JPS602398Y2 - 低沸点流体の噴射装置 - Google Patents

低沸点流体の噴射装置

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JPS602398Y2
JPS602398Y2 JP16266781U JP16266781U JPS602398Y2 JP S602398 Y2 JPS602398 Y2 JP S602398Y2 JP 16266781 U JP16266781 U JP 16266781U JP 16266781 U JP16266781 U JP 16266781U JP S602398 Y2 JPS602398 Y2 JP S602398Y2
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JP
Japan
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boiling point
low boiling
point fluid
injection device
chamber
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Expired
Application number
JP16266781U
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English (en)
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JPS5869200U (ja
Inventor
一実 葛原
尚義 内山
Original Assignee
三井造船株式会社
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Publication date
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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は、低沸点流体の噴射装置に関し、さらに詳し
くは液体天然ガス、液体窒素のような低沸点流体の蒸発
器などに好適に用いられる噴射装置に関する。
従来の噴射装置は、第1図ないし第4図に示すように、
配管5または熱交換器のチャンネル胴(主配管)6を貫
通して設けられた低沸点流体の供給配管3と、該配管3
にニップル2を介して取付けられたスプレーノズル1と
からなる。
第3図および第4図に示す熱交換器の場合には、主配管
6を上下に仕切る仕切板8が設けられ、上部の室内には
前記スプレーノズル1が貫設され、下部の室には入口ノ
ズル9から熱交換流体が通される。
なお、主配管6には、スプレーノズル1の前方に向けて
低沸点流体の出口ノズル7が設けられている。
しかしながら、上記の構造では、液体天然ガスや液体窒
素のような低沸点流体を噴射させる場合、主配管5また
は6と該流体の供給配管3の取付部(溶接部)に大きな
熱応力を生じ、配管や付属機器を破損するおそれがある
また、取扱う流体が低沸点であるために、まわりの熱を
吸収して蒸発してしまい、気液混相の状態でスプレーノ
ズル1を通過するので、安定したスプレーパターンが得
られないという欠点がある。
この考案の目的は、従来の噴射装置の有する欠点を拝除
し、低沸点流体を取扱った場合でも熱応力の発生がなく
、配管その他の構成機器に破損のおもれがない低沸点流
体の噴射装置を提供することにある。
この考案は、仕切板によって仕切られた主配管の一方の
室にスプレーノズルを有する低沸点流体の供給配管を配
設した噴射装置において、前記主配管の他方の室内に低
沸点流体の供給配管部を配置し、かつその室内に同一の
低沸点流体を流通させるようにしたことを特徴とする。
以下、図面により、この考案をさらに詳細に説明する。
第5図は、この考案の一実施例を示す噴射装置の断面図
、第6図は、そのVI−VI線に沿った矢視断面図であ
る。
図において、上部に出口ノズル7を有する主配管6は、
仕切板8により上下に仕切られ、その上方の室11の前
記出口ノズル7の直下にはスプレーノズル1が配置され
、また仕切板8の下方の室(入口室)12には低沸点流
体の入口ノズル9が開口している。
主配管の6の下部および仕切板8を貫通して低沸点流体
の供給配管3が設けられ、その上部はニップル2を介し
て前記スプレーノズル1に連結されている。
配管3は仕切板8と主配管6に溶接により接続されてい
る。
上記構成において、低沸点流体は流体人口10から配管
3内に導入され、その先端のスプレーノズル1から主配
管の上部の室11に噴射され、さらに出口ノズル7を通
って主配管6の外部に排出される。
このとき、入口ノズル9から流入して入口室12に充満
している液と配管3内の噴射用液が同一流体であるため
、入口室12と低沸点流体の供給配管3は同一温度とな
る。
従って供給配管3と主配管6との取付部に熱応力の発生
がなく、安全に機器の運転を行うことができる。
さらに入口室12と配管3とが同一温度であるため、配
管3の内部で熱吸収による液の蒸発が起こらず、従って
スプレーノズル1には液のみが供給されるので、安定し
たスプレーパターンを得ることができる。
上記実施例は、仕切板8を用いて下方の室に低沸点流体
を供給して配管3を保護したものであるが、仕切板8は
平板状に限らず、曲板状、円筒状(二重管)等の形状と
してもよい。
またスプレーノズル1は必らずしも主配管6の出ロアに
向けて配設される必要はない。
第7図は、この考案の他の実施例を示すもので、主配管
6内に直角方向にスプレーノズル1の供給配管3を設け
、その供給部を仕切板8で保護し、かつ仕切板8で囲ま
れた室内に同じ液体を流して保温するようにしたもので
ある。
上記構成によれば、主配管6内に液体を噴射することに
より、その温度コントロールが容易になり、また配管3
が仕切板8で保温されているので熱応力の発生も抑制さ
れ、安定したスプレーパターンを得ることができる。
この考案の噴射装置は、液体燃料、液体窒素などの低沸
点流体の蒸発器、燃焼装置等に好適に用いられる。
以上に詳述したように、この考案は低沸点流体の供給配
管を仕切板によつ保護し、同じ低沸点流体で保温するよ
うにしたので、これらの配管の取付部に温度差による熱
応力がかからず、また外部の熱による配管内の液の蒸発
がないので、ノズルから液のみを噴射させることができ
、安定したスプレーパターンを得、効率のよいスプレー
を行なうことがでいる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、従来の噴射装置の断面図および
その■−■線に沿った矢視断面図、第3図および第4図
は、従来の熱交換器に用いられる噴射装置の断面図およ
びそのIV−IV線に沿った矢視断面図、第5図および
第6図は、この考案の一実施例を示す噴射装置の断面図
、およびそのVl−■線に沿った矢視断面図、第7図は
この考案の他の実施例を示す噴射装置の部分断面図であ
る。 1・・・・・・スプレーノズル、2・・・・・・ニップ
ル、3・・・・・・低沸点流体供給配管、4・・・・・
・キャップ、5・・・・・・主配管、6・・・・・・主
配管(チャンネル胴)、7・・・・・・出口ノズル、訃
・・・・・仕切板、9・・・・・・入口ノズル。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 仕切板によって仕切られた主配管の一方の室にスプレー
    ノズルを有する低沸点流体の供給配管を配設した噴射装
    置において、前記主配管の他方の室内に低沸点流体の供
    給配管部を配置し、かつその室内に同一の低沸点流体を
    流通させるようにしたことを特徴とする低沸点流体の噴
    射装置。
JP16266781U 1981-11-02 1981-11-02 低沸点流体の噴射装置 Expired JPS602398Y2 (ja)

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JP16266781U JPS602398Y2 (ja) 1981-11-02 1981-11-02 低沸点流体の噴射装置

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Publication Number Publication Date
JPS5869200U JPS5869200U (ja) 1983-05-11
JPS602398Y2 true JPS602398Y2 (ja) 1985-01-23

Family

ID=29954975

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