between the connection parts can be made sufficiently large. This is because the insulating adhesive (28), which has been made highly fluid by heating and pressurizing as described above, is pushed outward from between the pads and the two are well fused together by the solder metal. The insulating adhesive (28) pushed out of the connection portion wraps the conductive metal particles (29) well, and the presence of this adhesive (28) between one adjacent connection portion causes the board to (
4) and the IC chip (6) are firmly attached.

また、接着剤l!(2B)の厚みは金属粒子(29)の
直径の1/3〜2倍の間に選定すればよい。これを1/
3未満とすると流動する接着剤の量が不十分となり十分
な接着が得にくく、また2倍より大とすると、金属粒子
(29)がパターン間から流動しでにげてしまい導電性
が十分保てなくなるごとによる。
Also, glue l! The thickness of (2B) may be selected between 1/3 and 2 times the diameter of the metal particles (29). This is 1/
If it is less than 3, the amount of flowing adhesive will be insufficient and it will be difficult to obtain sufficient adhesion, and if it is more than 2 times, the metal particles (29) will flow between the patterns and come off, making it difficult to maintain sufficient conductivity. It depends on when it disappears.

以上述べたように、本実施例によれば複数の導電パター
ンとこれに対応して接続されるべき導電体との間に本発
明による連結シー1− (27)を介在させて加熱加圧
することによって互いに市なる導電パターンと導電体と
の間から多くの絶縁性接着剤を他部にその流動性によっ
て排除して金属粒子(29)によって良好に導電パター
ンのバンド部とICのパッド部間の融着を行い、目、つ
その接続部外に押し出された絶縁性接着剤が導電性を有
する金属粒子を良好に包み込み、はつ隣り合う接続部間
にこの接着剤が多量に存在することによって機械的に強
固にその固着を行なうものである。なお、このよ・うな
現象が効果的に生じ、接続)l(抗を0.1Ω以下、絶
縁抵抗を10゛rΩ以上、好ましくは109Ωとするに
は、絶縁性接着剤の加熱接合時のM。
As described above, according to this embodiment, the connecting seam 1- (27) according to the present invention is interposed between a plurality of conductive patterns and the corresponding conductors to be connected, and heat and pressure are applied. Due to its fluidity, much of the insulating adhesive is removed from between the conductive pattern and the conductor, which are mutually connected to each other, and the metal particles (29) are used to effectively seal the area between the band part of the conductive pattern and the pad part of the IC. After fusion bonding, the insulating adhesive pushed out of the joints of the eyes and hems wraps the conductive metal particles well, and the presence of a large amount of this adhesive between the adjacent joints causes It is mechanically and firmly fixed. In addition, in order for such a phenomenon to occur effectively and the connection resistance to be 0.1Ω or less and the insulation resistance to be 10Ω or more, preferably 109Ω, the M of the insulating adhesive during heat bonding must be .

F、1. (メルト・フロー・インデックス)は、0、
(101以」二、好ましくは0.005以上とする。こ
のM、F、1.は、^STM、 0123BのA法また
はJIS。
F.1. (melt flow index) is 0,
(101 or more), preferably 0.005 or more. This M, F, 1. is ^STM, A method of 0123B or JIS.

K72](lのA法に規定された装置で、所定の圧着温
度において2160gの荷車を印加した時にオリフィス
(孔)から10分間に流出する樹脂のグラム数を示すも
のである。また、絶縁性接着剤層の厚さは、各接続部間
に生じる空間体積の10〜300%好ましくば30〜2
00%とし、その厚さは5〜200μlとすることが望
ましい。
K72] (This is the number of grams of resin that flows out from the orifice (hole) in 10 minutes when a cart of 2160 g is applied at a predetermined pressure bonding temperature using an apparatus specified in Method A of 1. The thickness of the adhesive layer is 10-300% of the spatial volume created between each connection part, preferably 30-20%.
00%, and its thickness is preferably 5 to 200 μl.

発明の効果 ト述したように本発明による連結シートによれば、互い
に電気的に接続する導電パターンと、これに対応する導
電体との間には、主として絶縁性接着剤層(28)との
関係で所定径に選ばれた金属による融着によるので金属
粒子が確実に電気的接続に介在し、低抵抗接続を確実に
行うことができ 11す るものである。したがってこの接続部に電流を通ずる電
流駆動態様を採る場合にも本発明を適用できるという利
点を有する。また、各接続部間には絶縁性接着剤が充填
されていることによってh′、いの接続部間が狭ピッチ
に近接した、すなわち面密度配線を採る場合においても
接続部間の絶d性が確保されることにより、信頼性が向
上し、より商い密度、微細パターンの配線基板が実現で
きるものである。
Effects of the Invention As described above, according to the connection sheet of the present invention, there is mainly an insulating adhesive layer (28) between the conductive patterns that are electrically connected to each other and the corresponding conductors. Since the metal particles are fused to have a predetermined diameter, the metal particles are reliably interposed in the electrical connection, and a low resistance connection can be reliably achieved. Therefore, there is an advantage that the present invention can be applied even when adopting a current drive mode in which current is passed through this connection portion. In addition, since the insulating adhesive is filled between each connection part, the connection parts h' and 2 are close to each other at a narrow pitch, that is, even when using areal density wiring, there is no inconsistency between the connection parts. By ensuring this, reliability is improved and wiring boards with higher commercial density and finer patterns can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のパターン相互の接続例をネオ線図、第2
図、第3図及び第4図は本発明連結シートの一実施例を
不ず線図である。 (7)〜(16) 、(17)〜(26)はバット部、
(27)は連結シート、(28)は絶縁性接着剤、(2
9)は半田粒子である。 3 2
Figure 1 is a neo diagram showing an example of the connection between conventional patterns.
Figures 3 and 4 are dotted line diagrams of an embodiment of the connecting sheet of the present invention. (7) to (16), (17) to (26) are butt parts,
(27) is a connecting sheet, (28) is an insulating adhesive, (2
9) is a solder particle. 3 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 基板上に配された複数の導電パターンと該導電パターン
に対応して電気的に接続される複数の導電体との接続に
当り、」二記複数の導電パターンと導電体との間に介在
されて両者を電気的機械的に連結するようになされる絶
縁性接着剤に金属粉子が分散された接着剤層を有して成
り、上記金属粒子は、上記導電パターンと上記導電体と
の力旧上加熱による接合時に溶融する金属より成り、且
つ該金属粒子の大きさは、上記接合時における上記金属
粒子の大きさが導電パターンと上記導電体との接続部の
間隔より小になるように選定されると共に上記接着剤層
の厚みは上記金属粒子の直径の1/3〜2倍に選定され
、上記絶縁性接着剤は、上記加熱により溶融流動する接
着剤より成る連結シート。
When connecting a plurality of conductive patterns arranged on a substrate and a plurality of conductors that are electrically connected to the conductive patterns, It has an adhesive layer in which metal powder is dispersed in an insulating adhesive that electrically and mechanically connects the two, and the metal particles absorb the force between the conductive pattern and the conductor. The metal particles are made of a metal that melts during bonding by conventional heating, and the size of the metal particles is such that the size of the metal particles during the bonding is smaller than the distance between the connection portion between the conductive pattern and the conductor. and the thickness of the adhesive layer is selected to be 1/3 to 2 times the diameter of the metal particles, and the insulating adhesive is an adhesive that melts and flows when heated.
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