JPS6021914Y2 - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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Publication number
JPS6021914Y2
JPS6021914Y2 JP10541979U JP10541979U JPS6021914Y2 JP S6021914 Y2 JPS6021914 Y2 JP S6021914Y2 JP 10541979 U JP10541979 U JP 10541979U JP 10541979 U JP10541979 U JP 10541979U JP S6021914 Y2 JPS6021914 Y2 JP S6021914Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hole
heating chamber
heater
plate
high frequency
Prior art date
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Expired
Application number
JP10541979U
Other languages
English (en)
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JPS5622793U (ja
Inventor
幸男 川田
長治 慶野
勇 田山
徹 望月
Original Assignee
三菱電機株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 三菱電機株式会社 filed Critical 三菱電機株式会社
Priority to JP10541979U priority Critical patent/JPS6021914Y2/ja
Publication of JPS5622793U publication Critical patent/JPS5622793U/ja
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Publication of JPS6021914Y2 publication Critical patent/JPS6021914Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
  • Electric Ovens (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 この考案は高周波加熱装置の改良に関するもので、とく
に加熱室に上下方向に移動自在なヒータを備え、利用範
囲の拡大と熱効率の向上を図ることを目的としたもので
ある。
以下この考案を図示実施例について説明すると、1は加
熱装置本体で、外ケース2によって包囲された加熱箱3
と底板4とを備えている。
5は加熱箱3の内部に形成された加熱室、6はこの加熱
室の前面間ロアを閉塞するドア、8は加熱時間を制御す
るタイマー(図示せず)や後述するヒータ16を操作す
るつまみ9を設けた操作パネル、10は加熱室5内下部
に設けた金属ターンテーブルで、モータ11の回転力が
伝達される駆動盤12の上面に着脱自在に載置されてい
る。
13は加熱室5の左右両側壁面にそれぞれ対向して突設
した支持部で、必要に応じてこの上に金属製の角形皿1
4を載置するようになっている。
15は加熱室5の背面に形成された上下方向に長い2つ
の透孔で、この透孔の横幅は後述するヒータ16の直径
よりも若干大きく設定され、かつ上下方向の長さAは使
用高周波の基本波長の3/4倍に設定されている。
16.17はシーズヒータ等のヒータで、適宜屈曲して
おりかつ両端部に端子部18を有している。
そしてこの一方のヒータ16の両端部が前記透孔15を
介して加熱室5の外部へ突出している。
19は下部ヒータ17の端子部16が挿入されたソケッ
ト、20は加熱室5の側面上部に形戒した小孔、21は
この小孔を介して加熱室5内を本体1外部へ連通させる
排気ダクトで、内部には自然排出される熱気温度を検知
してヒータ16゜17への通電を制御する温度調節器(
図示せず)の温度検知部22を設けている。
23は透孔15の孔縁全長にわたってその外側に取り付
けた金属製仕切板、24は加熱室5の背面にその透孔1
5を覆うよう取り付けた金属制遮へい板で、−仕切板2
3との間に透孔15を中心として直径Bが約1/2波長
、奥行Cが約1/4波長で入口25を有するチョーク室
(第1の電波漏洩阻止室)26を形成している。
・27は遮へい板24の背面中央に設けた長欠で、この
長さDは前記透孔15とほとんど同一寸法に設定されて
る。
25は遮へい板24の背面にこれと所定の間隙Sをおい
て対面した金属製の移動板で、この上下方向の長さは上
下に移動しても長穴27の背面側を十分塞ぐ寸法に設定
されている。
29.30は移動板28の前面及び背面にそれぞれホル
ダー31を介して回転自在に取り付けられた耐熱合成樹
脂製のローラ、32は遮へい板24の両側にあってこれ
と全長にわたり間隙をおいて対面したフェライト入り合
成樹脂等からなる電波吸収体で、金具33により移動板
28に取り付けられている。
34は長穴27と同一の幅を有する貫通孔、35はこの
貫通孔に対応して移動板28に取り付けられた金属製の
円形ケースで、直径Eを約2/1波長、奥行Fを約17
4波長とし、中央にヒータ16の端子部18の嵌合孔3
6を形成したている。
従って移動板28とケース35との間には入口37を有
するチョーク室(第2の電波漏洩阻止室)38が形成さ
れている。
39は加熱箱3の背面に断熱材40を介して取り付けた
金属製の案内板、41は同じく加熱箱3の背面に固定し
た金属製案内板、42はこれら案内板にそれぞれ遮へい
板24と対面するようその縦方向の全長に対応して取り
付けたフェライト入りプラスチック等の電波吸収体、4
3.44は垂直に設けられた金属製案内板で、一方の案
内板43は外ケース2に固定されている。
そして移動板28はこれら案内板39,41,43,4
4にローラ29,30が案内されることにより垂直方向
に上下動するものである。
45はリード線、46は移動板28の背面中央上部に取
り付けた連結板で、前記つまみ9の操作量が上下方向の
駆動力に変換され、かつ拡大されて伝達されるようカム
等の拡大伝達機構(図示せず)に連結されている。
47は高周波導入口、48はマグネトロン(図示せず)
からの高周波を導入する導入管、49は導入口47を密
閉したカバー、50は金属製の反射板で、絶縁物51を
介してヒータ16に取り付けられている。
52はヒータ16の直上をさけて反射板50に形成した
供給口、53は移動板28の上方の外ケース2に形成し
た排気孔、54は移動板28の下方に位置して底板4に
設けた吸気孔、55はカバー、56はスチームを加熱室
5内へ導く噴出口である。
なお、ヒータ16は第1図に示す位置を最上限の位置と
してこれにより下方の範囲で上下方向に移動するもので
ある。
以上の構成において次にその動作を説明すると、全操作
パネル8のつまみ9を第2図の仮想線で示す方向へ移動
させると、この移動量が拡大されて連結板46に伝わり
、移動板28はローラー29.30の滑動により垂直に
下降する。
そしてつまみ9の位置が定まると、移動板28の位置も
所定の所に保持されるから、例えばターンテーブル10
の上に置いた食品をこれと近い位置から強火ですばやく
均一に焼き上げることができる。
またオーブン調理を行なった場合は温度検知部22の作
動により加熱室5内の雰囲気温度が所望の設定温度で保
たれる。
さらにこのままの状態で導入口47から高周波を導入す
れば、その食品はその内部から高速度で加熱されるもの
である。
ここでこのような高周波加熱中、透孔15から漏洩しよ
うとする高周波は、まず透孔15から出たところでチョ
ーク室26内へ導かれ、ここで消滅するとともに、もし
ここでも消滅しない高周波は長穴27から出てチョーク
室38で消滅させられるか、貫隙8を通って外部へ出よ
うとする時、電波吸収体32により吸収され、さらに万
一ここでも微少量消滅しないものがあれば次の電波吸収
体42で消滅される。
またヒータ16に対するリード線45の接続部をチョー
ク室26.38より外側に設けているので、リード線4
5に対する漏洩高周波の影響はなく、従って接続部に高
周波によるスパークや電源側への雑音混入等は起これな
い。
さらに同様に加熱室5内からのスチーム等も侵入しない
ので、端子部18の絶縁不良や腐食等にも起こらず、長
期にわたり確実な給電状態が得られる。
なお、透孔15の長さAは高周波の基本波長の奇数倍近
くに設定すると高周波の漏洩量が少ないということが実
験から判明した。
以上のようにこの考案によれば、加熱室内に上下方向に
移動自在なヒータを備えているので、ヒータ自体の火力
を変化させなくとも被加熱物に対し強火から弱火まで微
妙に変化させ得るものであり、種々の加熱態様により広
範囲の加熱調理が効率良く行えるものである。
しかもヒータの端部と保持する移動板と加熱室との間に
は高周波の漏洩方向に対して蛇行状の通路を形威し、こ
の通路に沿って電波吸収体を配設しているので移動板と
加熱室との間で透孔から漏洩する高周波を確実に吸収消
滅させることができ、安全にヒータを移動できるという
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例を示す高周波加熱装置の一
部切欠き側面図、第2図はその一部切欠き平面図である
。 図中、1は本体、2は外ケース、5は加熱室、15は透
孔、16,17はヒータ、26はチョーク室、28は移
動板、32.42は電波吸収体である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 壁面に上下方向に長い透孔を設けた加熱室と、この加熱
    室に設けられかつ端子部を前記透孔から外部へ突出させ
    るとともに上下に移動自在に設けたヒータと、このヒー
    タの突出部を保持し上下方向に移動自在な移動板とを備
    え、この移動板を前記透孔を有する加熱室の壁面と対面
    するよう設けるとともに、この移動板と上下方向壁面と
    の対向面間には前記透孔からの高周波漏出方向に対して
    蛇行状の通路を形成し、この通路に沿って電波吸収体を
    配設してなる高周波加熱装置。
JP10541979U 1979-07-31 1979-07-31 高周波加熱装置 Expired JPS6021914Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10541979U JPS6021914Y2 (ja) 1979-07-31 1979-07-31 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10541979U JPS6021914Y2 (ja) 1979-07-31 1979-07-31 高周波加熱装置

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Publication Number Publication Date
JPS5622793U JPS5622793U (ja) 1981-02-28
JPS6021914Y2 true JPS6021914Y2 (ja) 1985-06-29

Family

ID=29338079

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10541979U Expired JPS6021914Y2 (ja) 1979-07-31 1979-07-31 高周波加熱装置

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JPS63135890U (ja) * 1987-02-26 1988-09-06

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JPS5622793U (ja) 1981-02-28

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