JPS60246688A - 光帰還型半導体レ−ザ装置 - Google Patents

光帰還型半導体レ−ザ装置

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JPS60246688A
JPS60246688A JP10291784A JP10291784A JPS60246688A JP S60246688 A JPS60246688 A JP S60246688A JP 10291784 A JP10291784 A JP 10291784A JP 10291784 A JP10291784 A JP 10291784A JP S60246688 A JPS60246688 A JP S60246688A
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JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
optical fiber
laser element
beams
laser device
Prior art date
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Pending
Application number
JP10291784A
Other languages
English (en)
Inventor
Jiyun Odani
順 雄谷
Toshihiro Fujita
俊弘 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPS60246688A publication Critical patent/JPS60246688A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/10Construction or shape of the optical resonator, e.g. extended or external cavity, coupled cavities, bent-guide, varying width, thickness or composition of the active region
    • H01S5/14External cavity lasers

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 R楽土の利用分与’f 本発明は、光ファイバ通信用光源、志して用いることが
できる1′力体レーサ装置aに(y、1ノーるものであ
る。
従来列の構成とその問題I八 以下に従来の雀ファイバと結合した牢・h体し−サ装置
について説明する。第11ズ1はLL来の゛r−導体レ
ーザ装置のN’j/)成因てあり、1蒐り体レーザ素r
−1の共振器端面4からの出射レー→ノ光5・汀、九フ
ァイバ6に結合さハるか出射レーリ丸5の一部;1i 
*。
ファイバ6からの反射光9として゛1′導体し〜ザ素P
1に帰還さノする。
半導体レーザ素f−に位相の乱′ILA−反射光が帰還
されると半導体レーザ素f−の特性に大きな影l&fを
与え、半導体レーザ素子の雑音増加、縦モードスペクト
ルの変化などが誘起され 、、!f、導体レ−リ素子の
安定化、高品質化への一つの障害となっている0 これを解決する一つの方法として、第2図に示すような
半導体レーザ素子への帰還光を積極的に利用したいわゆ
る複合共振器構成の半導体レーザ装置がある。半導体レ
ーザ素子10の一方の共振器端面13から出射したレー
ザ光14はレンズ16を通過し、反射体16により反射
され、反射光17は再びレンズ15を通過し、半導体レ
ーザ素子1゜に入射する。他方の共振器端面18から出
射したレーザ光1g1d、光ファイバ20に結合される
このような構成では、光帰還によって反射雑音を抑圧し
、同時に単−縦モート発振が可能となるが、反射体16
の反射率が小さい場合には、光ファイバ20からの反射
光23の影待を除去し得ないという問題があった。
発明の目的 本発明は、上記従来の問題点を解消するもので、光帰還
によって半導体レーザ素子の反射雑音を抑圧し、同時に
単−縦モード発振を図った光通信用光源に好適な半導体
レーザ装置を供給−することを目的とする。
発明の構成 本発明は、半導体レーザ素子に対向して九ファイバを配
置し、前記光ファイバのクラッド部の[)?I記半導体
レしザ素子側のC−高面を凹面として前記半導体レーザ
素子からの出射光の一部を前記半導体レーザ素子へ輻還
し、前記出射光の一部を肖ファイバに結合することを特
徴とする半導体レーザ装置市であり、前記九ファイバの
コア部の前記士、冴体レーザ素子9IIIの端面を凸面
としてもよく、前記尤ファイバのクラッド部の前記゛t
′:導体レーザし了側の端面に反射増加膜をコートして
も」、く、斗だ、前記光ファイバのクラッド部の前記士
−!4体し−ザ素子側の端面を凹面グレーティ7グとし
てもよい構成である。
実施例の説明 以下に本発明の実施例を図面を参照して説明する。第3
図は第1の実施例であり、V・導体レーザ素子24の共
振器端面27から出射したレーザ光のうち、レーザ光2
8は光ファイバ29のコア部30に結合さ715 レー
ザ光31は光ファイバ29のクラッド部32の半導体レ
ーザ素子24IlllIの凹面状の端面によって反射さ
れ、反射光33は古び半導体レーザ素子24に入射する
。この時、半導体レーザ素子24内のレーザ光と反射光
33の位相が合致するように光ファイバ29の位置を微
調整する。
このようにすれば、半導体レーザ素子24自身の共振器
に加えて、共振器端面27とクラッド部32の凹面上の
端面で外部共振器を構成する複合共振器構成の半導体レ
ーザ装置となり、光ファイバ29の位置を微調整するこ
とにより、半導体レーザ素子24に光を帰還すると、位
相条件が整えらJl。た時、半導体レーザ素子24は単
−縦モード発振を行い、光ファイバ29を反射体とする
ため、反射体以外からの位相の乱れた反射光がなくなり
、反射雑音を完全に抑圧することかできる。また、外部
に反射体を用いることなく、複合共振器を構t、V−J
″ノ、ご夫h;でへ一部・jφ着刑半導体レしザ誌、冒
を小ノ〜1ノ化するこにかてきゐ。
第4図V支、第2の実施例てあり、44フアイバ29の
コア部34の′l″−導体レーザ素子24側の端面を凸
面としたものである。このようにすれは、高い結合効率
を得ることができ、この半導体レーザ装置を光通信用光
源とした場合、(4躇離伝送が[可能となる。
第5図は、第3の実施例であり、九ファイバ29のクラ
ッド部32の半導体レ−→)素子241則の端面に反射
増加膜35をコートしたものである。このようにすれば
、半導体レーづ素子24−\の反射光量を多くすること
ができ、゛を導体レーザ装置を・より安定に・d+イ乍
することができる。
第6図は第4の実施例であり、光ファイバ29のクラッ
ド部36の)1′・q体し−ザ素f−24側の端面を凹
面クレーティング37としだものである。
このように−j ;hば、九ファイバ29の位置を微調
整することにより、第71.、ff1(a)に示すよう
な光帰還のない場合の多十−ト発振周波数のうち第7図
(b)に小すように、発振周波数を選択して申−縦モー
ド発振とすることができる。また、本実施例では、実効
的な格子溝本数を多くするため、光ファイバ29の半導
体レーザ素子24側の端部を大きくしている。
発明の効果 以上のように本発明は、半導体レーザ素子に対向して光
ファイバを配置し、前記光ファイバのクラッド部の前記
半導体レーザ素子側の端面を外部共#FR器端面端面た
複合共振器を構成することにより、反射雑音を完全に抑
圧し、同時に単−縦モード発賑とすることができ、また
、外部に反射体を必要とせず、小型化が可能であり、光
通信用光源あるいは光フアイバセンサー用光源等に用い
る場合に極めて有利な光帰還型半導体レーザ装置を実現
できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体レーザ装置の断面図、第2図は従
来提案されている光帰還型半導体レーザ装置の概略断面
図、第3図〜第6図は本発明の具体的な実施例の断面図
、第7図(a)は第1図の半導体レーザ装置の縦モード
スペクトル図、第7図(b)は第6図光帰還型士導体レ
−サ装置の縦モートスペクトル図である。 24・・・・・・半導体レーザ素−ト、25・ 半導体
レーザの活性層、26・・・・半導体レーザのクラット
層、2了・・・半導体レーザの共振器端面、28゜31
・・・・・出射レーザ光、29・・・・・光ファイバ、
30・・・・・光ファイバのコア部、32・・・・光フ
ァイバのクラッド部、33・・反射光、34・ 光ファ
イバのコア部、35 ・ 反射増加膜、36 九ファイ
バのクラッド部、37・ 凹面グレーティ7グ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第3図 B 第4図 第5し1 35 第6図 第7図 VoV。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 半導体レーザふ子に対向してコア部およびクラ
    ット部を有する光ファイバを配置し、前記光ファイバの
    クラッド部の前記半導体レーザ素子11′11]の端面
    を凹面どして前記十愕体レーザ素子からの出射光の一部
    を反射させて前記半導体レーザ素子に帰還し、前記出射
    光の一部を前記光ファイバに結合することを特徴とする
    光帰還型半導体レーザ装置。
  2. (2)光ファイバのコア部の半導体レーザ素子+l]1
    1の端面を凸面とすることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の光帰還型半導体レーザ装置。
  3. (3)九ファイバのクラッド部の半導体レーザ素子側の
    端面に反射増加膜をコートすることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項又は第2項記載の光帰還型半導体レーザ
    装置。
  4. (4)光ファイバのクラット部の半導体レーザ素子側の
    端面を凹t?Liクレーティングと吏ることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項又(r、1第2項1.[)・i
    改の光帰還型半導体レーザ装f〆1″。
JP10291784A 1984-05-22 1984-05-22 光帰還型半導体レ−ザ装置 Pending JPS60246688A (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01135421U (ja) * 1988-03-10 1989-09-18
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JP2011155194A (ja) * 2010-01-28 2011-08-11 Mitsubishi Electric Corp 半導体レーザ装置および光ファイバ

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