JPS6024582B2 - Soldering equipment for flat pack parts - Google Patents

Soldering equipment for flat pack parts

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Publication number
JPS6024582B2
JPS6024582B2 JP2192679A JP2192679A JPS6024582B2 JP S6024582 B2 JPS6024582 B2 JP S6024582B2 JP 2192679 A JP2192679 A JP 2192679A JP 2192679 A JP2192679 A JP 2192679A JP S6024582 B2 JPS6024582 B2 JP S6024582B2
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JP
Japan
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component
parts
soldering
flat pack
tank
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Application number
JP2192679A
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Japanese (ja)
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JPS55115394A (en
Inventor
辰巳 柴田
貢 白井
秀昭 佐々木
保彦 川上
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Hitachi Ltd
Lincstech Circuit Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Condenser Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6024582B2 publication Critical patent/JPS6024582B2/en
Expired legal-status Critical Current

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体集積回路等の部品入出力リードの迎え半
田装置に関するもので、特に端子数が多くリードピッチ
の狭いフラットパック形部品の入出力リード迎え半田装
置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a soldering device for input/output leads of components such as semiconductor integrated circuits, and more particularly to a soldering device for input/output leads of flat pack type components having a large number of terminals and a narrow lead pitch.

従来、半導体集積回路等のフラットパック形部品のプリ
ント基板への半田付けを確実に行なうため、予め該部品
の入出力リードに迎え半田を施しておいてからプリント
板へ実装し、半田付けを行なっていた。
Conventionally, in order to reliably solder flat pack components such as semiconductor integrated circuits to a printed circuit board, the input/output leads of the component are first soldered, then mounted on the printed circuit board, and soldered. was.

かような迎え半田の作業は、従来リードピッチが比較的
大(2〜3肌)であるため部品のピンセット等でっかみ
、フラツクスに浸薄し、半田槽に浸簿すれば良好な迎え
半田が可能であった。しかし、近年半導体集積回路やプ
リント基板の回路実装密度が向上し、プリント基板に実
装する部品のリードピッチが極端に狭く(1肋以下)な
ってきており、従来のような手作業では部品のリード間
に半田ブリッジを生じ、これを修正しなければならなか
った。従って本発明の目的はフラットパック形部品のリ
ード迎え半田作業において、半田ブリッジが生じないよ
うにし、フラツクス塗布、半田付、洗浄作業を自動的に
行なうようにした装置を提供するにある上記目的を達成
するために本発明の主な特徴は、部品を真空吸引により
吸着保持し、該吸着保持部品を、円周配置したフラック
ス槽、半田槽、洗浄槽の順に浸糟せしめて行き、半田槽
への部品進入後退角度等を設定することにより、ブリッ
ジのない迎え半田を可能とするものである。
Conventionally, when working with pick-up solder, the lead pitch is relatively large (2 to 3 skins), so good pick-up solder can be obtained by using large parts such as tweezers, dipping them in flux, and dipping them into a solder bath. It was possible. However, in recent years, the circuit mounting density of semiconductor integrated circuits and printed circuit boards has improved, and the lead pitch of components mounted on printed circuit boards has become extremely narrow (less than one rib). There was a solder bridge in between, which had to be fixed. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an apparatus which prevents solder bridges from occurring in lead pick-up soldering work for flat pack type parts and which automatically performs flux application, soldering and cleaning work. In order to achieve this, the main feature of the present invention is to suction and hold the parts by vacuum suction, and immerse the suction and holding parts in the order of a flux bath, a solder bath, and a cleaning bath arranged circumferentially, and then to the solder bath. By setting the component approach/retreat angle, etc., it is possible to perform bridge-free pick-up soldering.

以下本発明の詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below.

先ずブリッジのないはんだ付部を得るため、ブリッジ発
生要因の検討を行った。
First, in order to obtain a soldered joint without bridges, we investigated the causes of bridge formation.

この結果、以下の{a}〜(g)の結論を得た。‘aー
フラットパツク形部品の迎え半田を、はんだ槽浸債に
て行う場合、一度に全面浸濃すると、リードつけ根等に
、表面張力の影響によりはんだが残りブリッジになりや
すい。
As a result, the following conclusions {a} to (g) were obtained. 'a- When soldering a flat pack type component using a solder bath, if the entire surface is immersed at once, solder tends to remain at the base of the leads and form bridges due to surface tension.

このためはんだ槽への浸薄は一面ずつ傾斜をもたせて行
う。‘b} はんだ槽への、リードの進入、後退角度を
検討した結果、第4図の如く、0〜450までは、角度
が増加するにつれ、ブリッジ発生率は低下する。45o
〜750ではほとんど0となり、750以上でまた増
加する。
For this reason, dipping into the solder bath is performed one side at a time with a slope. 'b} As a result of examining the entrance and retreat angles of the leads into the solder bath, as shown in FIG. 4, as the angle increases from 0 to 450, the bridge occurrence rate decreases. 45o
It becomes almost 0 at ~750, and increases again at 750 or more.

このため、進入、後退の浸債角度は450〜750がよ
い。‘c} はんだ槽への進入後退速度について検討し
た結果、第5図の如く、速度を上げるにつれてブリッジ
の発生率が低下している。
For this reason, the angle of entry and retreat is preferably 450 to 750. 'c} As a result of examining the speed of entering and retracting the solder bath, as shown in FIG. 5, the incidence of bridging decreases as the speed increases.

特に進入では5弧/秒以上、後退では、10伽/秒以上
で最もブリッジの発生率を少なくすることができる。た
だし、速度を上げることにより波の発生及び衝撃による
落下が考えられて進入5〜10仇/秒後退10〜20肌
/秒が適当である。‘d) はんだ槽への浸糟時間を検
討した結果第6図の如く、浸債時間が短い方がブリッジ
の発生率が低い。
In particular, the incidence of bridging can be minimized at 5 arc/sec or more for approach and 10 arc/sec or more for retreat. However, if the speed is increased, it is considered that waves will be generated and falls due to impact, so an approach speed of 5 to 10 m/sec and a retreat of 10 to 20 m/sec is appropriate. 'd) As a result of examining the immersion time in the solder bath, as shown in Figure 6, the shorter the immersion time, the lower the incidence of bridging.

特に0.9秒以下では極端に低くなっている。{e}
部品のリードの浸糟深さを検討した結果、第7図の如く
、リードの成形部(2の位置)以下での浸薄の方が、成
形部2より上まで浸潰した場合よりブリッジの発生率が
低い。
In particular, it is extremely low at 0.9 seconds or less. {e}
As a result of examining the immersion depth of the lead of the component, as shown in Figure 7, if the lead is immersed below the molded part (position 2), the bridge will be thinner than if it is immersed above the molded part 2. Incidence is low.

‘f} はんだ付時に、はんだ槽表面に酸化膜が残って
いると、これが原因でブリッジとなる。
'f} If an oxide film remains on the surface of the solder bath during soldering, this will cause a bridge.

このため浸渡作業の直前に酸化膜の除去が必要である。
段)むかえはんだ付の直前に、リードのはんだ付性をよ
くするため、リードには必ずフラツクス塗布が必要であ
る。
Therefore, it is necessary to remove the oxide film immediately before dipping.
3) Immediately before soldering, it is necessary to apply flux to the leads to improve their solderability.

また、このため、はんだ付後、残ったフラックスを除去
するため、洗浄が必要である。これらの要求を十分に満
足するため、装置に下記内容の特徴をもたせた。
Further, after soldering, cleaning is required to remove the remaining flux. In order to fully satisfy these requirements, we have provided the device with the following features.

■ 第1図、第2図の如く、フラックス塗布、はんだ浸
債、洗浄が連続で行なえるように、糟を円周配置して並
べると共に、素子を吸着し搬送できるものにした。
(2) As shown in Figures 1 and 2, so that flux application, solder bonding, and cleaning can be performed continuously, the sieves are arranged in a circumferential manner, and the elements can be attracted and transported.

また、各槽においては各々、シリンダ25等により流体
圧でハンドリング部7を上下させ自動的に浸債可能な形
状とした。
In addition, each tank was shaped so that the handling part 7 could be moved up and down automatically by fluid pressure using a cylinder 25 or the like.

■ はんだ槽へのりードの進入、後退角度を45o〜7
50とするために、部品を吸着した状態で、進入、後退
角度になるように、ハンドリング部7に一定の傾斜を持
たせた。
■ Enter and retract angle of lead into solder bath from 45o to 7
50, the handling part 7 was given a certain inclination so that the approach and retreat angles could be set in a state where the parts were sucked.

■ 部品をはんだ槽へ浸潰する直前に、ワイパー(第8
図、10′)をはんだ槽表面で前後させ、酸化膜を取り
除くようにした。
■ Immediately before immersing the parts into the solder bath, wipe the wiper (8th
Figure 10') was moved back and forth on the surface of the solder bath to remove the oxide film.

■ はんだ槽への、進入、後退速度は、ハンドリンク部
を上下させるシリンダ25に、流量調整弁27,28を
設け、進入5〜10cの/秒、後退10〜20伽/秒に
調整できるようにした。
■ The speed of approach and retreat into the solder bath can be adjusted to 5 to 10 c/sec for approach and 10 to 20 c/sec for retreat by installing flow rate adjustment valves 27 and 28 on the cylinder 25 that moves the hand link up and down. I made it.

■ はんだ浸債時間は、シリンダ25に流入した流体を
一定時間保持するタイマー等を設け、0.9段以下に設
定できるようにした。■ はんだ槽への浸債深さは、シ
リンダ25のストロークを最大ストロークより短くし、
リード成形部以下となるように、調整可能とした。
(2) The solder soaking time can be set to 0.9 steps or less by providing a timer or the like to hold the fluid flowing into the cylinder 25 for a certain period of time. ■ The depth of soldering into the solder bath is determined by making the stroke of cylinder 25 shorter than the maximum stroke.
It can be adjusted so that it is below the lead forming part.

■ 部品のリードを1面毎に浸糟するため、1面浸溝後
ヘッド回転歯車又はローラ(第10図19,20)によ
り360o/n(面)だけ回転させ、この動作をn回す
ることにより全面浸潰させるようにした。■ 部品をつ
かむのにハンドリング部に真空吸着を使用しているが、
この部品吸着面には第12図に示すようにハンドリング
部の先端にゴム材質のリング21を使用し、空気もれに
よる浸簿動作、搬送時の落下を防止できるようにした。
■ In order to immerse the lead of the component one side at a time, after immersing the groove on one side, rotate the head by 360o/n (plane) using the head rotation gear or roller (Fig. 10, 19, 20), and repeat this operation n times. This was done so that the entire surface was immersed. ■ Vacuum suction is used in the handling section to grasp parts, but
As shown in FIG. 12, a ring 21 made of a rubber material is used at the tip of the handling portion of the component suction surface to prevent the device from being immersed due to air leakage and from falling during transportation.

以下本発明の一実施例と詳細に説明する。第1図はその
平面図であり、第2図はそのAA断面図である。本実施
例は、部品のセット吸着を行なう部品供給部a、部品リ
ードをフラツクス液に浸薄するフラックス塗布部b、部
品リードを溶融はんだ液に浸潰するはんだ浸漬部c、部
品リードを粗洗浄液に浸債する粗洗浄部d、部品リード
を仕上げ洗浄液に浸債する仕上げ洗浄部e、a〜eの処
理が終った部品を外品に取出すための部品取出部f、及
び、これらの各部分へ部品を順次搬送するターンテーブ
ル8を有する搬送部gとから構成されている。
An embodiment of the present invention will be described in detail below. FIG. 1 is its plan view, and FIG. 2 is its AA sectional view. This embodiment consists of a component supply section a that performs set suction of components, a flux application section b that immerses component leads in flux liquid, a solder immersion section c that immerses component leads in molten solder liquid, and a rough cleaning liquid that immerses component leads in molten solder liquid. A rough cleaning section d for immersing component leads in a finishing cleaning solution, a finishing cleaning section e for immersing component leads in a finishing cleaning solution, a component extraction section f for taking out the parts that have been processed in a to e as external products, and each of these parts. and a transport section g having a turntable 8 for sequentially transporting parts.

前記部分a〜fは前記した順番で、搬送部gのターンテ
ーブル8の周囲下方に一定間隔(60度毎)に配置され
、該配置に対応したターンテーブル8の外周位置に、部
品を吸着搬送するハンドリング部7a〜7fが取付けら
れている。ターンテーブル8は軸32を介して回転可能
に基台33に支持されており、該軸32は基台33の中
に設けられた制御機構(図示せず)により上記a〜fの
各工程完了毎に60度ずつ回転するように制御されるよ
うになっている。この制御機構は、本発明の範囲外であ
るので特に説明は省く。該鞠32は真空圧を伝達するパ
イプ31を内蔵しており、別の真空圧発生源(図示せず
)から供給される真空圧を6本のゴム状パイプ31a〜
31fに送り、ターンテーブル8の円周上6ケ所に設け
られた部品吸着用のハンドリング部7a〜7fに与える
。ハンドリング部7(第2図の7a〜7fを総称し7と
称する)は、第10図に示す如く、ターンテーブル8の
蓬方向に延設されたアーム36に、上下駆動軸16を介
して上下移動可能に鞠着されている。該上下駆動軸16
はスプリング37で通常上位直にあり、別に設けられた
ヘッドプッシャ9により押下げられる。該軸16の下側
にはハンドリンク部本体18が取付けられており、該本
体18には第11図に示すスブラィン軸22が、ボール
ロック方式により90度ずつ回転が位置決めされるよう
収められている。該スプラィン軸22の内側方向(軸3
2方向)端にはパイプ31からの真空圧を取入れる口と
、ヘッド回転用歯車(又はローラ)19が、外側方向端
にはパイプ状の部品吸着ヘッド17が、一体となって設
けられている。部品を吸着するヘッド17の吸着口には
第12図に示すような、ゴム状リング21を取付けて、
部品面との空気もれをなくし、吸着効率を良くしてある
。ハンドリング部7を取付けているアーム36は、部品
15のリードをはんだ槽へ進入、後退させる際の、進入
、後退角度Q(第9図に示す)が、45o 〜750の
間に設定されるよう、ターンテーブル8から下方へ折曲
げ、所定の傾斜を持たせている。部品吸着ヘッド17を
90度ずつ回転させて、浸糟を行なわせるため、基台3
3のb〜e対応位置に駆動歯車暖近用軸38が設けられ
ており、例えばハンドリング部7が第10図のような位
置に上昇したとき、鞠38を接近方向に回動して行き、
アーム37に取付けられた駆動歯車20をヘッド回転歯
車19にかみ合せ、歯車19を90度分回転せしめるよ
うになっている。
The parts a to f are arranged in the order described above at regular intervals (every 60 degrees) below the periphery of the turntable 8 of the transport section g, and the parts are sucked and transported to the outer peripheral position of the turntable 8 corresponding to the arrangement. Handling parts 7a to 7f are attached. The turntable 8 is rotatably supported by a base 33 via a shaft 32, and the shaft 32 is controlled by a control mechanism (not shown) provided in the base 33 to complete each of the steps a to f above. It is controlled so that it rotates 60 degrees each time. This control mechanism is outside the scope of the present invention and will not be specifically described. The ball 32 has a built-in pipe 31 for transmitting vacuum pressure, and the vacuum pressure supplied from another vacuum pressure generation source (not shown) is passed through six rubber pipes 31a to 31a.
31f, and applied to handling parts 7a to 7f provided at six locations on the circumference of the turntable 8 for picking up parts. As shown in FIG. 10, the handling unit 7 (7a to 7f in FIG. 2 are collectively referred to as 7) is connected to an arm 36 extending in the vertical direction of the turntable 8, and is connected to an arm 36 that is connected to an arm 36 that is connected to a vertical drive shaft 16. It is mounted so that it can be moved. The vertical drive shaft 16
is normally located directly above by a spring 37, and is pushed down by a separately provided head pusher 9. A hand link main body 18 is attached to the lower side of the shaft 16, and a subline shaft 22 shown in FIG. 11 is housed in the main body 18 so as to be rotated 90 degrees at a time using a ball lock system. There is. Inward direction of the spline shaft 22 (shaft 3
An opening for taking in vacuum pressure from a pipe 31 and a head rotation gear (or roller) 19 are integrally provided at the end (in both directions), and a pipe-shaped component suction head 17 is provided at the outer end. There is. A rubber ring 21 as shown in FIG. 12 is attached to the suction port of the head 17 that suctions parts.
Eliminates air leaks from component surfaces and improves suction efficiency. The arm 36 to which the handling part 7 is attached is designed such that the approach and retreat angles Q (shown in FIG. 9) are set between 45o and 750o when the lead of the component 15 enters and retreats into the solder bath. , is bent downward from the turntable 8 and has a predetermined inclination. The component suction head 17 is rotated 90 degrees at a time to immerse the base 3.
Drive gear warming shafts 38 are provided at positions corresponding to b to e of 3. For example, when the handling portion 7 is raised to the position shown in FIG. 10, the balls 38 are rotated in the approaching direction.
The drive gear 20 attached to the arm 37 is engaged with the head rotation gear 19, and the gear 19 is rotated by 90 degrees.

90度の回転が終ると、軸38を離隔方向に回動して、
アーム37に設けられた歯車20を歯車19から切り離
す。
When the 90 degree rotation is completed, the shaft 38 is rotated in the separating direction,
The gear 20 provided on the arm 37 is separated from the gear 19.

この後、ヘッドプツシヤ9を押し下げて再び部品15の
リード楯設面を浸糟する動作に移ることになる。ハンド
リング部7を下降させるヘッドプッシャ9は第1図の如
く、フラツクス塗布部b、はんだ浸債部c、粗洗浄部d
、仕上げ洗浄部e、の4ケ所付近に各々設けられ、該当
位置に来たハンドリング部7の上下駆動軸を押下するよ
うになっている。
Thereafter, the head pusher 9 is pushed down and the reed shielding surface of the component 15 is wetted again. As shown in FIG. 1, the head pusher 9 that lowers the handling section 7 has a flux application section b, a solder bonding section c, and a rough cleaning section d.
, finish cleaning section e, and are provided near four locations, respectively, so as to push down the vertical drive shaft of the handling section 7 when it comes to the corresponding position.

ヘッドプッシャ9の構造は、第2図の右側ヘッドプッシ
ャ9e(仕上げ洗浄槽付近のヘッドプツシャ)に示すよ
うに、基台33に固定された柱30eの上端の支点に係
合された逆へ字状のヘッドプッシャ9eと、該ヘッドプ
ッシャ9eを、該支点を中心に円弧動作せしめるシリン
ダ25eとからなる。このシリンダ25eの動作は、基
台33下に設けられた制御機構(図示せず)によって制
御供給される空気圧、若しくは油圧等の作用で行なわれ
るが、この点も本発明の範囲外であるため説明を省略す
る。部品供給部aは、その詳細を第13図に示し、部品
15を一定位置に一定方向でセットできるように、例え
ば部品形に合致する角溝36がその表面に形成され、一
端が水平軸34にて支持されてなる部品供給台1と、部
品供給台1を点線の様に上に押し上げるシリンダ26a
を有しており、上に押上げられた部品15′は調度ハン
ドリング部7の部品吸着ヘッド17の吸着口に接し、ゴ
ム状パイプ31aからの真空圧により吸着される。
The structure of the head pusher 9 is, as shown in the right head pusher 9e (head pusher near the finishing cleaning tank) in FIG. The head pusher 9e is composed of a head pusher 9e, and a cylinder 25e that causes the head pusher 9e to move in an arc around the fulcrum. The operation of the cylinder 25e is performed by the action of air pressure or oil pressure controlled and supplied by a control mechanism (not shown) provided under the base 33, but this point is also outside the scope of the present invention. The explanation will be omitted. The details of the component supply section a are shown in FIG. 13, and in order to set the component 15 in a constant position and in a constant direction, a square groove 36 that matches the shape of the component is formed on its surface, and one end is connected to a horizontal shaft 34. and a cylinder 26a that pushes up the parts supply table 1 as shown by the dotted line.
The component 15' pushed upward comes into contact with the suction port of the component suction head 17 of the preparation handling section 7, and is suctioned by the vacuum pressure from the rubber pipe 31a.

部品吸着後シリンダ26aのピストン35が元の位置迄
下がると部品供給台1は元の水平状態に戻る。このシリ
ンダ26aの動作は、基台33下に設けられた制御機構
(図示せず)によって制御供給される空気圧、若しくは
油圧等により、行なわれる。この点も本発明の範囲外で
あるため説明は省略する。第13図は部品取出部fの構
成をも示すもので、その動作は調度、部品供V給部aと
ほぼ逆の動作を行なう。
After the component suction, the piston 35 of the cylinder 26a is lowered to its original position, and the component supply table 1 returns to its original horizontal state. The operation of the cylinder 26a is performed by air pressure, oil pressure, or the like that is controlled and supplied by a control mechanism (not shown) provided under the base 33. Since this point is also outside the scope of the present invention, the explanation will be omitted. FIG. 13 also shows the structure of the component take-out section f, whose operation is almost the opposite of that of the component supply section V.

( )内に示す符号が部品取出部fの場合、特に付され
たもので、6は部品取出台を、26fは部品敬出用シリ
ンダを示し、( )の付いていない符号は、部品供給部
aの場合の符号と同じである。即ち、ハンドリング部7
の部品吸着ヘッド17に吸着されて搬送されて来た部品
15′を点線位置の部品取出台6の角溝36で受け、該
吸着ヘッド17の真空圧が除去されると、該部品取出台
6は、部品取出用シリング26fのピストン35が下が
って、実線に示す水平位置に戻り、部品15は、取出し
可能となる。フラックス塗布部bは、第1図及び第2図
に示す如く、ハンドリング部7bの下方、基台33上に
設置されたフラックス液39を収容したフラックス槽2
と、その付近の基台33上に設置されたヘッドプッシャ
取付柱30bと、該柱30bの上端に支点係合されたヘ
ッドプッシャ9bと、該ヘッドプッシャの押下動作を行
なうシリンダ25bとからなる。
When the code shown in parentheses is the parts ejecting part f, it is specially attached. 6 indicates the parts ejecting table, 26f indicates the parts ejecting cylinder, and the code without parentheses indicates the parts supply part. The sign is the same as in case a. That is, the handling section 7
The component 15' that has been sucked and conveyed by the component suction head 17 is received by the square groove 36 of the component pick-up table 6 at the dotted line position, and when the vacuum pressure of the suction head 17 is removed, the component pick-up table 6 , the piston 35 of the parts removal shilling 26f is lowered and returns to the horizontal position shown by the solid line, and the part 15 can be removed. As shown in FIGS. 1 and 2, the flux application section b includes a flux tank 2 containing a flux liquid 39 installed on a base 33 below the handling section 7b.
, a head pusher mounting column 30b installed on a base 33 in the vicinity thereof, a head pusher 9b engaged with the upper end of the column 30b as a fulcrum, and a cylinder 25b that performs a depressing operation of the head pusher.

フラックス液39の面高さはハンドリング部7bがヘッ
ドプッシャ9bの押下により下降したとき、吸着保持さ
れている部品のリードの半田付け部分が浸る程度に保つ
ようになっている。具体的にはシリンダ25bのストロ
ークを調整できるネジストッパをシリンダに設ければ良
い。液39の高さを一定に保つためには、例えば液の入
っている瓶を逆さにしてその口を設定すべき液面高さに
合わせておけば良い。この液面高さを一定にする技術は
洗浄槽4,5にも利用できる。はんだ浸贋部cは、第1
図に示す如く、はんだ溶融液を収容するはんだ槽3と、
その他フラックス塗布部と同機な構成で、ヘッドプッシ
ャ9c、ヘッドプッシャ取付柱30cと、シリンダ25
cとからなる。
The surface height of the flux liquid 39 is maintained at such a level that when the handling portion 7b is lowered by pressing down the head pusher 9b, the soldered portion of the lead of the component being sucked and held is immersed therein. Specifically, the cylinder may be provided with a screw stopper that can adjust the stroke of the cylinder 25b. In order to keep the height of the liquid 39 constant, for example, the bottle containing the liquid may be turned upside down and its opening adjusted to the desired liquid level height. This technique of keeping the liquid level constant can also be used in the cleaning tanks 4 and 5. The solder immersion part c is the first
As shown in the figure, a solder bath 3 containing a solder melt,
The other components are the same as the flux application part, including a head pusher 9c, a head pusher mounting column 30c, and a cylinder 25.
It consists of c.

この外に、溶融はんだへ部品リードを浸簿する時の進入
、後退速度を設定するために、シリンダへの油(o貴空
気)流入量を加減するバルブ27と、流出量を加減する
バルブ28を設けており、予じめこのバルブを、進入速
度:5〜10肌/秒、後退速度:10〜20伽/秒にな
るように調整しておく。はんだ槽3は第8図に示すよう
に、溶融はんだ16を収容しており、はんだ浸債の前に
その表面に形成されているはんだ酸化膜を取り除くため
の、ワィパ10′が該はんだ面16を一方向に掻くよう
に設けられている。このワィパ10′の動作は、ヮィパ
枠10を水平方向に往復動作せしめるシリンダ11と、
該ワィパ枠10に取付けられており、垂直方向にワィパ
10′を移動してはんだ液面から離脱、浸債せしめるシ
リンダー2とにより行なわれる。これらシリンダの駆動
は、やはり基台33に設けられた制御機構(図示せず)
によって行なわれるがその説明は省略する。はんだ浸債
深さについては、第9図に示す如く、部品15のリード
成形部D以下となるように、シリンダ25cのストロー
クを制限する例えばネジ式ストッパを該シリンダ25c
に設ける。粗洗浄糟d、仕上げ洗浄槽eは、槽に収容さ
れる液が、洗浄液(例えばアルコール、フレオン等)と
なるだけで、構成はフラックス塗布部と同様であるので
、説明は省略する。
In addition, there is a valve 27 that adjusts the amount of oil (noble air) flowing into the cylinder, and a valve 28 that adjusts the amount of oil (noble air) flowing into the cylinder, in order to set the entry and retreat speeds when dipping the component lead into the molten solder. This valve is adjusted in advance so that the approach speed is 5 to 10 per second and the retraction speed is 10 to 20 per second. As shown in FIG. 8, the solder bath 3 contains molten solder 16, and a wiper 10' is used to remove the solder oxide film formed on the surface of the solder surface 16 before soldering. It is designed to scratch in one direction. The operation of this wiper 10' consists of a cylinder 11 that causes the wiper frame 10 to reciprocate in the horizontal direction;
This is accomplished by a cylinder 2 which is attached to the wiper frame 10 and which moves the wiper 10' in the vertical direction to remove it from the solder liquid surface and immerse it in the solder liquid. The driving of these cylinders is also controlled by a control mechanism (not shown) provided on the base 33.
The explanation is omitted. As for the depth of solder bonding, as shown in FIG.
Provided for. The coarse cleaning tank d and the finishing cleaning tank e have the same structure as that of the flux application section, except that the liquid contained in the tank is a cleaning liquid (for example, alcohol, Freon, etc.), so a description thereof will be omitted.

次に、本実施例装置の動作を説明する。Next, the operation of the apparatus of this embodiment will be explained.

第14図は部品の流れに沿った全体の主な動作を示すフ
ローチャート、第15図〜第18図は第14図の各部の
詳細動作を示すフローチャートである。以下これらフロ
ーチャートに従い説明する。‘a} 部品のセット、吸
着aは第15図の■〜目の動作を行なう。
FIG. 14 is a flowchart showing the overall main operations along the flow of parts, and FIGS. 15 to 18 are flowcharts showing detailed operations of each part in FIG. 14. A description will be given below according to these flowcharts. 'a} For setting and suction a of the parts, perform the operations from ■ to 1 in FIG. 15.

先ず、外部から部品15を供V給台1の角溝36(第1
3図)にセットする。本装置の動作開始させると、第1
図及び第13図の部品供給部aの供給台1が、シリンダ
26aのピストン35により押上げられ、第13図点線
位置に至った部品15′は、ハンドリング部7aの吸着
ヘッド17aの吸着口に密着する。このシリンダ26a
の動きを検出(例えばピストンの移動によりシリンダ面
からみた磁気的変化を検出する等)すると、吸着開閉用
レバー41aを下降させて、吸着弁40を開く。すると
、吸着ヘッド17aに真空圧が供聯合され、該部品15
′は吸着ヘッド17aの吸着口に吸着される。又、部品
15が供給台にセットされていない場合は、吸着ヘッド
17aの吸着口は開放状態になり、他のハンドリング部
への真空圧供聯合に支障を来たすため、一定以上の空気
の流入があると例えばボール弁により吸着弁40が閉じ
、一定以上の空気の流入がないようになっている。部品
吸着が完了すると供給台1が、シリンダ35のピストン
下降により第13図実線の位置(水平状態)に戻る。タ
ーンテーブル8が60度回転し、部品15に吸着したハ
ンドリング部7aはフラックス塗布部bの位置に搬送さ
れる。この位置bに来たハンドリング部は各部分の符号
にbを付し、例えばハンドリング部7bで示し、位置c
ではcを付し以下位置d〜fも同様とする。‘b)フラ
ックス塗布部bに設けられたプツシャ9bが、シリンダ
25bへの油圧(又はェア)供給により、押下され、ハ
ンドリング部7aの上下駆動軸16が該プッシャ9bに
押下され下降する。
First, the component 15 is supplied from the outside through the square groove 36 (the first
(Fig. 3). When this device starts operating, the first
The supply table 1 of the component supply section a shown in FIGS. In close contact. This cylinder 26a
When the movement of the suction valve 40 is detected (for example, by detecting a magnetic change seen from the cylinder surface due to the movement of the piston), the suction opening/closing lever 41a is lowered to open the suction valve 40. Then, vacuum pressure is applied to the suction head 17a, and the part 15
' is attracted to the suction port of the suction head 17a. In addition, if the component 15 is not set on the supply table, the suction port of the suction head 17a will be in an open state, and the inflow of air above a certain level will interfere with the vacuum pressure supply to other handling parts. If so, the adsorption valve 40 is closed by, for example, a ball valve to prevent air from flowing in beyond a certain level. When the component suction is completed, the supply table 1 returns to the position indicated by the solid line in FIG. 13 (horizontal state) by the lowering of the piston of the cylinder 35. The turntable 8 rotates 60 degrees, and the handling section 7a that has been attracted to the component 15 is transported to the position of the flux application section b. The handling part that has come to this position b is indicated by the symbol b attached to each part, for example, handling part 7b, and the handling part that has arrived at position c
Here, c is added and the same applies to the following positions d to f. 'b) The pusher 9b provided in the flux application section b is pushed down by oil pressure (or air) supplied to the cylinder 25b, and the vertical drive shaft 16 of the handling section 7a is pushed down by the pusher 9b and lowered.

これによりハンドリング部7aのヘッド部17aに吸着
された部品15がフラックス槽2に浸潰される。この浸
糟動作の方向は第9図の矢印にて示され、浸債深さはリ
ード41の成形部D迄である。浸造時の進入後退角度Q
は、ハンドリング部18を取付けてあるアーム36(第
10図)で決まっており、ちなみに、第9図の如く、4
50〜750の間に設定されている。浸濃時間は、フラ
ツクスの場合、数秒程度保持した方が良く、この時間は
シリンダ25bへの油圧(又はェア)供給後の保持時間
で制御される。この後、プツシヤ9bを上昇すべく、シ
リンダ25bへの油圧(orェア)を逆方向に流すと、
軸16bのバネ37bにより該髄16が上昇し、よって
ハンドリング部7bのヘッド17bに吸着された部品1
5が、フラツクス槽2のフラックスから離れ上昇する。
次に、軸38bが回動しそのアーム37bの駆動歯車2
0bを歯車19bに近づけて行き、互いにかみ合うと駆
動歯車20によりヘッド回転歯車19が900回転し、
第11図のボール24がスプラィン輪22の凹部に落ち
込みロックされる。以上が第16図のフロウ@〜■の動
作であり、部品15のリード41の楯設面4面を完了す
る迄、即ち、90度ずつリード面を変えて第16図の@
〜■を4回線返す。次にターンテーブル8が60度回転
し、部品15を吸着したハンドリング部7bは位置Cに
移る。‘c)この搬送と同時に、はんだ付着性を良くす
るためのはんだ槽3の酸化膜除去が行なわれる。
As a result, the component 15 adsorbed by the head portion 17a of the handling portion 7a is immersed in the flux tank 2. The direction of this immersion operation is indicated by the arrow in FIG. 9, and the immersion depth is up to the molded portion D of the lead 41. Approach and retreat angle Q during infiltration
is determined by the arm 36 (Fig. 10) to which the handling part 18 is attached, and by the way, as shown in Fig. 9, 4
It is set between 50 and 750. In the case of flux, the soaking time is preferably held for several seconds, and this time is controlled by the holding time after oil pressure (or air) is supplied to the cylinder 25b. After this, in order to raise the pusher 9b, the hydraulic pressure (or air) to the cylinder 25b is made to flow in the opposite direction.
The pith 16 is raised by the spring 37b of the shaft 16b, and the part 1 that is attracted to the head 17b of the handling section 7b is
5 separates from the flux in flux tank 2 and rises.
Next, the shaft 38b rotates and the drive gear 2 of the arm 37b
0b is brought closer to the gear 19b, and when they mesh with each other, the head rotation gear 19 rotates 900 times by the drive gear 20.
The ball 24 shown in FIG. 11 falls into the recess of the spline ring 22 and is locked. The above is the operation of the flow @~■ in Fig. 16, and until the four shielding surfaces of the leads 41 of the component 15 are completed, that is, by changing the lead surfaces by 90 degrees, the flow @ in Fig. 16 is completed.
~■ Return 4 lines. Next, the turntable 8 rotates 60 degrees, and the handling section 7b that has picked up the component 15 moves to position C. c) At the same time as this transportation, the oxide film on the solder bath 3 is removed to improve solder adhesion.

この酸化膜除去の動作は、第8図のワイパー枠10に取
付けられたシリンダ12によりワイパー10′を上げ、
シリンダ11で、該シリング12と共にワイパー枠10
を図の左手に引く。次にシリソダ12によりワイパー1
0′を下ろし、該シリンダ12と共にワイパー枠10を
図の右手方向にシリンダ11で押す。シリンダ11の押
し動作により、ワイパー10′が溶融はんだ表面をかい
て、加熱酸化形成された酸化膿を除去する。次に、はん
だ浸糟部c位置に搬送され、フラック/ス塗布と略類似
した第16図@〜■の動作が4回行なわれる。
This oxide film removal operation is carried out by raising the wiper 10' using the cylinder 12 attached to the wiper frame 10 shown in FIG.
In the cylinder 11, the wiper frame 10 together with the cylinder 12
Draw it to the left side of the diagram. Next, the wiper 1 is
0' and push the wiper frame 10 together with the cylinder 12 to the right in the figure using the cylinder 11. Due to the pushing action of the cylinder 11, the wiper 10' scratches the surface of the molten solder to remove oxidized pus formed by heating and oxidation. Next, it is transported to the solder soaking part c position, and the operations shown in FIGS.

はんだ浸薄動作では、特に、各種の動作条件がキビシク
設定されている点がフラツク塗布動作と異なる。即ち、
■溶融はんだ面への進入、後退角度を45〜75度とし
、■同進入速度を5〜10仇/S、同後退速度を10〜
2比1ねとし、■溶融はんだ中に浸潰する時間を0.9
秒以下とし、−■溶融はんだ中に浸糟するりードの深さ
はリード成形部(折曲げ部)位置迄としたことにより、
リード間のブリッジ発生率を、最小に抑えられる。上記
■の進入後退角度は、既述した如く、ターンテーブル8
へのハンドリング部取付け角度、即ち、アーム36の下
方曲げ角度によって決められており、ヘッドプッシャ9
cにより押下するだけで45度〜75度の角度で進入後
退するようになっている。■の進入速度、後退速度も、
既述したように、シリング25cへの油圧(ェア)流入
量調整バルブ27と、流出量を調整するバルブ28で、
設定されており、一定圧の油圧(ェア)をシリンダ25
cに流入出させるだけで、所定の速度(進入:5〜10
仇だ、後退:10〜2仇秋/S)が得られる。■の溶融
はんだ中に浸糟する時間は、フラックス槽への浸濃時間
の制御と同様に、シリンダ25cへの油圧(ェア)流入
から流出への切替え時間を短くし浸滴時間が0.5秒以
下となるように、基台下の制御機構で制御される。■の
溶融はんだ中に浸簿するりードの深さも、フラックス槽
の場合と同じく、リード成形部迄としてあり、この調整
は、シリンダ25cのストロークを調整できるネジスト
ツバにより行なわれ、予め設定されている。はんだ浸債
動作が完了すると、更にターンテーブル8が60度回転
し、部品15を吸着したハンドリング部7cは次の粗洗
浄を行なう位置dに移る。
The solder dipping operation differs from the flash coating operation in that various operating conditions are precisely set. That is,
■The approach and retreat angles to the molten solder surface are 45 to 75 degrees, ■The approach speed is 5 to 10 mm/S, and the retreat speed is 10 to 75 degrees.
The ratio of 2 is 1, and the time to soak in the molten solder is 0.9.
-■ The depth of the lead soaked into the molten solder is up to the position of the lead forming part (bending part).
The occurrence of bridges between leads can be minimized. As mentioned above, the approach and retreat angle of
It is determined by the angle at which the handling part is attached to the head pusher 9, that is, the downward bending angle of the arm 36.
It is designed to move in and out at an angle of 45 degrees to 75 degrees simply by pressing the button c. ■The approach speed and retreat speed are also
As mentioned above, the hydraulic (air) inflow amount adjustment valve 27 to the shilling 25c and the valve 28 that adjusts the outflow amount,
The hydraulic pressure (air) at a constant pressure is applied to the cylinder 25.
By simply letting it flow in and out of
Enemies, Retreat: 10-2 Enemies/S) can be obtained. The time for soaking into the molten solder (2) is similar to the control of the soaking time to the flux tank, by shortening the switching time from the hydraulic (air) inflow to the cylinder 25c to the outflow, and reducing the droplet soaking time to 0. It is controlled by a control mechanism under the base so that the time is 5 seconds or less. The depth of the lead immersed in the molten solder in (2) is also up to the lead forming part, as in the case of the flux bath, and this adjustment is made by a threaded collar that can adjust the stroke of the cylinder 25c, and is set in advance. . When the solder bonding operation is completed, the turntable 8 is further rotated by 60 degrees, and the handling section 7c that has picked up the component 15 is moved to the position d where the next rough cleaning is to be performed.

【d} 粗洗浄dは、第7図の■〜■の動作を行なうも
ので、プッシャ9dを押下すると、ハンドリング部7d
の上下駆動藤16dが押下され、部品15が吸着されて
いるヘッド17dが、ハンドリング部の下降によって、
粗洗浄槽4に向って下りて行く、該部品15のリード4
1が、粗洗浄液に浸る迄下りると下降は停止し、軸38
dが回敷し、駆動歯車20dをヘッド回転歯車19dに
近接しかみ合わせる。
[d} Rough cleaning d performs the operations of ■ to ■ in Fig. 7, and when the pusher 9d is pressed down, the handling part 7d
16d is pressed down, and the head 17d, on which the component 15 is sucked, is moved downward by the lowering of the handling part.
Lead 4 of the component 15 going down toward the rough cleaning tank 4
1 descends until it is immersed in the rough cleaning liquid, the descent stops, and the shaft 38
d is rotated, and the drive gear 20d is closely engaged with the head rotation gear 19d.

このかみ合った状態で、駆動歯車20dがヘッド回転歯
車19dを270度(リード4面分)ゆっくり回転させ
る。このヘッド17dの回転に伴って、ヘッド17dに
吸着されている部品15が回転され、4面に楯設されて
いるリードが全て洗浄される。この洗浄作業が完了する
と、プツシャ7dを、元の位置に上げて、部品の吸着さ
れているハンドリング部7dが上昇し、搬送可能となる
。更にターンテーブル8が60度回転し、仕上洗浄を行
なう位置eに移る。
In this meshed state, the drive gear 20d slowly rotates the head rotation gear 19d by 270 degrees (by four reed faces). As the head 17d rotates, the component 15 that is attracted to the head 17d is rotated, and all the leads that are shielded on four sides are cleaned. When this cleaning work is completed, the pusher 7d is raised to its original position, and the handling part 7d on which the parts are sucked rises, making it possible to transport the parts. Furthermore, the turntable 8 rotates 60 degrees and moves to the position e where final cleaning is performed.

【cー 仕上洗浄eは、粗洗浄と全く同じ動作を行なっ
ているため、特に、説明を省略する。
[c--Final cleaning e performs exactly the same operation as rough cleaning, so a detailed explanation will be omitted.

仕上洗浄が完了すると、更にターンテーフル8が60度
回転し、部品取出しを行なう位置fに移る。
When the final cleaning is completed, the turntable 8 is further rotated by 60 degrees and moved to the position f where parts are taken out.

的 部品取出動作fは、第18図に示す■〜@の動作か
らなり、部品のセット吸着動作aのほぼ逆の動作をする
The component take-out operation f consists of the operations ■ to @ shown in FIG. 18, and is almost the opposite of the component setting suction operation a.

即ち、第13図で、都品取付台6をシリンダ26fで押
し上げ、部品吸着ヘッド17fに吸着されている部品1
5′を点線の、状態で受ける。この状態で、第10図の
レバー41fを吸着弁40fに押し当て、パイプ31の
真空圧供給路を閉じる。これにより部品15′は吸着ヘ
ッドからの吸着力を受けなくなり、第13図の取付台1
をシリンダ26fにより、実線位置に下げる。この状態
でへ全ての処理が完了した部品を、取出台1からとり出
すことができる。更に、ターンテーブル8が60度回転
し、部品の吸着されてないハンドリング部7f‘ま、次
の部品セット吸着を行なう位置aに、移動する。
That is, in FIG. 13, the Toji mounting base 6 is pushed up by the cylinder 26f, and the component 1 sucked by the component suction head 17f is removed.
5' is received by the dotted line. In this state, the lever 41f shown in FIG. 10 is pressed against the adsorption valve 40f to close the vacuum pressure supply path of the pipe 31. As a result, the component 15' no longer receives the suction force from the suction head, and the mounting base 1 shown in FIG.
is lowered to the solid line position by cylinder 26f. In this state, the parts that have been completely processed can be taken out from the take-out stand 1. Further, the turntable 8 is rotated 60 degrees, and the handling section 7f' where no components are being picked up is moved to the position a where the next set of components is to be picked up.

この移動の間、レバー41fは、吸着弁40fを閉じ続
けており、部品セット、吸着動作迄の間閉じられている
。以上の如く構成されているから、本発明によればリー
ド間隔の狭いフラットパック形部品の迎え半田付けを、
ブリッジが生じることなく、且つ自動的に行なうことが
でき、最近のような、高密度素子のリード半田付けの信
頼度向上に大きな効果を奏する。
During this movement, the lever 41f continues to close the suction valve 40f, and remains closed until the parts are set and the suction operation is performed. With the above structure, according to the present invention, it is possible to solder flat pack components with narrow lead spacing.
This method can be performed automatically without causing bridging, and has a great effect on improving the reliability of lead soldering for high-density devices, which has recently been the case.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例である迎え半田装置の平面図
、第2図はそのAA断面図、第3図はフラットバック形
部品の斜視図、第4図〜第7図はブリッジ発生率と各種
条件の関係を示す図、第8図は第1図のはんだ槽の拡大
斜視図、第9図ははんだ槽への部品浸濃状態を示す図、
第10図は第1図のハンドリング部とその周辺を示す図
、第11図、第12図は第10図の一部断面図、第13
図は第1図の部品供給部a、部品取出部fを示す斜視図
、第14図〜第18図は本実施例の動作を示すフローチ
ャートである。 a・・・・・・部品供給部、b・・・・・・フラツクス
塗布部、c・・・・・・はんだ浸糟部、d・・・・・・
粗洗浄部〜 e・・・・・・仕上げ洗浄部、f・・・・
・・部品取出部、D・・・・・・リード成形部、g・・
・・・・搬送部、1・・・・・・部品供給台、2・・・
・・・フラツクス槽、3・・・・・・はんだ槽、4……
粗洗浄槽、5・・・・・・仕上げ洗浄槽、6・・・・・
・部品取出台、7……ハンドリング部、8……ターンテ
ーブル、9……ヘッドプッシャ、10……ワイパ枠、1
0′……ワイパ、1 1,12……シリング、15……
フラットパック部品、14・・・・・・はんだ液面、1
6・・・・・・上下駆動軸、17・・・・・・部品吸着
ヘッド、21・…”リング、22……スプラィン軸、2
4…・・・ボール、25,26……シリンダ、27,2
8……バルブ、41・・・・・・リード。 姦′図 拳2図 界3四 姿4図 多ぶ図 多ょ図 多7図 窯′′図 第8図 巣?図 弟’o図 偽z図 蓬け函 努め図 多′3図 多′ょ図 数7図 姿18図
Fig. 1 is a plan view of a pick-up soldering device that is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA, Fig. 3 is a perspective view of a flat-back type component, and Figs. 4 to 7 show bridge formation. 8 is an enlarged perspective view of the solder bath shown in FIG. 1, and FIG. 9 is a diagram showing the state of components immersed in the solder bath.
Figure 10 is a diagram showing the handling section and its surroundings in Figure 1, Figures 11 and 12 are partial cross-sectional views of Figure 10, and Figure 13 is a diagram showing the handling section and its surroundings.
The figure is a perspective view showing the component supply section a and the component removal section f in FIG. 1, and FIGS. 14 to 18 are flowcharts showing the operation of this embodiment. a...Component supply section, b...Flux application section, c...Solder soaking section, d...
Rough cleaning section ~ e... Finish cleaning section, f...
・・Component extraction section, D ・・Lead forming section, G・・
...Transportation section, 1...Parts supply table, 2...
...Flux bath, 3...Solder bath, 4...
Rough cleaning tank, 5...Finish cleaning tank, 6...
・Parts removal stand, 7... Handling unit, 8... Turntable, 9... Head pusher, 10... Wiper frame, 1
0'...Wiper, 1 1, 12...Shilling, 15...
Flat pack parts, 14...Solder liquid level, 1
6... Vertical drive shaft, 17... Component suction head, 21...'' ring, 22... Spline shaft, 2
4... Ball, 25, 26... Cylinder, 27, 2
8... Valve, 41... Lead. Kan' Zuken 2 Zu Kai 34 Figures 4 Figures Many Figures Many Figures 7 Figures Kiln'' Figure 8 Figure Nest? Drawing brother 'o figure false Z figure folding box trying figure many '3 figure many' figure number 7 figure figure 18 figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 部品を吸着し保持する部品保持手段と、該部品保持
手段を円周移送する円周移送手段と、迎え半田処理の手
順に従つて該円周下に配置したフラツクス槽、半田槽、
および洗浄槽と、これら各槽に対応して設けられ前記部
品保持手段が各槽上に達したとき該保持手段に保持され
た部品を該槽内に下降せしめ所定の処理を施した後再び
上昇せしめる部品下降上昇手段を具備したことを特徴と
するフラツトパツク形部品の迎え半田装置。 2 部品保持手段の一側方には真空吸引圧が供給される
ようにしてなる部品吸着ヘツドが取付けられ、上部には
上記移送手段に上下方向移動可能に支持された上下駆動
軸が取付けられ、各槽毎に設けられた部品下降手段には
該上下駆動軸を下方に押し込むヘツドプツシヤが取付け
られてなる特許請求の範囲第1項記載のフラツトパツク
形部品の迎え半田装置。 3 部品吸着ヘツドの部品吸着面にはゴム状のリングが
真空吸引圧の洩れを防ぐために取付けられてなる特許請
求の範囲第2項記載のフラツトパツク形部品の迎え半田
装置。 4 部品保持手段には部品端子面n面に浸漬動作を行な
うために360°/n回転する毎に該回転するロツクす
るボールロツク手段を具備してなる特許請求の範囲第1
項記載のフラツトパツク形部品の迎え半田装置。 5 はんだ槽への浸漬の際液面に対し45度〜75度の
角度で進入、後退を行なうようにしてなる特許請求の範
囲第1項記載のフラツトパツク形部品の迎え半田装置。 6 はんだ槽への浸漬の際、進入速度:5〜10cm/
S、浸漬時間:0.5秒以下、後退速度:10〜20c
m/Sとしたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載のフラツトパツク形部品の迎え半田装置。7 はんだ
槽への浸漬の際、浸漬深さをリードの成形部以下とする
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のフラツト
パツク形部品の迎え半田装置。
[Scope of Claims] 1. A component holding means for sucking and holding a component, a circumferential transfer means for transferring the component holding means circumferentially, and a flux tank disposed below the circumference according to the procedure of pick-up soldering process. , solder tank,
and a cleaning tank, and when the parts holding means provided corresponding to each tank reaches the top of each tank, the parts held by the holding means are lowered into the tank, and after predetermined processing is performed, the parts are raised again. 1. A device for picking up and soldering flat pack type parts, characterized in that it is equipped with means for lowering and raising parts. 2. A component suction head to which vacuum suction pressure is supplied is attached to one side of the component holding means, and a vertical drive shaft supported by the transfer means so as to be movable in the vertical direction is attached to the upper part; 2. The apparatus for soldering flat pack type components according to claim 1, wherein a head pusher for pushing the vertical drive shaft downward is attached to the component lowering means provided for each tank. 3. The device for soldering flat pack type components according to claim 2, wherein a rubber ring is attached to the component suction surface of the component suction head to prevent leakage of vacuum suction pressure. 4. Claim 1, wherein the component holding means is provided with a ball locking means that rotates and locks the ball every time it rotates by 360°/n in order to perform a dipping operation on the n-plane of the component terminal surface.
An apparatus for soldering flat pack type parts as described in 2. 5. A soldering device for flat pack type parts as claimed in claim 1, which enters and retreats at an angle of 45 degrees to 75 degrees with respect to the liquid surface when immersed in a solder bath. 6 When dipping into the solder bath, approach speed: 5 to 10 cm/
S, Immersion time: 0.5 seconds or less, Retraction speed: 10-20c
2. The apparatus for soldering flat pack type parts according to claim 1, wherein the soldering device is m/S. 7. The apparatus for soldering flat pack type parts according to claim 1, wherein the immersion depth is equal to or less than the molded part of the lead when immersed in the solder bath.
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