JPS60253209A - 電解コンデンサ用アルミニウム箔上に形成された酸化物の厚さを連続的に監視する方法 - Google Patents
電解コンデンサ用アルミニウム箔上に形成された酸化物の厚さを連続的に監視する方法Info
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- JPS60253209A JPS60253209A JP60071294A JP7129485A JPS60253209A JP S60253209 A JPS60253209 A JP S60253209A JP 60071294 A JP60071294 A JP 60071294A JP 7129485 A JP7129485 A JP 7129485A JP S60253209 A JPS60253209 A JP S60253209A
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- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電解コンデンサでの使用を目的とする移動ア
ルミニウム箔上に形成された酸化アルミニウム皮膜の厚
さを連続的に監視するための方法に関する。さらに詳細
には、本発明は形成箔（ｆｏｒｍｅｄ ｆｏｉｌ ）が
酸化物形成装置から外出する際に回路の電気容量を連続
的に監視するための方法に関する。
ルミニウム箔上に形成された酸化アルミニウム皮膜の厚
さを連続的に監視するための方法に関する。さらに詳細
には、本発明は形成箔（ｆｏｒｍｅｄ ｆｏｉｌ ）が
酸化物形成装置から外出する際に回路の電気容量を連続
的に監視するための方法に関する。
「形成箔」という用語及びその変化語は、コンデンサ技
術で常用の術語のように陽極酸化を意味するために用い
る。
術で常用の術語のように陽極酸化を意味するために用い
る。
従来の技術
従来箔は、裸アルミニウム箔を電解液中を移動して、ア
ルミニウムと電解液との間に電圧を印加することによっ
て「形成」される〔ギルバート（Ｇ１１ｂｅｒｔ ）等
：米国特許第３．９６２，０４８号（１９７６年６月８
日）に詳述されている〕。
ルミニウムと電解液との間に電圧を印加することによっ
て「形成」される〔ギルバート（Ｇ１１ｂｅｒｔ ）等
：米国特許第３．９６２，０４８号（１９７６年６月８
日）に詳述されている〕。
（６）
被形成アルミニウム箔は通常、該箔の一平方面積当りの
有効表面積を増大させ、次に酸化アルミニウム皮膜の所
定の厚さに関してアルミニウムの一平方で得られる電気
容量を増大させるようにエッチされている。酸化アルミ
ニウムは電解コンデンサの誘電体になることができる。
有効表面積を増大させ、次に酸化アルミニウム皮膜の所
定の厚さに関してアルミニウムの一平方で得られる電気
容量を増大させるようにエッチされている。酸化アルミ
ニウムは電解コンデンサの誘電体になることができる。
また、一般に電気容量は酸化アルミニウム皮膜の厚さに
逆比例することも注目しなければならない。
逆比例することも注目しなければならない。
一様なエッチで、一様な厚さの酸化物皮膜を製造するこ
とによって、許容差がより小さくかつ／又はコストのよ
り低いコンデンサが得られることは周知である。これは
、米国特許第４．２７９，７１４号（１９８１年６月２
１日発行）でアローン（Ａｒｏｒａ ）等によってさら
に詳述されている。
とによって、許容差がより小さくかつ／又はコストのよ
り低いコンデンサが得られることは周知である。これは
、米国特許第４．２７９，７１４号（１９８１年６月２
１日発行）でアローン（Ａｒｏｒａ ）等によってさら
に詳述されている。
現在、周期的に、形成されたアルミニウム皮膜の試料片
を切取り、同片を電解液を含むビーカー中に浸漬し、次
にアルミニウムと電解液との間に交流電圧を印加し、次
に無効電流（４） （ｒｅａｃｔｉｖｅ ｃｕｒｒｅｎｔ ） ’：交流電
圧の比（この比から試料の電気容量が決定されつる）を
決定することは慣用である。この試料採取法は、時間浪
費の他に、所定のキャパシタンスのコンデンサに組込ま
れるべき形成箔の正確な量の決定を可能にするための情
報を十分には提供しない、これは酸化物皮膜の厚さなら
びに箔の長さに沿うエッチ比（ｅｔｃｈ ｒａｔｉｏ
）の変化による。
を切取り、同片を電解液を含むビーカー中に浸漬し、次
にアルミニウムと電解液との間に交流電圧を印加し、次
に無効電流（４） （ｒｅａｃｔｉｖｅ ｃｕｒｒｅｎｔ ） ’：交流電
圧の比（この比から試料の電気容量が決定されつる）を
決定することは慣用である。この試料採取法は、時間浪
費の他に、所定のキャパシタンスのコンデンサに組込ま
れるべき形成箔の正確な量の決定を可能にするための情
報を十分には提供しない、これは酸化物皮膜の厚さなら
びに箔の長さに沿うエッチ比（ｅｔｃｈ ｒａｔｉｏ
）の変化による。
したがって本発明の目的は、形成アルミニウム箔の電気
容量を監視し、このようにして回路の酸化物の厚さの程
度を監視する連続的方法を提供することである。
容量を監視し、このようにして回路の酸化物の厚さの程
度を監視する連続的方法を提供することである。
また他の目的は、形成箔が連続的形成装置を外出する点
で有効であるような連続的監視方法を提供することであ
る。
で有効であるような連続的監視方法を提供することであ
る。
問題点を解決するための手段
本発明によればアルミニウム箔が分離せる両電解液中を
牽引され、両電解液中に浸漬された２個の電極の間に交
流電圧源が接続される。生じる無効電流は該箔のキャパ
シタンスナラびに酸化物厚さの尺度である。
牽引され、両電解液中に浸漬された２個の電極の間に交
流電圧源が接続される。生じる無効電流は該箔のキャパ
シタンスナラびに酸化物厚さの尺度である。
アルミニウム箔上に形成された酸化物の厚さを連続的に
監視するためには、このような形成箔が先づ分離せる他
の電解液中を牽引される。
監視するためには、このような形成箔が先づ分離せる他
の電解液中を牽引される。
これらの両電解液は同じか又は異なる組成を有していて
もよいが、電気的には相互に隔離されていなげればなら
ない。一方及び他方の電解液中にはそれぞれ第１及び第
２電極が浸漬されている。酸化物誘電体を介してアルミ
ニウム箔と容量関係を有する各電解液中に無効電流（ｒ
ｅａｃｔｉｖｅ Ｃｕｒｒｅｎｔ ）を流す２個の電極
の間に交流電圧源が接続されている。箔は回路を完結す
る。交流電圧源の電圧が一定であるとすれば、無効電流
は容量の直接的尺度であり、従ってアルミニウム箔を被
覆する酸化物皮膜の厚さの逆尺度である。
もよいが、電気的には相互に隔離されていなげればなら
ない。一方及び他方の電解液中にはそれぞれ第１及び第
２電極が浸漬されている。酸化物誘電体を介してアルミ
ニウム箔と容量関係を有する各電解液中に無効電流（ｒ
ｅａｃｔｉｖｅ Ｃｕｒｒｅｎｔ ）を流す２個の電極
の間に交流電圧源が接続されている。箔は回路を完結す
る。交流電圧源の電圧が一定であるとすれば、無効電流
は容量の直接的尺度であり、従ってアルミニウム箔を被
覆する酸化物皮膜の厚さの逆尺度である。
酸化物厚さの前記尺度は、形成箔の長さに沿う分離及び
特性決定において有用であり、形成箔を許容差の小さい
コンデンサを極めて正確に製造する方法で使用する場合
には、回路に沿う容量分布が記録されうるし、そうでな
い場合には酸化物厚さの尺度は形成工程パラメータ、例
えば牽引速度又は形成電流の振幅の調整によって酸化物
厚さそのものを調節するために有用である。
特性決定において有用であり、形成箔を許容差の小さい
コンデンサを極めて正確に製造する方法で使用する場合
には、回路に沿う容量分布が記録されうるし、そうでな
い場合には酸化物厚さの尺度は形成工程パラメータ、例
えば牽引速度又は形成電流の振幅の調整によって酸化物
厚さそのものを調節するために有用である。
次に図面により本発明の実施態様を説明する。
実施例
第１図は、エッチされて形成されたアルミニウム箔１０
が左から右にアイドラーローラ１２を介して牽引され、
その結果回路１０が先づタンク１６に含有された電解液
１４中で浸漬され、次にタンク２０に含有された電解液
１８中で浸漬されることを示す。この際使用される特定
の電解液は、アルミニウム箔の電鋳で代表的に使用され
るもの、つまり約２０００−儒の抵抗率を有する燐酸二
水素アンモニウムの水溶液である。
が左から右にアイドラーローラ１２を介して牽引され、
その結果回路１０が先づタンク１６に含有された電解液
１４中で浸漬され、次にタンク２０に含有された電解液
１８中で浸漬されることを示す。この際使用される特定
の電解液は、アルミニウム箔の電鋳で代表的に使用され
るもの、つまり約２０００−儒の抵抗率を有する燐酸二
水素アンモニウムの水溶液である。
また第１及び第２ステンレススチール電極２２及び２４
も電解液１４及び１８にそれぞれ（７） 浸漬されかつ箔１０から一定間隔を保つ。交流電圧源２
６が電極２２及び２４の間に接続されている。電流計２
８は交流電源２６と直列に接続され、電圧計３０は電源
２６と並列接続されている。
も電解液１４及び１８にそれぞれ（７） 浸漬されかつ箔１０から一定間隔を保つ。交流電圧源２
６が電極２２及び２４の間に接続されている。電流計２
８は交流電源２６と直列に接続され、電圧計３０は電源
２６と並列接続されている。
形成箔１０が連続する二つの電解液中を牽引されると、
（Ａ）電解液１４、誘電体としての酸化アルミニウム皮
膜及び箔１０かも形成されたコンデンサ；（Ｂ）箔１０
；及び（Ｃ）箔１０、誘電体としての酸化アルミニウム
皮膜及び電解液１８から形成されたコンデンサを介して
電極２２及び２４の間に交流が流れる。
（Ａ）電解液１４、誘電体としての酸化アルミニウム皮
膜及び箔１０かも形成されたコンデンサ；（Ｂ）箔１０
；及び（Ｃ）箔１０、誘電体としての酸化アルミニウム
皮膜及び電解液１８から形成されたコンデンサを介して
電極２２及び２４の間に交流が流れる。
前記の各電解コンデンサーは、箔１０での電圧が電解液
１４又は１８の電圧に対して正である場合のみコンデン
サとして有効である。しかしこれらの電解コンデンサの
一つが、約１．３ｖを越えるバイアス電圧によって逆に
なると、そのコンデンサは導電する。従って各電解コン
デンサは、ダイオードに比較される理想コンデンサから
成る等価回路を有する。従って電極２２（８） 及び２４の印加交流電圧が約１０Ｖより大きい場合には
、電流は理想コンデンサの一つの容量に相応する容量性
リアクタンスによって制限される。しかしＱ、９ Ｖ
（ｒ、ｍ、ｓ ） （−０，７０７Ｘ１゜３Ｖ）未満の
電圧が電極２２及び２４０間に印加される場合には、２
個の直列理想コンデンサのりアクタンスに相応して２倍
だけ電流は減少される。
１４又は１８の電圧に対して正である場合のみコンデン
サとして有効である。しかしこれらの電解コンデンサの
一つが、約１．３ｖを越えるバイアス電圧によって逆に
なると、そのコンデンサは導電する。従って各電解コン
デンサは、ダイオードに比較される理想コンデンサから
成る等価回路を有する。従って電極２２（８） 及び２４の印加交流電圧が約１０Ｖより大きい場合には
、電流は理想コンデンサの一つの容量に相応する容量性
リアクタンスによって制限される。しかしＱ、９ Ｖ
（ｒ、ｍ、ｓ ） （−０，７０７Ｘ１゜３Ｖ）未満の
電圧が電極２２及び２４０間に印加される場合には、２
個の直列理想コンデンサのりアクタンスに相応して２倍
だけ電流は減少される。
交流電圧源２６は約ｌ Ｈｚの周波数を有する。
この低周波数は。容量性リアクタンスが比較的低い周波
数では太き（なり、その結果容量性リアクタンスが流れ
る電流の大きさを決定する回路の直列抵抗に亘って支配
的であるという利点を有する。このような直列抵抗は電
解液１４及び１８を通る電流路及び１つのタンク１６か
ら他のタンク２０への箔の抵抗を包含する。従って箔１
００単位面積当りの容量の尺度は交流電流：印加交流電
圧の比であり、基１０上に形成された酸化アルミニウム
皮膜が厚（なればなる程、それだけ容量及び交流電流は
小さくなる。
数では太き（なり、その結果容量性リアクタンスが流れ
る電流の大きさを決定する回路の直列抵抗に亘って支配
的であるという利点を有する。このような直列抵抗は電
解液１４及び１８を通る電流路及び１つのタンク１６か
ら他のタンク２０への箔の抵抗を包含する。従って箔１
００単位面積当りの容量の尺度は交流電流：印加交流電
圧の比であり、基１０上に形成された酸化アルミニウム
皮膜が厚（なればなる程、それだけ容量及び交流電流は
小さくなる。
前記直列抵抗が無意味でない場合には、交流電流の大き
さを単に監視する代りに、交流電流の無効（進み）成分
の大きさのみを測定しかつ、選択的に使用して、形成筋
１０に起因する電流のより正確な程度を得ることもでき
る。
さを単に監視する代りに、交流電流の無効（進み）成分
の大きさのみを測定しかつ、選択的に使用して、形成筋
１０に起因する電流のより正確な程度を得ることもでき
る。
無効電流のみを得るための多数の周知の方法のなかに、
リングブリッジ又はリング復調器型の位相感応検波器が
ある。リング復調器は、電流計２８の一部分として電圧
源２６より９０゜進んでいる電流の部分に比例する直流
電圧を生じる。
リングブリッジ又はリング復調器型の位相感応検波器が
ある。リング復調器は、電流計２８の一部分として電圧
源２６より９０゜進んでいる電流の部分に比例する直流
電圧を生じる。
リング復調器型位相検波器は、Ｄ、Ｍ、バトン（Ｈｕｔ
ｔｏｎ ） 著、イントロダクション・ツー・エレクロ
リツクス（Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｔ。
ｔｏｎ ） 著、イントロダクション・ツー・エレクロ
リツクス（Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ ｔ。
Ｅｌｅｃｔｒｏｒｉｃｓ ） （ホルト（Ｈｏ１ｔ ）
、リンバー） （Ｒｉｎｈａｒｔ ）及びウィンストン
（Ｗｉｎｓｔｏｎ ）によって１９６４年ニューヨーク
で出版〕に記載されている。参照進み電圧（ｌｅａｄｉ
ｎｇｖｏｌｔａｇｅｓ ）は標準位相移動回路網によっ
て容易に得られる。
、リンバー） （Ｒｉｎｈａｒｔ ）及びウィンストン
（Ｗｉｎｓｔｏｎ ）によって１９６４年ニューヨーク
で出版〕に記載されている。参照進み電圧（ｌｅａｄｉ
ｎｇｖｏｌｔａｇｅｓ ）は標準位相移動回路網によっ
て容易に得られる。
有利には監視すべき交流電流の回路の抵抗を減少させる
方向に、図面に図示した電極（例えば第１図では２２）
対向して箔の側に配置された付加的電極を付加すること
ができる。このような付加的電極は図面を簡単明瞭にす
るために省略した。
方向に、図面に図示した電極（例えば第１図では２２）
対向して箔の側に配置された付加的電極を付加すること
ができる。このような付加的電極は図面を簡単明瞭にす
るために省略した。
２個の電解液タンク１４及び１８ならびに各タンク中の
各電極２２及び２４を使用することにより、アルミニウ
ム箔自体に直接接触することな（酸化物の厚さの測定が
可能になる。直接接触は“引取（ｔ、ａｋｅ ｏｆｆ＋
）”ロールのスピンドルで形成皮膜のロールの出発端
に対してなされるか又は°“巻取（ｔａｋｅ ｕｐ ）
”−ロールのスピンドルで箔の前端で行われうる。この
場合には電解液を含有する唯１個のタンクを使用すれば
よい。このような直接接触により、直列抵抗は極めて高
（、より一層可変的になりうる。本発明による２個のタ
ンク／２個の電極方法は、これらすべての難点を克服し
かつより一層正確であり、信頼できる。
各電極２２及び２４を使用することにより、アルミニウ
ム箔自体に直接接触することな（酸化物の厚さの測定が
可能になる。直接接触は“引取（ｔ、ａｋｅ ｏｆｆ＋
）”ロールのスピンドルで形成皮膜のロールの出発端
に対してなされるか又は°“巻取（ｔａｋｅ ｕｐ ）
”−ロールのスピンドルで箔の前端で行われうる。この
場合には電解液を含有する唯１個のタンクを使用すれば
よい。このような直接接触により、直列抵抗は極めて高
（、より一層可変的になりうる。本発明による２個のタ
ンク／２個の電極方法は、これらすべての難点を克服し
かつより一層正確であり、信頼できる。
（１１）
第１図の箔１０は、それを形成した装置から直接牽引さ
れうる。第２図の場合は、２個のタンクのうち第１のタ
ンク３０は形成装置そのものであり、容量を連続的に監
視するためには１個の付加的タンク３２しか必要ではな
い。形成装置は、形成電解液３４を含有するタンク３０
、アイドラーローラー３６及び電極３８から構成されて
いる。さらに形成装置は電極３８及び未形成裸アルミニ
ウム箔４６０ロール４４がその上に取付けられた金属ス
ピンドル４２０間に接続された直流電圧源４０も包含す
る。
れうる。第２図の場合は、２個のタンクのうち第１のタ
ンク３０は形成装置そのものであり、容量を連続的に監
視するためには１個の付加的タンク３２しか必要ではな
い。形成装置は、形成電解液３４を含有するタンク３０
、アイドラーローラー３６及び電極３８から構成されて
いる。さらに形成装置は電極３８及び未形成裸アルミニ
ウム箔４６０ロール４４がその上に取付けられた金属ス
ピンドル４２０間に接続された直流電圧源４０も包含す
る。
アルミニウム箔４６は形成装置でローラー３６を介して
移動され、次に第２タンク３２に含有された第２電解液
中ではアイドラーローラー４８を介して移動される。第
２電解液５０中に含浸された電極５４及び形成電解液３
４中に含浸された補助電極５６は交流電圧源５８によっ
て通電される。直列に接続された電流計６０及び電圧源
５８に並列接続された電圧計６２は、任意の瞬時に電極
５４及び５６の間のインビー（１２） ダンスを計算するのに必要な連続的データを供給する。
移動され、次に第２タンク３２に含有された第２電解液
中ではアイドラーローラー４８を介して移動される。第
２電解液５０中に含浸された電極５４及び形成電解液３
４中に含浸された補助電極５６は交流電圧源５８によっ
て通電される。直列に接続された電流計６０及び電圧源
５８に並列接続された電圧計６２は、任意の瞬時に電極
５４及び５６の間のインビー（１２） ダンスを計算するのに必要な連続的データを供給する。
形成タンク３０における電極５６及び箔４６の間の電気
容量は、第２タンク３２における電極５４及び箔４６の
間の同容量よりも高い大きさのオーダーであることが予
想される。それというのも形成タンク３０における箔４
６は極めて長い長さを有するからである。従って第２り
る。この場合には印加電圧は０．９ｖ未満でなければな
らないか又は、無意味な読みが得られるであろう。
容量は、第２タンク３２における電極５４及び箔４６の
間の同容量よりも高い大きさのオーダーであることが予
想される。それというのも形成タンク３０における箔４
６は極めて長い長さを有するからである。従って第２り
る。この場合には印加電圧は０．９ｖ未満でなければな
らないか又は、無意味な読みが得られるであろう。
形成装置における形成電流の電圧源４０は代表的には数
千アンペアである。この電流は交流源から整流によって
得られた交流成分を有することが多い。このような６［
］Ｈｚの電流成分は通常形成装置中の到る処に存在して
いる。電圧源５８で極めて低い周波数を用いかつ電流計
６０で低通過フィルタを用いることによって、６０ Ｈ
ｚの電流又はその調波の読みが回避される。この理由か
ら電圧源５８で１０Ｈｚ以下の低周波数を用いてこのよ
うな濾波をコスト的により小さくするのが有利である。
千アンペアである。この電流は交流源から整流によって
得られた交流成分を有することが多い。このような６［
］Ｈｚの電流成分は通常形成装置中の到る処に存在して
いる。電圧源５８で極めて低い周波数を用いかつ電流計
６０で低通過フィルタを用いることによって、６０ Ｈ
ｚの電流又はその調波の読みが回避される。この理由か
ら電圧源５８で１０Ｈｚ以下の低周波数を用いてこのよ
うな濾波をコスト的により小さくするのが有利である。
１０Ｈｚ以下の周波数を使用することによってより一層
有効な濾波さえも可能である。しがし０．１ Ｈｚ以下
では本発明による方法を用いて実現可能の大きい正確度
の利点は、少な（とも今日使用されている形成法及び装
置に関しては減少復帰点に到達し始める。低周波数の一
つの欠点は、系の応答時間減少である。箔キャパシタン
スの急変は、形成の不整が全（回避されるように除去さ
れうる。このようにしてすべての要因を考慮すると、好
ましい周波数の範囲は０．５〜２ Ｈｚである。
有効な濾波さえも可能である。しがし０．１ Ｈｚ以下
では本発明による方法を用いて実現可能の大きい正確度
の利点は、少な（とも今日使用されている形成法及び装
置に関しては減少復帰点に到達し始める。低周波数の一
つの欠点は、系の応答時間減少である。箔キャパシタン
スの急変は、形成の不整が全（回避されるように除去さ
れうる。このようにしてすべての要因を考慮すると、好
ましい周波数の範囲は０．５〜２ Ｈｚである。
電解液、例えば電解液５０の液面は、蒸発により、また
電解液が箔の外出時に苗土で運び去られることにより、
また長時間に亘るタンク（例えばタンク３２）中の沈降
物の蓄積により変化するであろう。酸化物厚さく又は容
量）連（１５） 続監視装置の最適正確度及び反復性のためには、第２図
の単一タンク３２及び第１図の両タンク１６及び２０中
の電解液の液面を一定に保つための多数の慣用装置を全
部使用する必要がある。
電解液が箔の外出時に苗土で運び去られることにより、
また長時間に亘るタンク（例えばタンク３２）中の沈降
物の蓄積により変化するであろう。酸化物厚さく又は容
量）連（１５） 続監視装置の最適正確度及び反復性のためには、第２図
の単一タンク３２及び第１図の両タンク１６及び２０中
の電解液の液面を一定に保つための多数の慣用装置を全
部使用する必要がある。
この目的のために、ポンプ及びせき式液面安定化装置の
標準的組合せを使用してもよい。
標準的組合せを使用してもよい。
第１図は本発明による方法の一実施態様で用いる装置の
略示断面図であり、第２図は他の実施態様における装置
の略示断面図である＝１０．４６・・・アルミニウム箔
、１４・・・第１の電解液、１８．５０・・・第２の電
解液、２２゜５６・・第１電極、２４．５４・・・第２
電極、２６゜５８・・・交流電圧源、３０・・・形成タ
ンク、３２・・・第２のタンク、３４・・形成電解液 （１６）
略示断面図であり、第２図は他の実施態様における装置
の略示断面図である＝１０．４６・・・アルミニウム箔
、１４・・・第１の電解液、１８．５０・・・第２の電
解液、２２゜５６・・第１電極、２４．５４・・・第２
電極、２６゜５８・・・交流電圧源、３０・・・形成タ
ンク、３２・・・第２のタンク、３４・・形成電解液 （１６）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、電解コンデンサ用アルミニウム箔上に形成された酸
化物の厚さを連続的に監視するに当り、 ａ）酸化アルミニウムの付着性皮膜によって被覆された
コンデンサ用アルミニウム箔を、第１の電解液、次に第
２の電解液中を牽引し； ｂ）第１の電解液中に浸漬された第１電極及び第２の電
解液中に浸漬された第２電極の間に、１０Ｈ２未満の周
波数を有する交流電圧源を接続し；かつ Ｃ）前記交流電圧源を流れる交流電流の進み無効成分を
監視し、この際前記交流電圧：前記無効電流の比が酸化
アルミニウム皮膜の厚さの尺度である ことを特徴とする酸化物の厚さを連続的に監視する方法
。 ２、前記周波数が０．５〜２ Ｈｚである特許請求の範
囲第１項記載の方法。 ３、 さらに、前記交流電圧源を流れる電流から（５Ｑ
Ｈｚの成分を濾波する特許請求の範囲第２項記載の方
法。 ４、 電解コンデンサ用アルミニウム箔上に形成された
酸化物の厚さを連続的に監視するに当り、 ａ）酸化アルミニウムの付着性皮膜によって被覆された
コンデンサ用アルミニウム箔を、第１及び第２の電解液
中を牽引し； ｂ）第１の電解液中に浸漬された第１電極及び第２の電
解液中に浸漬された第２電極の間に、ＩＤＨｚ未満の交
流電圧源を接続し；Ｃ）前記交流電圧源を通る電流から
、前記交流電圧に対する進み無効成分を分離し；かつ ｄ）前記無効電流を監視し、この際前記交流電圧：前記
無効電流の比が前記酸化アルミニウム皮膜の厚さの直接
的尺度である ことを特徴とする酸化物の厚さを連続的に監視する方法
。 ５ 電解コンデンサ用アルミニウム箔上に形成されつつ
ある酸化物の厚さを連続的に監視するに当って、 ａ）コンデンサ用アルミニウム箔を、形成電解液を含有
する電圧印加された形成タンクを包含する形成装置中を
牽引しかつ前記苗土に酸化アルミニウムを連続的に形成
させ；ｂ）前記形成箔を第２のタンクに含有された第２
の電解液中を牽引し、この際ｉ Ｑ Ｈｚ未満の周波数
を有する交流電圧源が、前記形成電解液中に浸漬された
第１電極及び第２の電解液中に浸漬された第２電極の間
に接続されており；かつ Ｃ）同時に、この結果生じて前記交流電圧源を流れる交
流電流の進み無効部分を監視する ことを特徴とする酸化物の厚さを連続的に監視する方法
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| US06/597,300 US4537664A (en) | 1984-04-06 | 1984-04-06 | Method for continuously monitoring oxide thickness on moving aluminum foil |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60253209A true JPS60253209A (ja) | 1985-12-13 |
Family
ID=24390930
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60071294A Pending JPS60253209A (ja) | 1984-04-06 | 1985-04-05 | 電解コンデンサ用アルミニウム箔上に形成された酸化物の厚さを連続的に監視する方法 |
Country Status (3)
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| US (1) | US4537664A (ja) |
| JP (1) | JPS60253209A (ja) |
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| Publication number | Publication date |
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