JPS60261526A - 固気接触反応装置 - Google Patents
固気接触反応装置Info
- Publication number
- JPS60261526A JPS60261526A JP59115368A JP11536884A JPS60261526A JP S60261526 A JPS60261526 A JP S60261526A JP 59115368 A JP59115368 A JP 59115368A JP 11536884 A JP11536884 A JP 11536884A JP S60261526 A JPS60261526 A JP S60261526A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- regeneration
- valves
- reactor
- adsorption
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、たとえば、石炭ガス化グロセスの生成ガスの
ような高温の還元性ガス混合物中に含まれる硫化水素（
Ｈ２ｓ）￥を吸収（又は吸着）除去し該吸収剤を再生し
、繰返し使用する改善された固気接触反応装置を提供す
るものである。
ような高温の還元性ガス混合物中に含まれる硫化水素（
Ｈ２ｓ）￥を吸収（又は吸着）除去し該吸収剤を再生し
、繰返し使用する改善された固気接触反応装置を提供す
るものである。
（従来の技術）
近年、原油価格の高騰や輸入原油の重質化への対策とし
て劣質残渣あるいは石炭等の利用技術の開発が進められ
ており、これらｔ−原料としてガス化し得られるガスを
発電や、燃料及び合成原料とする方法は、その代表的な
ものである。
て劣質残渣あるいは石炭等の利用技術の開発が進められ
ており、これらｔ−原料としてガス化し得られるガスを
発電や、燃料及び合成原料とする方法は、その代表的な
ものである。
しかしこのガス化生成ガスには、原料の石炭や重質油に
よって異なるが数１００〜数１１０００ｐｐの硫化水素
を含みこれは公害防止、あるいは後流機器への腐食防止
のために除去が必要である。
よって異なるが数１００〜数１１０００ｐｐの硫化水素
を含みこれは公害防止、あるいは後流機器への腐食防止
のために除去が必要である。
又上記除去方法の一環として乾式法としてＦθ＊ Ｚ
ｎ ａ Ｍｏ ＊ Ｃｕ等の金属酸化物の球状吸収剤を
適用した固定床、移動床、流動床等の固気接触反応装置
が現在使用されているが、ガス化生成ガス中には、未燃
カーボン（チャー）、タール等の煤塵が多量に含まれて
おり上記方法においては何れも下記の欠点があった。
ｎ ａ Ｍｏ ＊ Ｃｕ等の金属酸化物の球状吸収剤を
適用した固定床、移動床、流動床等の固気接触反応装置
が現在使用されているが、ガス化生成ガス中には、未燃
カーボン（チャー）、タール等の煤塵が多量に含まれて
おり上記方法においては何れも下記の欠点があった。
１）従来の球状吸収剤を適用した固定床においては飛散
する煤塵によって目詰りを生じ圧力損矢が増大してガス
化炉の運転に支障をきたす。
する煤塵によって目詰りを生じ圧力損矢が増大してガス
化炉の運転に支障をきたす。
２）吸着剤を移動させ圧力損失の増大を防止する移動床
においては、移動頻度にもよるが吸収剤の破損等も生じ
長時間の安定運転に問題があル、しかも装置が複雑であ
る。
においては、移動頻度にもよるが吸収剤の破損等も生じ
長時間の安定運転に問題があル、しかも装置が複雑であ
る。
３）流動床方式においては移動床と同様吸収剤の摩耗、
飛散等の欠点がある。
飛散等の欠点がある。
従ってこれら従来法の欠点を削除するために最近では固
定床方式の管状構造体、ハニカム状、格子状等の吸収剤
を使用したダストフリータイプの固気接触反応装置が提
案されている。この方法は第２図に示すようにガス化炉
から出た粗ガスを反応器導入バルブ１及び生成工程へ導
くためのラインバルブ５を開にして反応器２に導入し吸
収剤３にてガス中のＨ２Ｓを硫化物として吸収除去する
。
定床方式の管状構造体、ハニカム状、格子状等の吸収剤
を使用したダストフリータイプの固気接触反応装置が提
案されている。この方法は第２図に示すようにガス化炉
から出た粗ガスを反応器導入バルブ１及び生成工程へ導
くためのラインバルブ５を開にして反応器２に導入し吸
収剤３にてガス中のＨ２Ｓを硫化物として吸収除去する
。
前述の如く吸収剤としてはＦａ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃ
ｕ等の金属酸化物があるが例えばＦ、酸化物を吸収剤と
した場合の反応式は下記の通シである。
ｕ等の金属酸化物があるが例えばＦ、酸化物を吸収剤と
した場合の反応式は下記の通シである。
ＭＦａ Ｏ＋Ｈ−＋ ２Ｆａ３０４＋Ｈ２Ｏ２３２
３Ｈ２８＋Ｆｅ３Ｏ４＋Ｈ２−＋ ３ＦｅＳ ＋４Ｈ２
０ＨＯＮ ＋Ｈ２０−＋ ＮＨ３＋Ｃ０ ００８＋Ｈ２Ｓ −＋ ００２＋Ｈ２Ｂ不純物のＲＣＮ
やａＯＳも一部反応し除去される。
０ＨＯＮ ＋Ｈ２０−＋ ＮＨ３＋Ｃ０ ００８＋Ｈ２Ｓ −＋ ００２＋Ｈ２Ｂ不純物のＲＣＮ
やａＯＳも一部反応し除去される。
又吸収時の温度は４００〜４５０ｃ程度で行なわれる。
一方反応器２内の充填吸着剤３が吸着Ｈ２Ｂによって飽
和に達してくると排ガス導入バルブ１及び５のバルブを
閉にし、バルブ６．７を開にして該反応器のガス入口部
よル必要酸素４−１１（Ｎ２ ベース）を供給し次式に
示すような反応を行ない吸着剤を再生さすと同時１ＣＢ
０２ガスを得る。゛すなわち、従来法は吸着工程、再生
工程とも直列方式で行っていた。
和に達してくると排ガス導入バルブ１及び５のバルブを
閉にし、バルブ６．７を開にして該反応器のガス入口部
よル必要酸素４−１１（Ｎ２ ベース）を供給し次式に
示すような反応を行ない吸着剤を再生さすと同時１ＣＢ
０２ガスを得る。゛すなわち、従来法は吸着工程、再生
工程とも直列方式で行っていた。
ＡＦａＳ ＋７０２−＋ ２Ｆｓ２０３＋４８０２（１
Ｍ＝−５８［Ｌ８Ｘ １０ Ｋｃａｌ／ ４Ｆａ８ ｋ
ｙｍｏ７）−４Ｆｅ３０４＋０２→６Ｆθ２０３ 上記反応は発熱反応であるため温度上外は酸素濃度によ
って大きく異なるが例えば第２図の従来法にて入口ガス
温度４ｏＯｒ、＠素濃度０．７ ｖｏ１％（Ｎ２ペース
）の再生ガス量５０ＯＮｒｔｒ３／ ｈの条件で再生を
行った場合反応器第１塔出ロガス温度が約５００Ｃ迄上
昇した。又、反応器が直列方式であり、再生時の酸素供
給が第１塔の入口のみによって行われるため、例えば第
１塔出口では殆んど酸素が消費されてしまい、酸素供給
時間を長くしても、その時間に比例しただけの再往率は
得られない。又上記条件で再生時ＩＣ得られたＳＯ２濃
度は約４０００ ｐｐｍであった。
Ｍ＝−５８［Ｌ８Ｘ １０ Ｋｃａｌ／ ４Ｆａ８ ｋ
ｙｍｏ７）−４Ｆｅ３０４＋０２→６Ｆθ２０３ 上記反応は発熱反応であるため温度上外は酸素濃度によ
って大きく異なるが例えば第２図の従来法にて入口ガス
温度４ｏＯｒ、＠素濃度０．７ ｖｏ１％（Ｎ２ペース
）の再生ガス量５０ＯＮｒｔｒ３／ ｈの条件で再生を
行った場合反応器第１塔出ロガス温度が約５００Ｃ迄上
昇した。又、反応器が直列方式であり、再生時の酸素供
給が第１塔の入口のみによって行われるため、例えば第
１塔出口では殆んど酸素が消費されてしまい、酸素供給
時間を長くしても、その時間に比例しただけの再往率は
得られない。又上記条件で再生時ＩＣ得られたＳＯ２濃
度は約４０００ ｐｐｍであった。
尚再往時間を短縮するためには酸素濃度を上げれば良い
わけであるがしかし濃度が高くなシすぎると発熱反応に
ともなう温度上昇が著しくなシ吸着剤の失活や同温度に
耐えつる高級材料あるい＃′ｉ除熱装置等が必要となシ
コストアップとなってあまり好才しくない。通常６００
Ｃ程度以下になるような酸素濃度で再生を行なうのがペ
ターである。
わけであるがしかし濃度が高くなシすぎると発熱反応に
ともなう温度上昇が著しくなシ吸着剤の失活や同温度に
耐えつる高級材料あるい＃′ｉ除熱装置等が必要となシ
コストアップとなってあまり好才しくない。通常６００
Ｃ程度以下になるような酸素濃度で再生を行なうのがペ
ターである。
いづれにおいても従来法は吸収、再生とも直列方式にて
行っていたため再生にかなシの時間を要する欠点があっ
た。
行っていたため再生にかなシの時間を要する欠点があっ
た。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は上記従来法の欠点を解消しつる固気接触反応装
置を提供せんとするものである。
置を提供せんとするものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明はガス中の不純物などを、吸収あるいは吸着など
の充填剤によって除去し、該使用済み充填剤を繰返し再
往し使用する方法において、該充填剤が充填された反応
器を複数配置し、順次反応器を経由してガス中の不純物
の除去を行なわせる直列ラインと、各反応器を並列に同
時再生させるための廉列ラインを設け、複数のバルブ切
替えによって吸収（又は吸着）と再生工程を一体化した
ことを特徴とする固気接触反応装置である。
の充填剤によって除去し、該使用済み充填剤を繰返し再
往し使用する方法において、該充填剤が充填された反応
器を複数配置し、順次反応器を経由してガス中の不純物
の除去を行なわせる直列ラインと、各反応器を並列に同
時再生させるための廉列ラインを設け、複数のバルブ切
替えによって吸収（又は吸着）と再生工程を一体化した
ことを特徴とする固気接触反応装置である。
本発明の一実施態様を第１図に示す。
まず吸着工程の場合（従来法と同じ直列方式）、反応器
２に導くだめの粗ガス導入バルブ１及びバルブ８さらＫ
は反応後のクリーンな精製ガスとして導かれるラインバ
ルブ５を開にし、その他のバルブｒ６ｔｖ）を閉にして
粗ガスを反応器２に導き吸着剤３によって排ガス中のＨ
２Ｓを吸着させ吸着剤が飽和に達したら粗ガス導入バル
ブ１及びＭＨガス導入バルブ５及びバルブ８を閉にする
。
２に導くだめの粗ガス導入バルブ１及びバルブ８さらＫ
は反応後のクリーンな精製ガスとして導かれるラインバ
ルブ５を開にし、その他のバルブｒ６ｔｖ）を閉にして
粗ガスを反応器２に導き吸着剤３によって排ガス中のＨ
２Ｓを吸着させ吸着剤が飽和に達したら粗ガス導入バル
ブ１及びＭＨガス導入バルブ５及びバルブ８を閉にする
。
次に再生工程として各反応器人、出口部に設けられたバ
ルブ９、及びバルブ７を開にして再生ガス導入バルブ６
を開にして、再生に必要な酸Ｘ濃度（Ｎ２ベース）を調
整した再生ガス４を供給し再生を行う方法である。すな
わち吸着工程は従来法と同じ直列吸着方式であるが、再
生工程の場合は各反応器にシリーズにガスを供給するた
め処理ガス量としては４倍必要であるが従来法に対し以
下の利点がある。
ルブ９、及びバルブ７を開にして再生ガス導入バルブ６
を開にして、再生に必要な酸Ｘ濃度（Ｎ２ベース）を調
整した再生ガス４を供給し再生を行う方法である。すな
わち吸着工程は従来法と同じ直列吸着方式であるが、再
生工程の場合は各反応器にシリーズにガスを供給するた
め処理ガス量としては４倍必要であるが従来法に対し以
下の利点がある。
すなわち、従来法は直列方式のため再生時に長時間を必
要としたが、本発明によれば再生時はシリーズにガスを
供給して行なうもので従来法に対してＫの時間で再生が
可能である。例え１よ− ） ば、脱硫率８０％を得るのに本発明では約１時間必
要であったが、従来法では同時間で約３６％の脱硫率し
か得られなかった。従って従来法で８０％の脱硫率を得
るには約４倍の４時間が必要であった。
要としたが、本発明によれば再生時はシリーズにガスを
供給して行なうもので従来法に対してＫの時間で再生が
可能である。例え１よ− ） ば、脱硫率８０％を得るのに本発明では約１時間必
要であったが、従来法では同時間で約３６％の脱硫率し
か得られなかった。従って従来法で８０％の脱硫率を得
るには約４倍の４時間が必要であった。
尚、吸収、再生は連続で行なわなければならないが従来
法は吸収、再生に必要な反応器が少なくとも５セット以
上必要であったのに対し、本発明は２セット以上で連続
、吸収、再生が可能である。以上の如く本発明は従来法
の直列再生方式に対し、並列に再生を行なうものでこれ
に伴ない再生時間の短縮さらには反応器のセット数が少
なくて従来と同様な吸収、再生が可能であることからコ
ストダウンが計れるため実用上その貢献度は大といえる
。
法は吸収、再生に必要な反応器が少なくとも５セット以
上必要であったのに対し、本発明は２セット以上で連続
、吸収、再生が可能である。以上の如く本発明は従来法
の直列再生方式に対し、並列に再生を行なうものでこれ
に伴ない再生時間の短縮さらには反応器のセット数が少
なくて従来と同様な吸収、再生が可能であることからコ
ストダウンが計れるため実用上その貢献度は大といえる
。
第１図は本発明一実施態様の説明図、第２図は従来法の
直列吸着、再生法の概要図である。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 −
直列吸着、再生法の概要図である。 復代理人 内 １） 明 復代理人 萩 原 亮 −
Claims (1)
- ガス中の不純物などを、吸収あるいは吸着などの充填剤
によって除去し、該使用済み充填剤を繰返し再生し使用
する方法において、該充填剤が充填された反応器を複数
配置し、ｊ餉次反応器を経由してガス中の不純物の除去
を行なわ候る直列ラインと、各反応器を並列に同時再生
させるための並列ラインを設け、複数のバルブ切替えに
よって吸収（又は吸着）と再生工程を一体化したことを
特徴とする固気接触反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59115368A JPS60261526A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 固気接触反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59115368A JPS60261526A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 固気接触反応装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60261526A true JPS60261526A (ja) | 1985-12-24 |
Family
ID=14660793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59115368A Pending JPS60261526A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 固気接触反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60261526A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003103134A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-08 | Toshiba Corp | Ｓｆ６ガス捕集装置およびその方法 |
-
1984
- 1984-06-07 JP JP59115368A patent/JPS60261526A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003103134A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-08 | Toshiba Corp | Ｓｆ６ガス捕集装置およびその方法 |
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