JPS60252480A - イミダゾ−ル誘導体及びその塩 - Google Patents

イミダゾ−ル誘導体及びその塩

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JPS60252480A
JPS60252480A JP10799884A JP10799884A JPS60252480A JP S60252480 A JPS60252480 A JP S60252480A JP 10799884 A JP10799884 A JP 10799884A JP 10799884 A JP10799884 A JP 10799884A JP S60252480 A JPS60252480 A JP S60252480A
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JP
Japan
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group
ylmethyl
lower alkyl
dichlorophenyl
formula
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Pending
Application number
JP10799884A
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English (en)
Inventor
Yoshiki Hamada
濱田 喜樹
Retsu Takeuchi
竹内 烈
Junji Nakano
中野 純次
Akira Minami
明 南
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Pharmaceutical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔式中、R+及びR2は同一若しくは異なって、水素原
子,ハロゲン原子,低級アルキル基,低級アル結合8メ
チレン,酸素原子,又はN−R7であり、R5,R6,
及びR7は各々独立に水素原子,低級アルキル基,アリ
ール基,アラルキル基,低級アルカノイル基,(アリー
ル)−若しくは(アラルギル)カルボニル基,(低級ア
ルキル)一若しくハ(アリール)一若しくは(アラルキ
ル)オキシヵルボニル基,カルバモイル基,(モノ若し
くはジ低級アルキルアミノ)カルボニル基,チオヵルバ
モイル基,(モノ若しくはジ低級アルキルアミノ)チオ
カルボニル基,(低級アルキルチオ)チオヵルボニル基
,(低級アルキル)一若しくは(アIJ一ル)一若しく
は(アラルキル)スルホニル基,又は置換低級アルキル
基である)を意味し、R3及びR4は同一若しくは異な
って、水素原子,ハロゲン原子,低級アラキル基,又は
低級アルキルオキシ基を意味する。〕 で表わされるイミダゾール誘導体及びその塩に関する。
本明細書で用いる用語、即ちハロゲン原子とけ、フッ素
,塩素,臭素,ヨウ素を意味し、低級アルキルとは、炭
素原子1ないし6個を有する直鎖状又は分岐鎖状のもの
(例えばメチル,エチル,プロビル。
ブチル,ペンチル,ヘキシル,イソプロビル,3級ブチ
ル等)を意味し、低級アルカノイルとは、炭素原子エな
いし6個を有する直鎖状又は分岐鎖状のもの(例えばホ
ルミル,アセチル,プロパノイル,ブタノイル,ペンタ
ノイル,ヘキサノイル,2−メチルプロパノイル,ピバ
ロイル等)を意味し、アリールとは、置換されていても
よいフェニル基(例えば、フェニル,トリル,4−ハロ
フェニル,4−メ)*シフェニル等)を意味し、アラル
キルとは、置換されていてもよいフェニルアルキル(例
u−I:、ベンジル,フェネチル等)を意味し、置換低
級アル゛ギル基とは、ヒドロキシ基,低級アルキルオキ
シ基,低級アルギルオキシ力ルボニル基,カルバモイル
基,(モノ若しくはジ低級アルキルアミノ)カルボニル
基。
又は低級アルカノイル基でもって置換された低級アルキ
ル基を意味する。
式(1)で表わされる化合物の塩としては、酢酸。
乳酸,シュウ酸,マレイン酸,グルコン酸,メタンスル
ホン酸等の有機酸との塩、あるいは塩酸,リン酸等の無
機酸との塩が挙げられる。
本発明の化合物の製造法について、以下に説明する。
本発明の化合物は、下記一般式 (式中、R3 、 R4は前掲と同じものを意味し、X
は後記アニリン誘導体(III)と置換しうる官能基を
意味する。) で表わされる化合物と、下記一般式 (式中、R+ 、 R2は前掲と同じものを意味する。
)で表わされるアニリン誘導体とを反応せしめ、生成物
を常法により単離することによって製造することができ
る。
式CHI)のXで示した反応性官能基としとは、ハロゲ
ン原子、低級アルキルスルホニルオキシ、アリールスル
ホニルオキシ等が挙げられる。
本反応は、アセトごトリル、ジオギサン、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン。
キシレンの如き不活性溶媒中、20〜180°C1好ま
しくは50〜]50°Cにおいて、原料化合物CII)
とアニリン誘導体〔■〕とを数十分ないし数十時間、通
常は2〜20時間混合攪拌することにより実施できる。
原料化合物Cm)に対するアニリン誘導体〔■〕の使用
量は、当量ないじゃ5過剰量である。原料化合物(It
)のXの官能基の種類により、反応の結果有機酸、塩酸
等の酸が副生ずるので、か\る場合は適当な塩基を酸受
容体として使用するのが一般的であるが、アニリン誘導
体〔■〕を過剰に用い、酸受容体としての役割を兼ねさ
せてもよい。
尚、本反応を実施する際、化合物(III)におけるR
】又はR2が未置換の]−ピペラジニル基又は−N嘘の
アミン基、但し、R5及びR6のうち一方は水素原子で
ペラジニル基又は該アミン基をそれぞれ適当な保護基で
保護した形で反応を行い、反応終了後常法によりその保
護基を除去するのが適当である。保護基としては、β−
ラクタム系抗生物質、ペプチド、または核酸の化学等に
おいて通常用いらねる保護基が使用される。
この様にして製造される本発明の化合物は、常法に従い
単離、精製される。単離、精製条件によって遊離の形や
塩の形で得られるが、これらは目的に応じて相互に変換
され、目的とする形の本発明の化合物が製造される。
本発明の化合物は、式(1)から明らかな通シ、ジオギ
ソラン環の2位及び4位に不斉炭素原子を有する。従っ
て本化合物は異なる立体配置を有する立体異性体として
存在し得る。これらの立体異性体も当然本発明の化合物
に包含される。
式CI)の化合物の立体異性体は、C,A、、 Ind
exGuide、 Appendix IV、 202
 (1984)に記載の規則に従って、それぞれシス及
びトランス型として示されるが、これら立体異性体は通
常用いられる方法、例えば分別結晶あるいはクロマトグ
ラフィ分離によって、別個に単離され得る。
尚、予めシスあるいはトランス型の原料化合物[11)
を用い、これと化合物(Ill)とを前に述べた様に反
応させることにより、式(1)の対応する立体異性体を
製造することもできる。
更に又、これらの立体異性体(シス及びトランス卒 ジアステレオマーセミ体)は、周知の方法によって、そ
の光学異性体、シス←)、シス←)、トランス←)、及
びトランス←)に分割することができる。
かくして得られる本発明の化合物(1)およびその塩は
、いずれも新規化合物であり、優れた抗真菌作用を示す
ので抗真菌剤として価値あるものであり、人体および動
物用医薬としてその使用が期待される。
次に本発明の主要化合物の抗真菌活性について、以下に
データを挙げる。
(以 下 全 白) 試験管内における抗真菌作用8 *実験条件 最小発育阻止濃度(MIC:μy/ml )はマイクロ
タイター法により測定し、その結果を上記表中に示した
本発明の化合物を抗真菌剤として使用する場合、単独で
投与することもできるが、一般倍には適当な担体との配
合物として投与される。好ましい投与形態は、適当な担
体との配合物として投与単位当り活性成分の有効量を含
んでなる投与単位形態である。
投与経路は経口、非経口のいずれでもよく、又局所的に
付与することもできる。
次に実施例を挙げて更に具体的に説明する。
実施例1 シス−4−(4−クロロフェニルアミンメチル)”2−
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(IH−イミダゾ
ール−]−イルメチルL−1,3−ジオキソラン シス−C2−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(I
H−イミダゾール−1−イルメチル)−1゜3−ジオキ
ソラン−4−イルコメチルメタンスルホナート4.1y
+p−クロロアニリン6y、キシレン5meの混合物を
140℃で6時間加熱攪拌する。冷後酢酸エチルエステ
ルを加え、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗ったのち、溶
媒を留去する。減圧下(1mmHy)に過剰のp−クロ
ロアニリンを留去した後、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィで分離MRL、、得られた粗結晶をエーテルから
再結晶して、シス−4−(4、−クロロフェニル7ミ/
メチル)−2−(2、4−ジクロロフェニル) −2−
(L H−1ミグソール−1−イルメチル)−1,3−
ジオキソラン3.1yを得る。
m、p、、107−109℃ MS m/z : 437 (M”) 元素分析値(C2Cl HlB Cl3N302として
)計算値(%) cコ54.75 H:4.14 N:
9.58実測値鈍) C:54.72 H:4.01 
N:9.47同様にして次の化合物を製造した。 ゛シ
スー4−(3−クロロフェニルアミノメチル)−2−(
2,4−ジクロロフェニル)−2−(IH−イミダゾー
ルーl−イルメチル)−1,3−ジオキシラン m、p、 117−119℃ MS m/z : 437(M+) シス−4−(2−クロロフェニルアミノメチル)−2−
(2,4−ジクロロフェニル)−2−(11(イミダゾ
ール−1−イルメチル)−1、3−ジオキソラン(油状
物) MS m/z : 437 (M+) シス−2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−(4−
フルオロフェニルアミンメチル)−2−(LH−イミダ
ゾール−1−イルメチル)−1,3−ジオキシラン m、p、 114−116°C MS m/z : 421 (M+) シス−2−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(1,
H−イミダゾール−1−イルメチル)−4−フェニルア
ミノメチル−1,3−ジオキソランm、p、102 1
04℃ MS m/z : 403 (M+) 実施例2 シス−2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−(2,
4−ジクロロフェニルアミノメチル)−2−(LH−イ
ミダゾール−1−イルメチル)−1,3−ジオキソラン シス−(2−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(I
H−イミダゾール−1−イルメチル)−1゜3−ジオキ
ソラン−4−イル〕メチルメタシスルホナ−)2.0y
、2.4−ジクロロアニリン8.0y、キシレン4ml
’の混合物を140℃で17時間加熱攪拌する。
溶媒を減圧で留去した後、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィで分離精製して、シス−2−(2,4−ジクロロ
フェニル)−4−(2、4−)クロロフェニルアミノメ
チル)−2−(LH−イミダゾール−1−イルメチル)
−1,3−ジオキシラン」、3yを得るO m、p、 138−140℃ MS m/ z : 471 (M”)元素分析値(C
20N17 C14N302として)計算値@) C:
50.77 H:3.62 N:8.88実測値じ) 
C:50.76 H:3.61 N:8.71実施例3 シス−2−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(LH
−イミダゾール−1−イルメチル)−4−(4−メチル
フェニルアミノメチル)−1,3−ジオキシラン シス−(2−(2,4−ジクロロフェニル)−2=(I
H−イミダゾール−1−イルメチル)−1゜3−ジオキ
ソラン−4−イルツメチルメタンスルホナート2.01
;’、p−)ルイジン2.5y、キシレン3−の混合物
を140°Cで15時間加熱攪拌する。溶媒を減圧で留
去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィで
分離精製して、シス−2−(2,4−ジクロロフェニル
)−2−(LH−1ミダゾール−1=イルメチル’)−
4−(4−メチルフェニルアミノメチル)−1,3−ジ
オキシラン1.52を得る。
m、p、 70°C MS rr、/ z : 417 (M”)同様にして
次の化合物を製造した。
シス−2〜(2,4−ジクロロフェニル)−2−(LH
−イミダゾール−1−イルメチル)−4−(2−メチル
フェニルアミノメチル)−1,、3−ジオキシラン m、p、 112−1.14°C MS m/z : 417(M+) シス−2−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(LH
−イミダゾール−1−イルメチル)−4−(4−メトキ
シフェニルアミノメチル)−1,3−ジオキソラン m、p、 92−93℃ MS m/z : 433 (M+) 実施例4 シス−4−C4,−(4−アセチルピペラジン−1−イ
ル)フェニルデミツメチル)−2−(2,4−ジクロロ
フェニル)−2−(IH−イミダゾール−1−イルメチ
ル)−1,3−ジオキシラ/シス−(2−(2,4−ジ
クロロフェニル)−2−(IH−イミダゾール−1−イ
ルメチル)−1゜3−ジオキソラン−4−イル〕メチル
メタシスルホナー)2.0y−、4−(4−アセチルピ
ペラジン−1−イル)アニリン25y、キシレン5dの
混合物を130〜140°Cで1.50時間加熱攪拌す
る。溶媒を減圧で留去した後、残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィで分離精製して、4−(4−(4−アセチル
ピペラジン−1−イル)フェニルアミノメチル)−2−
(2゜4−ジクロロフェニル)−2−(LH−’fミタ
ソールー1−イルメチル)−1、3−ジオキシラン0.
7yをガム状物として得る。
MS m/z + 529(M+) 特許出願人 大日本製薬株式会社 代理人 弁理士 坪 井 有 四 部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 〔式中、R1及びR2は同−若しくは異なって、水素原
    子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級Zは直接結合
    、メチレ/、酸素原子、又はN−R7であシ、Rs 、
     R6,及びR7は各々独立に水素原子。 低Rアルキル基、アリール基、アラルキル基。 低級アルカノイル基、(アリール)−若しくは(アラル
    キル)カルボニル基、(低級アルキル)−若しくは(ア
    リール)−若しくは(アラルキル)オキシカルボニル基
    、カルバモイル基、(モノ若しくはジ低級アルキルアミ
    ノ)カルボニル基、チオカルバモイル基、(モノ若しく
    はジ低級アルキルアミノ)チオカルボニル基、(低級ア
    ルキルチオ)チオカルボニル基、(低級アルキル)−若
    しくは(アリール)−若しくは(アラルキル)スルホニ
    ル基、又は置換低級アルキル基である)を意味し、R3
    及びR4は同−若しくは異なって、水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基、又は低級アルキルオキシ基を意
    味する。〕 で表わされるイミダゾール誘導体及びその塩。 (2)4−(4−クロロフェニルアミノメチル)−2−
    (2、4−ジクロロフェニル)−2−(LH−イミダゾ
    ール−1−イルメチル)−1,3−ジオキソラン及びそ
    の塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 (3)2−(2,4−ジクロロフェニル’)−4−(2
    ゜4−ジクooフェニルアミノメチル)−2−(IH−
    イミダゾール−1−イルメチル’l]、3−ジオキシラ
    ン及びその塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物
    。 <4)2−(2,4−ジクロロフェニル)−2−(]、
    ]H−イミダゾールー1−イルメチル−4−(4−メチ
    ルフェニルアミノメチルL−1,3−ジオキソラン及び
    その塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100331609B1 (ko) * 1995-04-21 2002-11-18 성 렬 류 신규한시스-튜불라졸유도체및그의제조방법
WO2014055972A2 (en) * 2012-10-05 2014-04-10 The Regents Of The University Of California A new chemical entity useful for treating various diseases

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