JPS6021505A - 軟磁性材料 - Google Patents
軟磁性材料Info
- Publication number
- JPS6021505A JPS6021505A JP58128713A JP12871383A JPS6021505A JP S6021505 A JPS6021505 A JP S6021505A JP 58128713 A JP58128713 A JP 58128713A JP 12871383 A JP12871383 A JP 12871383A JP S6021505 A JPS6021505 A JP S6021505A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- content
- soft magnetic
- atomic
- magnetic material
- hafnium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/12—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials
- H01F1/14—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity of soft-magnetic materials metals or alloys
- H01F1/147—Alloys characterised by their composition
- H01F1/153—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals
- H01F1/15316—Amorphous metallic alloys, e.g. glassy metals based on Co
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高透磁率の軟磁性材料に係り、特にアモルフ
ァス台金からなる軟磁性材料に関する。
ァス台金からなる軟磁性材料に関する。
従来より転磁(’I:+4料どして諸種の材質のものが
−1−1”J 研究、提案され1、名種の特性に有する軟磁性材料が得
られている。例えば鉄−ニッケル合金からなる二元系パ
ーマロイやこれに1例え、ばクロム、モリブデン、銅な
どの第3元素を添加した多元系パーマロイなどがあるが
、パーマロイでは一般に透磁率なI5びに飽和磁束密度
を十分に高くすることは難しかった。
−1−1”J 研究、提案され1、名種の特性に有する軟磁性材料が得
られている。例えば鉄−ニッケル合金からなる二元系パ
ーマロイやこれに1例え、ばクロム、モリブデン、銅な
どの第3元素を添加した多元系パーマロイなどがあるが
、パーマロイでは一般に透磁率なI5びに飽和磁束密度
を十分に高くすることは難しかった。
本発明にらは、スパッタリングなどによって得られるア
モルファス合金薄膜について諸種研究した結果、コバル
]・を主成分とし、それにハフニウムとタングステンを
添加したC o −Hf −Wの3成分系のアモルファ
ス合金からなり、前記ハフニウムの含有率がIM子%以
−L−rかっ5原子%未満。
モルファス合金薄膜について諸種研究した結果、コバル
]・を主成分とし、それにハフニウムとタングステンを
添加したC o −Hf −Wの3成分系のアモルファ
ス合金からなり、前記ハフニウムの含有率がIM子%以
−L−rかっ5原子%未満。
好ましくはハフニウムの含有率が1.5〜3M子%。
前記タングステンのさ有率が5〜12原子%、好ましく
はタングステンの含有率が6〜8原子%に規制されたも
のが、軟磁性材料として優れた特性を有していることを
見出した。
はタングステンの含有率が6〜8原子%に規制されたも
のが、軟磁性材料として優れた特性を有していることを
見出した。
基板に結晶化ガラスを用い、コバルミ−ディスク(直径
101.6+ni、厚さ5mm)上にハフニウムのべし
ットとタングステンのペレット(いずれのペレッ1−も
縦10mm、横10mm、厚さ1 mm)を中心より放
射状に交互に配置し、ターゲラ1〜上のペレットの数を
調整することにより合金組成が変えられるようにする。
101.6+ni、厚さ5mm)上にハフニウムのべし
ットとタングステンのペレット(いずれのペレッ1−も
縦10mm、横10mm、厚さ1 mm)を中心より放
射状に交互に配置し、ターゲラ1〜上のペレットの数を
調整することにより合金組成が変えられるようにする。
そして真空度がlXl0”I”or「以下の高真空にし
、アルゴンガスの雰囲気中においで、高周波電力2.0
W/cm2でスパッタリングを行ない、基板」二にコバ
ルトを主成分とするC o −Hf Wの3成分系アモ
ルファス合金薄膜を作成する。このようにして作成され
た各種組成の合金材料が後述の各特性試験に使用される
。
、アルゴンガスの雰囲気中においで、高周波電力2.0
W/cm2でスパッタリングを行ない、基板」二にコバ
ルトを主成分とするC o −Hf Wの3成分系アモ
ルファス合金薄膜を作成する。このようにして作成され
た各種組成の合金材料が後述の各特性試験に使用される
。
第1図は、後記の合金組成表において合金中のW含有率
Yが常に7.0原子%になるようにして、Hf含有率X
を種々変えた場合の磁気特性図である。
Yが常に7.0原子%になるようにして、Hf含有率X
を種々変えた場合の磁気特性図である。
なお図中において一曲線Bgは飽和磁束密度1曲′MA
7+ eは周波数1 hi Fl 7−における困髪軸
方向の透磁率9曲線1(c f、を困難軸方向の保磁力
である。この図から明らかなように、Hf含有率がOB
1子%のG o −W 2成分系合金は、Ssは高いが
、)f cが高過ぎ、μa h<低い。二九にHfを少
量添加するとl−(cが極端に下がり、Heは逆に高く
なる。なお、HIの含有率がある程度以」二になると、
Heは低くなる。一方、138は極端ではないが11f
の含有率の増大とともに低下する傾向にある。
7+ eは周波数1 hi Fl 7−における困髪軸
方向の透磁率9曲線1(c f、を困難軸方向の保磁力
である。この図から明らかなように、Hf含有率がOB
1子%のG o −W 2成分系合金は、Ssは高いが
、)f cが高過ぎ、μa h<低い。二九にHfを少
量添加するとl−(cが極端に下がり、Heは逆に高く
なる。なお、HIの含有率がある程度以」二になると、
Heは低くなる。一方、138は極端ではないが11f
の含有率の増大とともに低下する傾向にある。
このような特性傾向のなかで、Bsを余り低下すること
なく、Hcを下げ、高μeにするためには、Hfの含有
率X&1原子原子上以上つ5〃ス子%未満の範囲、好ま
しくは1.5〜3原子%の範囲に規制する必要がある。
なく、Hcを下げ、高μeにするためには、Hfの含有
率X&1原子原子上以上つ5〃ス子%未満の範囲、好ま
しくは1.5〜3原子%の範囲に規制する必要がある。
このことはW含有率Yを若干変化させても同様である。
第2図は、前記合金組成表において合金中のHf含有率
XがJ:tに2.2原子%になるようにして、W含「f
串Yを種々変λ、た場合の磁気特性図である。
XがJ:tに2.2原子%になるようにして、W含「f
串Yを種々変λ、た場合の磁気特性図である。
3−
この図から明らかなように、W含有率が0原子%のCo
−Hf2成分系合金も前述と同様に、BSは高いが、H
cが高過ぎ、Heが低い。これにVll &少量添加す
ることによりHeが極端に下がり、Heが逆に高くなる
。なお、Wの含有率がある程度以上になると、Heは低
くなる。一方、Bsは極端ではないがWの含有率の増大
とともに低下する傾向がある。
−Hf2成分系合金も前述と同様に、BSは高いが、H
cが高過ぎ、Heが低い。これにVll &少量添加す
ることによりHeが極端に下がり、Heが逆に高くなる
。なお、Wの含有率がある程度以上になると、Heは低
くなる。一方、Bsは極端ではないがWの含有率の増大
とともに低下する傾向がある。
このような特性傾向のなかで、Bsを余り低下すること
なく、Hck下げ、高μ8にするためには、Wの含有率
Yを5〜12原子%、好ましくは4〜8原子%の範囲に
規制する必要がある。このことはHf含有率Xを若干変
化させても同様である。
なく、Hck下げ、高μ8にするためには、Wの含有率
Yを5〜12原子%、好ましくは4〜8原子%の範囲に
規制する必要がある。このことはHf含有率Xを若干変
化させても同様である。
以上のようなことから、coを主成分とするCo−Hf
−Wの3成分系アモルファス合金において、Hfの含有
率を1原子%以上でかつ5原子%未満、Wの含有率を5
〜12原子%にすることにより、飽和磁束密度を余り低
下させることなく。
−Wの3成分系アモルファス合金において、Hfの含有
率を1原子%以上でかつ5原子%未満、Wの含有率を5
〜12原子%にすることにより、飽和磁束密度を余り低
下させることなく。
低い保磁力と高透磁率を有する軟磁性材料を提供4−
することができる。
第1図は本発明に係るCo−L(f−W系アモルファス
合金中の1−+ f含有率と各種磁気特性との関係を示
す特PI図、第2図は前記合金中のW含有率と各種磁気
特性どの関係を示す特性図である。 第1図 第2図 ) j 1il11 111111’ 白 11) “ cDミニ 電 +++ + +t:il 。! ! j : ! ! 1j : + l 1−I
llHf含有率(at%) ・■」」」汁汁上上七トLL口 0 5 10 W含消キ(37%)
合金中の1−+ f含有率と各種磁気特性との関係を示
す特PI図、第2図は前記合金中のW含有率と各種磁気
特性どの関係を示す特性図である。 第1図 第2図 ) j 1il11 111111’ 白 11) “ cDミニ 電 +++ + +t:il 。! ! j : ! ! 1j : + l 1−I
llHf含有率(at%) ・■」」」汁汁上上七トLL口 0 5 10 W含消キ(37%)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)コバルトを主成分どし、(れにハフニウムとタン
グステンを添加した3成分系アモルファス合金からなり
、前記ハフニウムの含有率が1原子%以上でか−)5原
子%未満、タングステンの含有率が5〜I2原子ヅ1で
あることを特徴とする軟磁性材料。 (2、特許請求の範囲#’g(1)項記載において、前
記ハフニウムの含有率が1.5〜3原子%の範囲に規制
されていることを特徴とする軟磁性材料。 (3)特許請求の範囲第(1)項記載において、前記タ
ングステンの含有率6〜8原子%の範囲に規制されてい
ることに特徴とする軟磁性材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58128713A JPS6021505A (ja) | 1983-07-16 | 1983-07-16 | 軟磁性材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58128713A JPS6021505A (ja) | 1983-07-16 | 1983-07-16 | 軟磁性材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6021505A true JPS6021505A (ja) | 1985-02-02 |
Family
ID=14991586
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58128713A Pending JPS6021505A (ja) | 1983-07-16 | 1983-07-16 | 軟磁性材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6021505A (ja) |
-
1983
- 1983-07-16 JP JP58128713A patent/JPS6021505A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6021504A (ja) | 軟磁性材料 | |
JPS6021505A (ja) | 軟磁性材料 | |
JPS6021351A (ja) | 軟磁性材料 | |
US3723106A (en) | Magnetic alloy | |
JPH0653039A (ja) | 耐食性磁性膜およびこれを用いた磁気ヘッド | |
JPS60101709A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP3235127B2 (ja) | 軟磁性薄膜 | |
JPS58189349A (ja) | 磁気記録媒体用Co基合金 | |
JPS6367326B2 (ja) | ||
JPS58189351A (ja) | 磁気記録媒体用Co基合金 | |
JP2771664B2 (ja) | 軟磁性合金膜 | |
JPH04139707A (ja) | 高飽和磁束密度軟磁性薄膜 | |
JPS6021507A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JPS5988801A (ja) | 軟磁性材料 | |
JPH0322647B2 (ja) | ||
JPS58189350A (ja) | 磁気記録媒体用Co基合金 | |
JPS6021356A (ja) | 高飽和磁化高透磁率軟磁性合金 | |
JPS59227108A (ja) | 磁気記録用媒体 | |
JPH0130219B2 (ja) | ||
JPH0322648B2 (ja) | ||
JPS6056413B2 (ja) | 磁気記録媒体用Co基合金 | |
JPS59227107A (ja) | 磁気記録用媒体 | |
JPH0323970B2 (ja) | ||
JPH0323971B2 (ja) | ||
JPS5996241A (ja) | 軟磁性材料 |