JPS60229353A - 熱伝達装置 - Google Patents
熱伝達装置Info
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- JPS60229353A JPS60229353A JP59083708A JP8370884A JPS60229353A JP S60229353 A JPS60229353 A JP S60229353A JP 59083708 A JP59083708 A JP 59083708A JP 8370884 A JP8370884 A JP 8370884A JP S60229353 A JPS60229353 A JP S60229353A
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- heat
- tunnel
- fins
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/42—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
- H01L23/427—Cooling by change of state, e.g. use of heat pipes
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
- F28F—DETAILS OF HEAT-EXCHANGE AND HEAT-TRANSFER APPARATUS, OF GENERAL APPLICATION
- F28F13/00—Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing
- F28F13/18—Arrangements for modifying heat-transfer, e.g. increasing, decreasing by applying coatings, e.g. radiation-absorbing, radiation-reflecting; by surface treatment, e.g. polishing
- F28F13/185—Heat-exchange surfaces provided with microstructures or with porous coatings
- F28F13/187—Heat-exchange surfaces provided with microstructures or with porous coatings especially adapted for evaporator surfaces or condenser surfaces, e.g. with nucleation sites
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、電子計算機用集積回路、サイリスタなどのパ
ワー半導体、起電導コイル等、高発熱密度部材の冷却に
適した熱伝達装置に関する。
ワー半導体、起電導コイル等、高発熱密度部材の冷却に
適した熱伝達装置に関する。
集積回路チップの沸騰冷却を促進する従来の方法として
、米国特許3,706,127号がある。この例では、
配線基盤にハンダボンディングを介してチップが搭載さ
れており、チップの面には針状の金属(デンドライト)
が冶金過程により多数形成されている。該デンドライト
の集合は、集積回路チップが不伝導性の液に浸漬されて
用いられる際、集積回路チップの発熱により高温となり
、不伝導性流体の蒸気泡を発生するのに必要な多数の気
泡発生核を内蔵している。このため集積回路チップの発
熱を速やかに除去することができ、チップに内蔵された
電子回路の高速作動により大量の熱が発生しても、チッ
プの温度上昇は抑制される。しかしながらこの方法によ
ると、デンドライトの成長間隔、高さ、デンドライト集
合に内包され気泡発生核として働く空隙の大きさ、など
のパラメータは、デンドライト成長工程により支配され
る。
、米国特許3,706,127号がある。この例では、
配線基盤にハンダボンディングを介してチップが搭載さ
れており、チップの面には針状の金属(デンドライト)
が冶金過程により多数形成されている。該デンドライト
の集合は、集積回路チップが不伝導性の液に浸漬されて
用いられる際、集積回路チップの発熱により高温となり
、不伝導性流体の蒸気泡を発生するのに必要な多数の気
泡発生核を内蔵している。このため集積回路チップの発
熱を速やかに除去することができ、チップに内蔵された
電子回路の高速作動により大量の熱が発生しても、チッ
プの温度上昇は抑制される。しかしながらこの方法によ
ると、デンドライトの成長間隔、高さ、デンドライト集
合に内包され気泡発生核として働く空隙の大きさ、など
のパラメータは、デンドライト成長工程により支配され
る。
一般Kかかる冶金的方法により製造された面構造は微細
なため熱負荷が小さい場合には効果が大きいが1発熱面
の熱流速が大きくなると蒸気の発生が活発になり過ぎて
面が蒸気膜で覆われる結果面の温度が急激に上昇してし
まういわゆるバーンアウト現象を起しやすく、即ちバー
ンアウト熱流速が低く、半導体素子の動作速度にはバー
ンアウト熱流速から決められる発熱許容量によって限界
値があるので動作速度を更に大きくとれないという欠点
がある。
なため熱負荷が小さい場合には効果が大きいが1発熱面
の熱流速が大きくなると蒸気の発生が活発になり過ぎて
面が蒸気膜で覆われる結果面の温度が急激に上昇してし
まういわゆるバーンアウト現象を起しやすく、即ちバー
ンアウト熱流速が低く、半導体素子の動作速度にはバー
ンアウト熱流速から決められる発熱許容量によって限界
値があるので動作速度を更に大きくとれないという欠点
がある。
他の方法として、特開昭55−12798号公報の例の
ように発熱素子にトンネル状の貫通する空洞を有する板
片を取り付は媒体液に浸漬するものが知られており、上
方の開孔からの気泡離脱に伴うポンプ作用により、下方
から液を吸い込むため1発熱量がかなり大きくなっても
伝熱面全体が蒸気膜で覆われることなく、従ってバーン
アウト熱負荷は向上する。しかしながらこの方法では空
洞内に蒸気をトラップする場所が殆んど無く、従って低
熱負荷において性能が悪いという欠点があった。
ように発熱素子にトンネル状の貫通する空洞を有する板
片を取り付は媒体液に浸漬するものが知られており、上
方の開孔からの気泡離脱に伴うポンプ作用により、下方
から液を吸い込むため1発熱量がかなり大きくなっても
伝熱面全体が蒸気膜で覆われることなく、従ってバーン
アウト熱負荷は向上する。しかしながらこの方法では空
洞内に蒸気をトラップする場所が殆んど無く、従って低
熱負荷において性能が悪いという欠点があった。
本発明の目的は集積回路チップその他の、高発熱密度の
発熱素子の冷却において発熱量の多少に拘らず、発生熱
を沸騰する媒体に伝えるのに必要な温度差を小さく保ち
、その結果発熱素子の温度を低く保つ熱伝達装置を提供
することにある。
発熱素子の冷却において発熱量の多少に拘らず、発生熱
を沸騰する媒体に伝えるのに必要な温度差を小さく保ち
、その結果発熱素子の温度を低く保つ熱伝達装置を提供
することにある。
本発明は、熱伝導部材の内部に蒸気発生核を安定に保持
する空洞ならびに発生した蒸気を脱出させるための孔と
を複数層設けることに特徴がある。
する空洞ならびに発生した蒸気を脱出させるための孔と
を複数層設けることに特徴がある。
以下本発明の実施例を図により説明する。まず第1図に
おいて垂直な配線基盤1に搭載された集積回路チップ2
に熱伝導部材としての柱状伝熱体12が水平に取り付け
られ、不伝導性液5にチップ2と伝熱体12のアッセン
ブリーが浸漬されている。伝熱体12は第2図に示す微
細フィン付孔あき板14を積層して構成されており、微
細フィン15.16は熱伝導性の板14の一面にのみ設
けられかつ矩形断面を有しているので積層接合時にはフ
ィン先端の平らな端面と他の板のフィンが設けられてい
ない側の面とが接し接合される。板14のフィンが設け
られていない部分には板を貫通する微細な孔17が多数
あけられている。これらのフィンおよび孔から成る微細
構造は機械加工。
おいて垂直な配線基盤1に搭載された集積回路チップ2
に熱伝導部材としての柱状伝熱体12が水平に取り付け
られ、不伝導性液5にチップ2と伝熱体12のアッセン
ブリーが浸漬されている。伝熱体12は第2図に示す微
細フィン付孔あき板14を積層して構成されており、微
細フィン15.16は熱伝導性の板14の一面にのみ設
けられかつ矩形断面を有しているので積層接合時にはフ
ィン先端の平らな端面と他の板のフィンが設けられてい
ない側の面とが接し接合される。板14のフィンが設け
られていない部分には板を貫通する微細な孔17が多数
あけられている。これらのフィンおよび孔から成る微細
構造は機械加工。
転造加工、エツチング、電子ビーム加工、レーザービー
ム加工、鋳造などの方法により製作される。
ム加工、鋳造などの方法により製作される。
積層接合はろう接、拡散接合などの方法により行ない、
この際、フィンと相手側の板の面によってトンネル板の
空洞が第3図に示すように形成されるが、フィンの方向
を第2図に示すごとく垂直。
この際、フィンと相手側の板の面によってトンネル板の
空洞が第3図に示すように形成されるが、フィンの方向
を第2図に示すごとく垂直。
水平と交互になるようにして積層すると接合後は第3図
における垂直トンネル18と水平トンネル19が形成さ
れる。第3図に示すごとく垂直トンネル18と水平トン
ネル19とは孔17によって連通している。
における垂直トンネル18と水平トンネル19が形成さ
れる。第3図に示すごとく垂直トンネル18と水平トン
ネル19とは孔17によって連通している。
第4,5図に本発明による熱伝導部材の他の実施例を示
す。
す。
第4図に示す微細フィン付孔あき板114は、薄板の表
裏両側より互いに交叉する方向に溝112.113が設
けられている。溝112及び113の深さの和は薄板の
肉厚よりも大きく、したがって、それぞれの溝の交叉点
には、それぞれの溝を連通させる開孔117が形成され
ている。
裏両側より互いに交叉する方向に溝112.113が設
けられている。溝112及び113の深さの和は薄板の
肉厚よりも大きく、したがって、それぞれの溝の交叉点
には、それぞれの溝を連通させる開孔117が形成され
ている。
微細フィン付孔あき板114を複数枚重ね合せそれぞれ
を接合したものを第5図しこ示す。第4図に示す溝11
2及び113がトンネル状の空洞118及び119を形
成し、それぞれのトンネル状の空洞は空孔117により
連通させれている。
を接合したものを第5図しこ示す。第4図に示す溝11
2及び113がトンネル状の空洞118及び119を形
成し、それぞれのトンネル状の空洞は空孔117により
連通させれている。
本実施例では、溝断面が完全に方形であり、したがって
、開孔117の最大断面長さが溝断面長さと等しい場合
を示したが1機械加工による開孔117内へのパリのは
り出し、溝底形状にアールを付ける、それぞれの交叉溝
の深さの和を薄板の肉厚よりも浅くなるように溝加工を
施こした後、化学的方法等により開孔を設けるなどによ
り、開孔の大きさを容易に意図する大きさに設定するこ
とができる。
、開孔117の最大断面長さが溝断面長さと等しい場合
を示したが1機械加工による開孔117内へのパリのは
り出し、溝底形状にアールを付ける、それぞれの交叉溝
の深さの和を薄板の肉厚よりも浅くなるように溝加工を
施こした後、化学的方法等により開孔を設けるなどによ
り、開孔の大きさを容易に意図する大きさに設定するこ
とができる。
第6図、第7図はそれぞれ水平トンネル19および垂直
トンネル18の機能を説明するためもので、接合前にフ
ィンであった部分16により仕切られた水平トンネル1
9(第6図)および垂直トンネル18(第7図)が沸騰
媒体液5を満たした槽内にある。水平トンネル19はそ
の姿勢のゆえに蒸気泡が逸脱し難く蒸気20の安定な溜
りとして働き、垂直トンネル18は蒸気21を逃しやす
いので液22の侵入もまた容易となる。このような水平
トンネルと垂直トンネルとを組み合わせた伝熱体を用い
ると、高熱負荷時には主として垂直トンネル18におけ
る蒸発のため伝熱体は冷却され、従ってバーンアウト熱
負荷は向上し、また低熱負荷時に適量の液が垂直トンネ
ル18に侵入することがあっても孔17によって連結さ
れた水平トンネル19に保持された蒸気が存在するので
。
トンネル18の機能を説明するためもので、接合前にフ
ィンであった部分16により仕切られた水平トンネル1
9(第6図)および垂直トンネル18(第7図)が沸騰
媒体液5を満たした槽内にある。水平トンネル19はそ
の姿勢のゆえに蒸気泡が逸脱し難く蒸気20の安定な溜
りとして働き、垂直トンネル18は蒸気21を逃しやす
いので液22の侵入もまた容易となる。このような水平
トンネルと垂直トンネルとを組み合わせた伝熱体を用い
ると、高熱負荷時には主として垂直トンネル18におけ
る蒸発のため伝熱体は冷却され、従ってバーンアウト熱
負荷は向上し、また低熱負荷時に適量の液が垂直トンネ
ル18に侵入することがあっても孔17によって連結さ
れた水平トンネル19に保持された蒸気が存在するので
。
垂直トンネル18と水平トンネル19を連結する孔17
に形成される気液界面から液が蒸発し、これが垂直トン
ネル18内に向って成長する気泡となり液を垂直トンネ
ル18から押し出す。この際。
に形成される気液界面から液が蒸発し、これが垂直トン
ネル18内に向って成長する気泡となり液を垂直トンネ
ル18から押し出す。この際。
液の蒸発および液の激しい運動によってもたらされる高
い熱伝導率が得られる。もちろん水平トンネル19は蒸
気によってのみ満たされるとは限らず、蒸気発生とこれ
に伴なう周囲の液の激しい運動によって若干の液が侵入
し水平トンネル19I!面で蒸発し高い熱伝導率をもた
らす。こうした蒸気の発生と液のトンネル内への侵入の
動力学的現象は、流体の密度、粘性係数、熱伝導率、気
液界面の表面張力、および第3図に示す伝熱体細部構造
の各寸法(トンネル断面の各辺の長さWllWz I
W3 t W4 y孔の径dp)に支配される。
い熱伝導率が得られる。もちろん水平トンネル19は蒸
気によってのみ満たされるとは限らず、蒸気発生とこれ
に伴なう周囲の液の激しい運動によって若干の液が侵入
し水平トンネル19I!面で蒸発し高い熱伝導率をもた
らす。こうした蒸気の発生と液のトンネル内への侵入の
動力学的現象は、流体の密度、粘性係数、熱伝導率、気
液界面の表面張力、および第3図に示す伝熱体細部構造
の各寸法(トンネル断面の各辺の長さWllWz I
W3 t W4 y孔の径dp)に支配される。
たとえば一層の水平トンネル19を用い媒体を沸騰させ
たときも、非常に高い沸騰熱伝達率が得られる状態は、
蒸気泡が孔から離脱するに伴ない蒸気泡が発生していな
い他の孔から適量の液がトンネル内に侵入し蒸発する場
合である。−例として第10図に一層の水平トンネルを
開孔とから成る面構造を用い、炭化弗素冷媒FC−72
を大気圧下で沸騰させた場合の性能が、開孔径によりい
かに変わるかを示した。投影面積(面構造を設けたこと
による実質伝熱面積の増加を含まない)を基準にした熱
流速q (w/ff1)の対数を縦軸に、伝熱面温度と
液の飽和温度(56℃)の差AT (’C)の対数を横
軸にとってあり、供試面構造は全て同じトンネル寸法(
0,4mX0.25閣)、トンネル設置ピッチ(0,5
5■)、孔設置ピッチ(0,7m)を有し、異なるのは
孔径のみである。
たときも、非常に高い沸騰熱伝達率が得られる状態は、
蒸気泡が孔から離脱するに伴ない蒸気泡が発生していな
い他の孔から適量の液がトンネル内に侵入し蒸発する場
合である。−例として第10図に一層の水平トンネルを
開孔とから成る面構造を用い、炭化弗素冷媒FC−72
を大気圧下で沸騰させた場合の性能が、開孔径によりい
かに変わるかを示した。投影面積(面構造を設けたこと
による実質伝熱面積の増加を含まない)を基準にした熱
流速q (w/ff1)の対数を縦軸に、伝熱面温度と
液の飽和温度(56℃)の差AT (’C)の対数を横
軸にとってあり、供試面構造は全て同じトンネル寸法(
0,4mX0.25閣)、トンネル設置ピッチ(0,5
5■)、孔設置ピッチ(0,7m)を有し、異なるのは
孔径のみである。
曲線Aは開孔径が0.25 m、Bは0.2m、Cは0
.1mm、Dは0.05閣である。明らかに孔径が0.
2mmのもの(A)、および0.25閣のものCB)が
AT=3〜15℃の範囲で優れている。
.1mm、Dは0.05閣である。明らかに孔径が0.
2mmのもの(A)、および0.25閣のものCB)が
AT=3〜15℃の範囲で優れている。
もちろん一層のトンネルで得られる熱伝達率が。
多層構造で得られる熱伝達率と一致するわけではないが
、高い熱伝達率をもたらす面構造寸法は前述の蒸気発生
とトンネル内への液侵入を駆動する動力学機構を実現す
るものであることは一層構造でも多層構造でも変わりは
ない。ちなみに第11図には第10図に性能を示した面
構造マーパ孔径0.25mのものを第3図の如く垂直ト
ンネルと水平トンネルが形成されるように5層積層し、
これを円柱形伝熱体として炭化弗素冷媒FC−72を沸
騰させた場合の性能を示したものである(曲線C)。円
柱の直径は9m、長さ10m1で、第11図の縦軸Qは
円柱根元に加えた熱量(W)、横軸ATは円柱根元の温
度を液の飽和温度(56℃)との差(”C)で、それぞ
れ対数を取って示しである。同一寸法の円柱を平滑面を
有する銅円柱としたものの性能(曲線A)、銅円柱の側
面と端面に微細フィンのみ設けたものの性能(曲線B)
も比較のために示しである。多層構造伝熱体はこれら供
試体のうち最高の性能を示しており、バーンアウト熱負
荷は100W以上に達し、平滑面円柱54W、フィン付
円柱の85Wを大きく上回っている。
、高い熱伝達率をもたらす面構造寸法は前述の蒸気発生
とトンネル内への液侵入を駆動する動力学機構を実現す
るものであることは一層構造でも多層構造でも変わりは
ない。ちなみに第11図には第10図に性能を示した面
構造マーパ孔径0.25mのものを第3図の如く垂直ト
ンネルと水平トンネルが形成されるように5層積層し、
これを円柱形伝熱体として炭化弗素冷媒FC−72を沸
騰させた場合の性能を示したものである(曲線C)。円
柱の直径は9m、長さ10m1で、第11図の縦軸Qは
円柱根元に加えた熱量(W)、横軸ATは円柱根元の温
度を液の飽和温度(56℃)との差(”C)で、それぞ
れ対数を取って示しである。同一寸法の円柱を平滑面を
有する銅円柱としたものの性能(曲線A)、銅円柱の側
面と端面に微細フィンのみ設けたものの性能(曲線B)
も比較のために示しである。多層構造伝熱体はこれら供
試体のうち最高の性能を示しており、バーンアウト熱負
荷は100W以上に達し、平滑面円柱54W、フィン付
円柱の85Wを大きく上回っている。
以上の検討を経て明らかにされた孔径の最適値はプレオ
ン系冷媒では0.08〜0.2m、炭化弗素糸冷媒では
0.15〜0.4m、液体窒素では0.04〜0.08
閣、純水では0.08〜0.15閣である。トンネルの
断面寸法は小さ過ぎると蒸気泡の流動に対する抵抗が大
きくなり、また大き過ぎると過量の液侵入を招く、形成
される蒸気泡の直径と同程度か若しく若干小さい寸法の
ものがよく、液体窒素フレオン系冷媒、炭化弗素系冷媒
。
ン系冷媒では0.08〜0.2m、炭化弗素糸冷媒では
0.15〜0.4m、液体窒素では0.04〜0.08
閣、純水では0.08〜0.15閣である。トンネルの
断面寸法は小さ過ぎると蒸気泡の流動に対する抵抗が大
きくなり、また大き過ぎると過量の液侵入を招く、形成
される蒸気泡の直径と同程度か若しく若干小さい寸法の
ものがよく、液体窒素フレオン系冷媒、炭化弗素系冷媒
。
純水などの流体について幅広く調べると、トンネル断面
の一辺の長さが0.2〜2■の範囲が適当である。
の一辺の長さが0.2〜2■の範囲が適当である。
トンネルの設置間隔(第3図λ3.λ2)については、
これらとトンネル幅との差、即ち積層接合する以前にフ
ィンであった部分の厚さを適度の値に決めることによっ
て決まってくる。トンネルを仕切るこれら中実部分の幅
は伝熱体内部の伝導伝熱量を決めるうえで重要で、幅が
狭いと伝熱体の単位体積当りのトンネルの数は増えるが
、伝熱体の長手方向に熱が伝わり難くなり、従って伝熱
体の発熱源から遠い部分では温度が低くなり過ぎて伝熱
体としての有効な働きが阻害されてしまう。
これらとトンネル幅との差、即ち積層接合する以前にフ
ィンであった部分の厚さを適度の値に決めることによっ
て決まってくる。トンネルを仕切るこれら中実部分の幅
は伝熱体内部の伝導伝熱量を決めるうえで重要で、幅が
狭いと伝熱体の単位体積当りのトンネルの数は増えるが
、伝熱体の長手方向に熱が伝わり難くなり、従って伝熱
体の発熱源から遠い部分では温度が低くなり過ぎて伝熱
体としての有効な働きが阻害されてしまう。
水平トンネル内に蒸気を更に安定に保持しておく方法に
は第8図に示すごとく水平トンネル19の両端を隔壁2
3により塞いでしまい蒸気20を備え、垂直トンネルと
の連結孔17のみがあるようにする方法、第9図に示す
ごとく水平トンネルを形成する微細フィンの形状を予め
山形16′にしておき、山形の頂点16’Aが上方に位
置するようにして伝熱体を使用すれば、頂点付近に安定
な蒸気溜り24ができる。
は第8図に示すごとく水平トンネル19の両端を隔壁2
3により塞いでしまい蒸気20を備え、垂直トンネルと
の連結孔17のみがあるようにする方法、第9図に示す
ごとく水平トンネルを形成する微細フィンの形状を予め
山形16′にしておき、山形の頂点16’Aが上方に位
置するようにして伝熱体を使用すれば、頂点付近に安定
な蒸気溜り24ができる。
以上に述べたような水平トンネル、端を塞いだトンネル
、山形トンネルはいずれも低熱負時の沸騰において蒸気
溜りを確実に伝熱体に保持し、液が過量にトンネル内に
侵入して蒸気泡発生核を一掃してしまい沸騰熱伝達を休
止させてしまう可能性を大幅に減らすものであるが、こ
れらの姿勢あるいは形状のトンネルを伝熱体内部に設け
ることは必須の条件ではない、水平トンネルの姿勢が水
平からずれていたり、トンネルが山形をしていなくても
、本来このような微細な構造を液中に浸すと蒸気泡は内
部にトラップされやすく一般に高い伝熱性能が得られる
ことは実験により確めている。
、山形トンネルはいずれも低熱負時の沸騰において蒸気
溜りを確実に伝熱体に保持し、液が過量にトンネル内に
侵入して蒸気泡発生核を一掃してしまい沸騰熱伝達を休
止させてしまう可能性を大幅に減らすものであるが、こ
れらの姿勢あるいは形状のトンネルを伝熱体内部に設け
ることは必須の条件ではない、水平トンネルの姿勢が水
平からずれていたり、トンネルが山形をしていなくても
、本来このような微細な構造を液中に浸すと蒸気泡は内
部にトラップされやすく一般に高い伝熱性能が得られる
ことは実験により確めている。
本発明による伝熱体形成法によれば、トンネルと孔より
成る微細構造の寸法を、伝熱体の長手方向に変えること
も可能である。即ち、第3図における垂直トンネルの断
面の辺の長さW+ r Wzを、発熱体に近い伝熱体根
元の近くでは大きくとり、伝熱体の先端近くでは小さく
とると、蒸気発生量が多い根元近くでは脱出蒸気の流動
に対する抵抗を少くし、伝熱体壁面と液温との差が小さ
い先端近くでは細かいトンネルを多数設けることにより
実質伝熱面積の増大を図りひいては伝熱量の増大をもた
らすことができる。孔についても同様に伝熱体の根元近
くと先端近くでは寸法を変えることができる。第5図に
例を示したごとく、伝熱壁面の過熱度の大小により、優
!、た伝熱性能をもたらす面構造寸法は異なってくる。
成る微細構造の寸法を、伝熱体の長手方向に変えること
も可能である。即ち、第3図における垂直トンネルの断
面の辺の長さW+ r Wzを、発熱体に近い伝熱体根
元の近くでは大きくとり、伝熱体の先端近くでは小さく
とると、蒸気発生量が多い根元近くでは脱出蒸気の流動
に対する抵抗を少くし、伝熱体壁面と液温との差が小さ
い先端近くでは細かいトンネルを多数設けることにより
実質伝熱面積の増大を図りひいては伝熱量の増大をもた
らすことができる。孔についても同様に伝熱体の根元近
くと先端近くでは寸法を変えることができる。第5図に
例を示したごとく、伝熱壁面の過熱度の大小により、優
!、た伝熱性能をもたらす面構造寸法は異なってくる。
従って過熱度の大きい伝熱体根元近くでは高い微伝達率
をもたらす孔径の孔を設け、伝熱体の先端近くでは小さ
い過熱度で高い熱伝達率をもたらす径の孔を設けること
ができる。
をもたらす孔径の孔を設け、伝熱体の先端近くでは小さ
い過熱度で高い熱伝達率をもたらす径の孔を設けること
ができる。
以上本実施例の検証に用いた発熱体の材質は銅であるが
、必ずしも銅である必要はなく、沸騰液との組み合せ、
チップ材質との組み合せによりアルミニウム等の他の金
属、また高熱伝導率セラミックス(ベリリウムλ5iC
)、シリコン等の非金属材料であってもよい。
、必ずしも銅である必要はなく、沸騰液との組み合せ、
チップ材質との組み合せによりアルミニウム等の他の金
属、また高熱伝導率セラミックス(ベリリウムλ5iC
)、シリコン等の非金属材料であってもよい。
第12図に、第3図の如きトンネルが多層に形成された
柱状伝熱体の、積層枚数Nと熱伝達率αの関係を示す、
横軸は、板の積層枚数すなわちト( ンネルの暦数、縦軸は、柱状伝熱体の表面積を基準にと
った熱伝達率α(W/Ci・℃)を表わす。
柱状伝熱体の、積層枚数Nと熱伝達率αの関係を示す、
横軸は、板の積層枚数すなわちト( ンネルの暦数、縦軸は、柱状伝熱体の表面積を基準にと
った熱伝達率α(W/Ci・℃)を表わす。
積層枚数の増加によって柱状伝熱体の側面の表面積は増
加するが、上、下面の表面積は一定である。
加するが、上、下面の表面積は一定である。
積層数Nが2〜13のとき熱伝達率αは1.0以上、す
なわち、一層のときの3倍以上になり、積層数Nが4及
び5の時最も高い熱伝達−が得られる。積層数Nが増加
すると当然柱状伝熱体の占有体積も大きくなるので、実
用上、Nは発熱体の発熱量に応じて2〜13層、望まし
くは2〜7層の範囲内で適宜選べばよい。
なわち、一層のときの3倍以上になり、積層数Nが4及
び5の時最も高い熱伝達−が得られる。積層数Nが増加
すると当然柱状伝熱体の占有体積も大きくなるので、実
用上、Nは発熱体の発熱量に応じて2〜13層、望まし
くは2〜7層の範囲内で適宜選べばよい。
本発明の他の実施例を第13図、第14図に示す、基盤
1は水平に置かれている。伝熱体12は横断面積が広い
トンネル181と狭いトンネル191とが交互に積層さ
れており、それぞれのトンネル181,191は開孔1
7によって連通している。広いトンネル181は蒸気の
流動抵抗が小さいため蒸気の放出通路として働き、狭い
トンネル191は蒸気の流動抵抗が大きいため蒸気を保
持する空洞として働く。すなわち、相隣るトンネルの大
きさを変えることにより、広いトンネル181は第7図
の縦方向トンネル18の役割りを、狭いトンネル191
は第6図の横力トンネル19の役割りを持つことができ
る。本実施例では異なる大きさのトンネルを上下方向に
積み重ねたもの〔発明の効果〕 本発明によれば、液体を沸騰させることによつし て発熱を除去、発熱部品の温度を制限値以下に保つこと
ができる。従って発熱部品の信頼性を高める装置におい
て1発熱面に伝熱面積を拡大するために設けた平滑な面
を有する柱状伝熱体の伝熱性能に比べ、伝熱体根元の温
度を同一に保った場合、本発明の伝熱体は平滑面伝熱体
の半分の容積および半分以下の重量でもって2〜5倍の
発熱量を伝えることができる。
1は水平に置かれている。伝熱体12は横断面積が広い
トンネル181と狭いトンネル191とが交互に積層さ
れており、それぞれのトンネル181,191は開孔1
7によって連通している。広いトンネル181は蒸気の
流動抵抗が小さいため蒸気の放出通路として働き、狭い
トンネル191は蒸気の流動抵抗が大きいため蒸気を保
持する空洞として働く。すなわち、相隣るトンネルの大
きさを変えることにより、広いトンネル181は第7図
の縦方向トンネル18の役割りを、狭いトンネル191
は第6図の横力トンネル19の役割りを持つことができ
る。本実施例では異なる大きさのトンネルを上下方向に
積み重ねたもの〔発明の効果〕 本発明によれば、液体を沸騰させることによつし て発熱を除去、発熱部品の温度を制限値以下に保つこと
ができる。従って発熱部品の信頼性を高める装置におい
て1発熱面に伝熱面積を拡大するために設けた平滑な面
を有する柱状伝熱体の伝熱性能に比べ、伝熱体根元の温
度を同一に保った場合、本発明の伝熱体は平滑面伝熱体
の半分の容積および半分以下の重量でもって2〜5倍の
発熱量を伝えることができる。
第1図は、本発明の基本構成の説明図、第2図は、柱状
伝熱体を構成する要素の斜視図、第3図は、柱状伝熱体
の細部構造を示す斜視図、第4図は、伝熱体を構成する
要素の他の実施例の斜視図、第5図は、伝熱体細部構造
の若の実施例の斜視図、第6〜第9図は、伝熱体の作動
状況を説明する図、第10図は、第を図に示す伝熱面の
沸騰伝熱性能を示すグラフ、第11図は、柱状伝熱体の
沸騰伝熱性能を示すグラフである。第12図は積層数と
熱伝達率の関係を示す図、第13図は、本発明の他の実
施例の斜視図、第14図は第13図の柱状伝熱体の要部
の斜視図である。 2・・・集積回路チップ、12・・・柱状伝熱体、17
・・・開孔、18・・・重置トンネル、19・・・水平
トンネル。 才)凹 矛2 闇 第4圀 才5図 オ乙閃 ;1″凶 19日 、f 70図 〕ムJ (ハ丁) 第11図 J2す(△T) 才1z図 謹漫籾牧j
伝熱体を構成する要素の斜視図、第3図は、柱状伝熱体
の細部構造を示す斜視図、第4図は、伝熱体を構成する
要素の他の実施例の斜視図、第5図は、伝熱体細部構造
の若の実施例の斜視図、第6〜第9図は、伝熱体の作動
状況を説明する図、第10図は、第を図に示す伝熱面の
沸騰伝熱性能を示すグラフ、第11図は、柱状伝熱体の
沸騰伝熱性能を示すグラフである。第12図は積層数と
熱伝達率の関係を示す図、第13図は、本発明の他の実
施例の斜視図、第14図は第13図の柱状伝熱体の要部
の斜視図である。 2・・・集積回路チップ、12・・・柱状伝熱体、17
・・・開孔、18・・・重置トンネル、19・・・水平
トンネル。 才)凹 矛2 闇 第4圀 才5図 オ乙閃 ;1″凶 19日 、f 70図 〕ムJ (ハ丁) 第11図 J2す(△T) 才1z図 謹漫籾牧j
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、発熱体に熱伝導部材を設け、これらを液冷媒中に浸
漬し、該液冷媒の沸騰により熱を除去するものにおいて
、前記熱伝導部材は、熱伝導性の板状部材によって仕切
られて細長く伸びる訃 空洞壁が複数層形成され、相隣る層の空洞群間及び最外
層の空洞群と外部とを連通ずる孔が前記板状部材に設け
られていることを特徴とする熱伝達装置。 2、空洞群が2〜13層形成されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の熱伝達装置。 3、各空洞群は平行に伸びる多数の空洞からなり、各空
洞の断面の一辺の長さが0.2〜2.0園、孔の直径が
0.04〜0.4閣であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の熱伝達装置。 4、各空洞群は、平行に伸びる多数の空洞からなり、相
隣る層の空洞群は互に交叉する方向に伸びていることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の熱伝達装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59083708A JPS60229353A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 熱伝達装置 |
US06/726,715 US4619316A (en) | 1984-04-27 | 1985-04-24 | Heat transfer apparatus |
EP85105149A EP0159722B1 (en) | 1984-04-27 | 1985-04-26 | Heat transfer apparatus |
DE8585105149T DE3571894D1 (en) | 1984-04-27 | 1985-04-26 | Heat transfer apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP59083708A JPS60229353A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 熱伝達装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60229353A true JPS60229353A (ja) | 1985-11-14 |
JPH0234183B2 JPH0234183B2 (ja) | 1990-08-01 |
Family
ID=13809993
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59083708A Granted JPS60229353A (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 熱伝達装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4619316A (ja) |
EP (1) | EP0159722B1 (ja) |
JP (1) | JPS60229353A (ja) |
DE (1) | DE3571894D1 (ja) |
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