JPS60255427A - サ−マル・シ−ルド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、サーマル・シールドに関するものであり、
とりわけ１人工衛星の熱制御を行うアルミ蒸着ポリイミ
ドフィルムでなるサーマル・シールドに関するものであ
る。

〔従来の技術〕

従来この種のアルミ蒸着ポリイミドフィルムでなるチー
１ン働シールドとしては第１図に示すものがあった。図
におい℃、厚さがｌλμ属〜、ｌコアμ暴程度のポリイ
ミドフィルムｌの裏面に数ｉｏｏ〜数１０ＯＯＡの厚さ
までアルミニウム蒸着層コが形成され、このアルミニウ
ム蒸着層コが衛星構体と電気的に接続されてなるもので
ある。

゛以上の構成になるサーマル・シールドは、衛星の表面
に取り付けられ人工衛星パ内部の搭載機器を適正な許容
温度範囲′内に保つ機能を有しているが。

それは、サーマル・シールドの太陽光吸収率と赤外輻射
率により受動的圧なされる。太陽光吸収率は、ポリイミ
ド・フィルムｌを透過してきた太陽光を裏面に蒸着され
たアルミニウム蒸着層コで反射する性質により決まり、
赤外輻射率は衛星内部で発生した熱をポリイミド・フィ
ルム／で吸収し赤外線として輻射する性質により決まる
。

しかし、従来のサーマル・シールドｉ言以上のように構
成されていたので、宇宙側に露出したポリイミド・フィ
ルムｌが太陽光スペクトルの中に含まれる紫外線により
劣化し、太陽光吸収率が増加するという欠点があった。

〔発明の概要〕

この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ためになされたもので、アルミ蒸着ポリイミドフィルム
の表面に高分子薄膜を形成することＩＣより太陽光の紫
外線による劣化を防止しうるサーマル・シールドを提供
する。

〔発明の実施例〕

以下、この発明の一実施例を第１図と同一部分に同一符
号を付した第２図について説明する。第２図において、
ポリイミドフィルムｌの表面にイオンビームスパッタリ
ング、プラズマ重合、クラスターイオンビーム法等の薄
膜形成技術により、フルオロエチレン−プロピレン共重
合体（ＦＥｐ）。

またはポリテトラ−フルオロエチレン（ＰＴＦｍ）の高
分子でなる厚さ１μｍ程度の高分子薄膜３を形成してな
る。

上記のように構成されたサーマル・シールドにおいては
、ＦＥＰｇたはＰＴＦＥの高分子薄膜３は太陽光スペク
トルの紫外領域に吸収があるにも拘らずポリイミドに比
較して紫外線劣化しにくいという性質を有しているので
、ポリイミド・フィルム／には紫外線が入射せず、紫外
線劣化が防止される。また、高分子薄膜３は可視光領域
においてほとんど透明であるので、太陽光吸収率は第１
図に示した従来のものとほぼ同等の初期特性を保持する
ものである。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明によれば、アルミ蒸着ポリイミ
ドフィルムの表面に高分子薄膜を形成した構成により、
紫外線劣化を防止でき、サーマル書シールドの長寿命化
をはかることができ、信頼性の高い衛星システムを構築
できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来のものの断面図、第２図はこの発明の一実
施例の断面図である。 ／＋１６ポリイミドフイルム、コ・・アルミニウム蒸着
層、３・・高分子薄膜。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分をに１図 苑２図 ス 手続補正書（自発） 昭和６ｏ隼３　Ｆ１９Ｂ 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和ｊ？年特許願第１０９４１０　号 ２、発明の名称 サーマル・シールド ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住　所　東京都千代田区丸の内二丁目２番３号住　所　
東京都千代田区丸の内二丁目４番１号ム　補正の内容 ｆｌｌ　特許請求の範囲を別紙のとおり補正する。 （２）　明細書第１頁第１デ行 「サーマンＪを１サーマル」と補正する。 （別　紙） 特許請求の範囲 裏面忙アルミニウム蒸着層が形成されたポリイミドフィ
ルムと、このポリイミドフィルムの表面圧形成されフル
オロエチレン−プロピレン共重合体（ＦｇＰ）およびポ
リテトラフルオロエチレン（ＰＴＦｇ　）のいずれかで
なる高分子薄膜とを備えてなるサーマルＯシールド。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）　裏面にアルミニウム蒸着層が形成されたポリイ
   ミドフィルムと、このボリエミドフイルムの表面に形成
   されフルオロエチレン−プロピレン共重合体（ＦｇＰ）
   およびポリテトラフルオロエチレン（ｐＴＦｍ）のいず
   れかでなる高分子薄膜とを備えてなるサーマル・シール
   ド◎